納米級氧化銦錫粉體和高密度ITO靶材的制備
氧化銦錫(indium-tin-oxide)簡稱ITO,ITO靶材是一種功能陶瓷材料,主要用于制造ITO透明導(dǎo)電膜玻璃。以金屬銦、錫為原料采用共沉淀法制備出納米級ITO復(fù)合粉體。粉體造粒成型后分別采用加壓和常壓燒結(jié)法制備出相對理論密度大于99.5%、氧化銦單一相的ITO靶材。 粉體純度大于99.99%、顆粒分散性好,粒徑10nm—80nm之間可控,BET比表面積30~60m2/g ,In2O3:90.0±0.5%,SnO2: 10.0±0.5%;ITO靶材相對理論密度99.5%。 威海市藍狐特種材料有限公司已采用該技術(shù)建設(shè)年產(chǎn)20噸納米級氧化銦錫復(fù)合粉體生產(chǎn)線,采用該粉體燒制的ITO靶材相對理論密度達到99%以上。國內(nèi)相對理論密度大于99%的ITO靶材主采用進口產(chǎn)品。 金屬銦、錫是我國的優(yōu)勢資源,生產(chǎn)設(shè)備都是定型通用設(shè)備,年產(chǎn)20噸納米級氧化銦錫粉體和高密度ITO靶材的生產(chǎn)廠需要人員50名。納米級氧化銦錫粉體制備已建設(shè)年產(chǎn)20噸生產(chǎn)線。高密度ITO靶材的制備已完成實驗室小試。
北京化工大學(xué)
2021-02-01