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北京化工大學
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納米級氧化銦錫粉體和高密度ITO靶材的制備

2021-02-01 09:14:57
云上高博會 http://www.gxf2npi.xyz
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所屬領域:
新材料及其應用
項目成果/簡介:

氧化銦錫(indium-tin-oxide)簡稱ITO,ITO靶材是一種功能陶瓷材料,主要用于制造ITO透明導電膜玻璃。以金屬銦、錫為原料采用共沉淀法制備出納米級ITO復合粉體。粉體造粒成型后分別采用加壓和常壓燒結法制備出相對理論密度大于99.5%、氧化銦單一相的ITO靶材。 粉體純度大于99.99%、顆粒分散性好,粒徑10nm—80nm之間可控,BET比表面積30~60m2/g ,In2O3:90.0±0.5%,SnO2: 10.0±0.5%;ITO靶材相對理論密度99.5%。 威海市藍狐特種材料有限公司已采用該技術建設年產20噸納米級氧化銦錫復合粉體生產線,采用該粉體燒制的ITO靶材相對理論密度達到99%以上。國內相對理論密度大于99%的ITO靶材主采用進口產品。 金屬銦、錫是我國的優勢資源,生產設備都是定型通用設備,年產20噸納米級氧化銦錫粉體和高密度ITO靶材的生產廠需要人員50名。納米級氧化銦錫粉體制備已建設年產20噸生產線。高密度ITO靶材的制備已完成實驗室小試。

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