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一種干涉型梳狀濾波器，屬于光電子器件，適用于光纖通信和 光纖傳感領域，用于解決現有梳狀濾波器所存在的問題。本發明包括 第一耦合器、第一偏振控制器、第一高雙折射光纖、第二耦合器、第 二偏振控制器、第二高雙折射光纖，以及第一環形器或光隔離器；第 一耦合器、第一偏振控制器、第一高雙折射光纖連接構成第一個 Saganc 干涉儀；第二耦合器、第二偏振控制器、第二高雙折射光纖連接構成 第二個 Saganc 干涉儀，兩個 Sagn

通過腐蝕擴芯光纖實現的干涉儀, 特別適用于光纖傳感領域。解決了目前基于光纖結構的干涉儀所面臨的尺寸大、敏感性差、制作成本高的問題。該干涉儀包括在光纖（1）上制作的擴芯區（2）和腐蝕區（3）。制作方法：將光纖（1）去除涂覆，在對光纖（1）加熱的同時將光纖（1）兩端向中間推，制作擴芯區（2），然后以HF溶液沿徑向腐蝕擴芯區（2）中部，形成腐蝕區（3）。加熱的方法包括：電火花放電、CO2激光器聚焦或火焰加熱。光纖（1）直徑為D1，擴芯區（2）的最大直徑為D2，長度為2L1+L2，腐蝕區（3）的長度為L2，深度為H。激光信號在傳播的過程中被分成兩路或多路，在干涉儀輸出端干涉出干涉條紋。

本實用新型公開了一種自適應光學聚焦干涉補償系統。光束準直擴束模塊布置在激光器后，激光器發射出光束平行擴束并空間濾波后入射到數字微鏡器件，旁側出射端前方置有相位補償模塊，正側出射端置有分束器和縮束模塊，相位補償模塊位于分束器旁側，旁側反射光束經相位補償模塊后再反射到分束器中，正側反射光束直接反射到分束器中；光束經二向色鏡反射后經掃描模塊進入顯微物鏡聚焦，實驗樣品位于顯微物鏡焦平面；實驗樣品內激發出的熒光經過顯微物鏡與掃描模塊后透過二向色鏡被光強探測模塊接收。本實用新型從光學干涉原理出發，能夠快速改善散射介質內部聚焦光斑的質量，為光遺傳學與活體深層高分辨率光學顯微成像技術提供了新思路。

      WMG-3型壓電陶瓷干涉測量實驗儀通過系統軟件控制，測量壓電陶瓷的壓電常數及其振動的頻率響應特性。 主要技術特點： 光源：氦氖激光器，波長632.8nm，功率≥1.5mW，單模TEM00，全保護安全高壓插頭，腔長250mm。 壓電陶瓷：管狀，在內外壁上分別鍍有電極，以施加電壓。 結構：采用全新的平臺式邁克爾干涉儀設計，便于在光路中加入被測物質；開放式的空間，使等厚干涉、等傾干涉及各種條紋的變動易于調整，方便精密測量。 基座：采用鑄鐵基座作為實驗平臺，保證了實驗過程的穩定性。 軟件：具有數據采集、數據處理、數據保存等功能。  

本發明公開了一種用于非球面測量的波長掃描干涉儀及方法，包括一套可調諧激光器作為光源，一個泰曼—格林干涉儀用于產生干涉條紋，一個平移臺用于沿光軸掃描光程差，一個用于將干涉數據轉為數字信號并傳入計算機的圖像卡，以及一個用于同步CCD相機和平移臺動作的數據卡。與傳統非球面測量方法不同的是，本干涉儀適用范圍廣，可以測量大非球面度的表面或波前，且無需補償零位鏡。另外，該方法無需復雜且通常較為昂貴的多維運動平臺。

基于啞鈴形光纖結構的馬赫增德干涉儀, 適用于光纖激光器、光纖傳感、光纖通信領域。解決了基于光纖結構的馬赫增德干涉儀尺寸大、敏感性差、制作成本高的問題。該干涉儀包括在光纖(1)上制作的第一、第二擴芯區(21、23)，拉錐區(22)。制作方法：將光纖(1)去除涂覆，在對光纖(1)加熱的同時將光纖(1)兩端向中間推，分別制作位置連續的第一、第二擴芯區(21、23)，然后在第一、第二擴芯區(21、23)之間將光纖(1)拉細制作拉錐區(22)。加熱的方法包括：電火花放電、CO2激光器聚焦或火焰加熱。激光在第一擴芯區21分成兩路，一路耦合到包層中傳播，另一路繼續在纖芯中傳播，在第二擴芯區23處，包層中的光信號和纖芯中的光信號相干產生干涉條紋。

