高頻輝光放電等離子體化學氣相沉積(PECVD)裝置
PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)—等離子體化學氣相沉積,在化學氣相沉積領域具有很好的前景。利用等離子體中大量高能量的電子,提供化學氣相沉積過程所需的激活能,相對于其它CVD方法具有顯著降低CVD薄膜沉積的溫度等優(yōu)點。包括輝光放電等離子體發(fā)生電源、氣體質(zhì)量流量計、真空計、分子泵等多個組成單元。可以在不同氣壓和氣體環(huán)境下進行PECVD。 技術特點: 1)自主研發(fā)的等離子體發(fā)生電源可輸出較大范圍內(nèi)幅值、頻率可調(diào)的放電電壓信號;2)可實現(xiàn)100~105 Pa不同氣壓以及不同氣體環(huán)境,且通過氣體流量精確控制實現(xiàn)在任一氣壓值穩(wěn)定氣壓狀態(tài)。 3)專用設計的反映腔體結構和水冷放電電極結構,可長時間、穩(wěn)定地生成PECVD用輝光放電等離子體。腔體內(nèi)部包含多種可調(diào)性測量結構,可以對生成的等離子體和PECVD過程進行多種形式的監(jiān)測。 4)該裝置根據(jù)產(chǎn)品化標準進行了多重安全性和人機互動性專門設計,符合產(chǎn)品要求。
北京交通大學
2021-04-13