維意真空多靶高真空磁控濺射鍍膜機支持定制
MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機
真空腔室:直徑450?H400mm,1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質,氬弧焊接,前開門結構;
真空系統:機械泵+分子泵(進口和國產可選);
極限真空:優于5?10-5Pa(經烘烤除氣后);
真空抽速:大氣~8?10-4Pa≤30min;
升降基片臺:2~6英寸基片臺,靶基距60~120mm連續在線自動可調,旋轉0~20r/min可調,可加熱至500℃(可選水冷功能),可選配偏壓清洗功能;
磁控靶:直徑3英寸2~4只(可升級成直徑4英寸靶2~3只),兼容直流和射頻,可以濺射磁性材料的靶材;
濺射電源:直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選;
質量流量計:2~3路工藝氣體,可根據工藝要求增加;
膜厚監控儀:可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀;
控制方式:PLC+觸摸屏控制系統,具備漏氣自檢與提示、通訊故障,實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25