研發階段/n本發明公開了一種基于干涉條紋形狀的二維小角度測量裝置，屬于精密測量技術領域。該裝置包括激光器、分光鏡、目標反射鏡、參考反射鏡和四象限接收器，目標反射鏡固定在被測物體上。激光調制器對激光器發出的光束進行調制，被調制的光束經分光鏡后分為兩束，這兩束光分別經目標反射鏡和參考反射鏡反射后再返回分光鏡，會聚產生動態干涉條紋，當被測物體繞ｚ軸有角度變化時，動態干涉條紋的寬度將發生變化，當被測物體繞ｘ軸有角度變化時，動態干涉條紋的寬度和方向同時改變。動態干涉條紋用四象限光電接收器接收后轉為電信號，該信

簡介：本發明屬于光譜測量技術領域，公開了一種菲涅爾雙面鏡干涉成像光譜儀。它包括光學結構、二維探測器和數據采集系統，所述的光學結構包括前置望遠鏡、入射狹縫和菲涅爾雙面鏡；所述菲涅爾雙面鏡包括平面反射鏡M1和平面反射鏡M2。本發明的成像光譜儀，在結構上，從入射狹縫到二維探測器之間僅有一個光學元件（菲涅爾雙面鏡），這使得儀器結構大為簡化；另外，由于本發明在光路結構中采用菲涅爾雙面鏡，菲涅爾雙面鏡表面反射率高，入射光能損失低。

本發明公開了一種可溯源白光干涉原子力探針自動定位工件方 法，該方法包括如下步驟：在納米級位移平臺運動之前記錄下激光干 涉位移計量系統的初始位移；接著其在垂直方向上快速產生一個適量 的位移，在位移發生后通過零級條紋的移動量是否在閾值范圍內來判 斷原子力探針是否定位到工件，而如果納米級垂直位移平臺在到達極 限的位移運動時還未定位到工件，記錄下其最終位置，并將納米級垂 直位移平臺復位，重復上述步驟，直至定位到工件。按照本發明設定 的自動定位的方法，不受原子力探針與工件之間的距離限制，同時在定位過程中對位移進行計量，可實現可溯源，而采用零級條紋的移動 量來判斷探針是否定位到工件具有定位快速和高精度的顯著效果。 

1 成果簡介該技術可用于制造高技術產品——各種不同波長激光的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀； 該技術屬國際首創，具有完全的自主知識產權。這種技術突破了制作一種波長的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀需要用相應波長激光進行調整的限制，它既可以用于在已有相應激光作為檢測工具的情況下制作共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀，也可以在沒有相應激光作為檢測工具的情況下，甚至在國內外尚沒有研制出相應（波長）激光器的情況下，制作所需任何波長的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀；該項技術包括共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀全套部件的制作技術和檢測技術，還包括最新國際首創的光纖耦合輸入共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀制造技術；采用該技術可以以極高的性價比和極高的利潤率制作共焦球面干涉儀，具有國內外最高的性能價格比。 該技術已經成熟，制作工藝已經簡化和標準化，并已用于批量生產共焦球面干涉儀。該技術生產的是高技術產品，但由于技術與工藝成熟，所以對操作人員的要求并不高，細心的操作工即可勝任。2 應用說明用該技術制造的共焦球面法布里珀羅干涉儀有重要而廣泛的應用，舉例如下：激光器模譜分析與測量 適于各種激光器的測量，包括： 適用于固體、氣體、液體、半導體激光器的測量；適用于連續激光器、重復頻率脈沖激光器的測量；適用于各種波長（可見光、紅外光、紫外光等）激光的測量。激光橫模測量：檢測激光器工作于基橫模，高階橫模，混合模；激光縱模測量：縱模數量、間隔、譜線寬度、增益線線型；激光縱模分裂與模競爭的測量；激光器增益系數的測量。激光器的制作過程監測：監測激光器工作的單頻、雙頻及多頻狀態及雙頻激光功率平衡。多種儀器的制作與工作狀態的檢測：比如激光陀螺、原子時鐘、激光測速儀等，這些儀器都需要工作在一個穩定的頻率上。濾波器、選頻器：從多個頻率的激光束中，選出其中一個頻率的激光。穩頻器：用于使激光器穩定工作在一個所需要的頻率上。多種傳感器：微位移測量（比如壓電陶瓷的微小伸縮靈敏度的測量等），物體表面超聲脈沖的檢測，微振動的檢測，液體折射率和濃度的檢測。3 效益分析對于制作通用波長激光的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀，其售價-成本比高 10:1；對不常用波長激光的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀，其售價-成本比可高 50:1。共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀的單價較高，為 5000-25000 元；生產效率高， 4-5 臺/人日；生產設備投資很低。僅需光學平臺、通用激光器和示波器；生產的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀，是國家教委規定的大學實驗室必備基本儀器；是激光器、多種傳感器等儀器的制作與使用過程的監測等應用的首選儀器；在教學、科研、生產與應用領域中均有重要而廣泛的應用，市場大；由于高性價比和高效益，使用該技術生產的共焦球面法布里-珀羅掃描干涉儀已經占領國內市場，國際市場待開發，可望產生很好的經濟效益。