半導體設備超潔凈流控系統及其受制約流控零部件
浙江大學聚焦超潔凈流控系統基礎研究、技術攻關和產品研發,攻克了影響光刻分辨率、良品率與產率的1mk級溫度測控、5ppt級金屬離子測控、20μm級氣泡測控、50nm級殘留液膜測控等關鍵核心技術
一、項目分類
關鍵核心技術突破
二、技術分析
如何通過超潔凈流控技術降低流控污染,減少曝光缺陷,提升曝光良率,是國產高端半導體制造裝備研制面臨的重大挑戰,直接關乎整機產品的產線應用性能與市場競爭力。此外,作為各類半導體制造裝備的共性核心零部件,超潔凈流控部件市場被美國、日本等國壟斷,使我國半導體制造裝備產業面臨核心零部件“卡脖子”風險。浙江大學流體動力與機電系統國家重點實驗室啟爾團隊所承擔的高端半導體制造裝備核心分系統之一的超潔凈流控系統,自2004年以來在國家863計劃和國家02專項支持,聚焦超潔凈流控系統基礎研究、技術攻關和產品研發,攻克了影響光刻分辨率、良品率與產率的1mk級溫度測控、5ppt級金屬離子測控、20μm級氣泡測控、50nm級殘留液膜測控等關鍵核心技術,完成了超潔凈流控系統九大組件的研制和集成測試,為半導體制造設備掃描速度與產能的提高提供基礎理論與方法依據,同時自主研發的半導體機臺核心超潔凈流控零部件實現了產品化,突破了國外技術的封鎖,為我國半導體制造的發展與自主創新提供了基礎支撐。
浙江大學
2022-07-22