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真空井點降水方法，可應用于地下水位較高的施工環(huán)境中，已成為土方工程、軟土 加固、地基與基礎工程施工中的一項重要技術措施。這種方法通過將基土水分疏干，促 使土體固結，提高地基強度，進而減少了基底土隆起、土坡土體側向位移與沉降，可消 除流砂、穩(wěn)定邊坡。真空降水基本原理是在基坑開挖前，預先在基坑四周埋設一定數(shù)量 的濾水管（井），在基坑開挖前和開挖過程中，利用真空原理，不斷抽取地下水，使井 點周圍的地下水位下降，形成降水漏斗，從而使大面積原有地下水位降低，并且在工作 過程當中要保持每天 24 小時連續(xù)抽水，使地下水位降低并使降落曲線保持穩(wěn)定。因此， 真空降水技術以其成本較低、設備簡單、容易進行施工操作等優(yōu)點，得到了廣泛應用。 但是降水效率仍然是現(xiàn)實設計施工中急需解決的問題。對于透水較弱的地基來說，其降 水速率很慢，往往會影響到其加固效果和工期。根據(jù)上海地區(qū)過去進行的野外抽水試驗 總結資料，當降低水位深度大于 10m 且土層滲透系數(shù)小于 0.1m/d 時，常見降水方法均 不能達到要求。為此，本專利技術在傳統(tǒng)真空降水技術基礎上，向深層土體注入壓力氣 體，增強驅水壓力梯度，提高降水速率，擴展真空降水技術的適用范圍。 圖 1 示意了注氣在真空降水工程中的應用原理。從裝置上看，該降水新方法是在傳 統(tǒng)的真空降水方法的基礎上，增設一種用于向土體內部注入壓力氣體的裝置，形成一種 新型的注氣式真空降水方法。該處理方法僅僅在原有的真空降水系統(tǒng)基礎上增設了注氣 系統(tǒng)，所以其實施較為方便。其降水系統(tǒng)主要由兩部分組成：注氣系統(tǒng)和傳統(tǒng)的真空降 水系統(tǒng)。真空降水系統(tǒng)主要由真空泵 5、井點管 6、濾頭 7 組成，注氣系統(tǒng)主要由供氣 裝置 1、注氣管 2、注氣嘴 3 和貫入頭 4 組成。注氣嘴（白色段）與貫入頭（灰色段） 均為可拆卸的，注氣管、注氣嘴和貫入頭順次相接，貫入頭利于注氣裝置插入土體。注 氣嘴直徑比兩端的注氣管、貫入頭都小，中間細、兩頭粗，這可避免在注氣裝置貫入土 體過程中土體把注氣嘴的注氣孔堵塞。注氣管插入土體的深度由注氣嘴的位置要求決定。 由于氣體容易往上走，所以埋設中，注氣嘴位置應當?shù)陀诰c管底部，其深度差異一般 取井點管間距的 0.5～2.0 倍。注氣系統(tǒng)的目的是提高真空降水效率，所以注氣管與井 點管在平面布置上盡可能錯開布置，注氣管安裝在井點管之間的中心位置。 圖 1(a)示意了注氣式真空降水系統(tǒng)的操作原理。當壓力氣體注入到土體內部時，氣 體會在土中向四周擴散，占據(jù)土中孔隙，將土中的水推向遠處。圖中深灰色部分表示土 層中含水較多的區(qū)域。由于井點管底部附近有著了較大的負壓，所以注入土體中的氣體 更容易往井點管方向擴散，同時迫使該區(qū)段的土中水快速向井點管移動，實現(xiàn)快速排水。 如果適當增加注氣壓力，那么土體還可能產(chǎn)生劈裂，出現(xiàn)放射狀的微細裂縫，這將加大 土體的透水性，加速土中水向井點管移動，從而提高了排水效率。同時，由于源源不斷 地向土體內部注入壓力氣體，所以勢必在注氣嘴附近形成較大區(qū)域的非飽和土區(qū)域，這 將十分有利于地基強度的增加。

該成果 2016 年獲教育部高等學校科學研究優(yōu)秀成果獎二等獎。中國月-季節(jié)尺度降水預測是短期氣候預測中的一個難點和重點，我們提出了一種基于動力-統(tǒng)計相結合的客觀定量化的氣候預測新理論，充分吸收了動力學和統(tǒng)計學方法的優(yōu)點，為提高月-季節(jié)降水預測準確率提供了一種新思路。

發(fā)現(xiàn)由人為活動產(chǎn)生的氣溶膠可顯著抑制華南四月中尺度對流系統(tǒng)的發(fā)生頻次，進而顯著減少降水，并闡釋了其物理機制。此發(fā)現(xiàn)解釋了近40年來華南四月降水減少的原因。 研究團隊首先分

EV-400高真空金屬有機蒸發(fā)鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護保養(yǎng)； 真空系統(tǒng)：國產(chǎn)分子泵作為主抽泵，真空極限優(yōu)于5.0?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優(yōu)于3.0?10-6Pa（經(jīng)烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發(fā)源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發(fā)源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩(wěn)定； 蒸發(fā)電源：真空專業(yè)蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續(xù)可調； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空。

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵（進口和國產(chǎn)可選）； 極限真空：優(yōu)于5?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續(xù)在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據(jù)工藝要求增加； 膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn)一鍵抽停真空。

本發(fā)明公開了一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡的反演大氣可降水量的MODIS模型改進方法，包括以下步驟：S1：利用MODIS三通道比值法反演大氣可降水量PWV，記為PWVMODIS；S2：利用BP神經(jīng)網(wǎng)絡建立測站處的緯度φ、測站處的高程h、年積日doy、PWVMODIS與測站GPS/MODIS反演的PWV殘差RES之間的非線性關系；S3：對BP神經(jīng)網(wǎng)絡模型進行訓練；S4：將φ、h、doy以及PWVMODIS作為輸入?yún)?shù)代入BP神經(jīng)網(wǎng)絡模型，并計算出GPS測站處PWV殘差RESBP；S5：利用RESBP補償PWVMODIS，獲得大氣可降水量PWV＝PWVMODIS+RESBP。本發(fā)明有效提高了建模精度。

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產(chǎn)品詳細介紹適用于在真空條件下對物品進行真空干燥、烘焙、熔臘、滅菌、固化、熱處理等，廣泛應用于工礦企業(yè)、科研院所、大專院校、醫(yī)藥衛(wèi)生等單位。按工作溫度分普通型和高溫型，控溫方式有自動恒溫型和精密程序控溫型，工作室尺寸有多種規(guī)格，內膽有冷鋼板和不銹鋼兩款。主要技術參數(shù)1、最高溫度：250℃；2、電源及功率：AC220V/500KW；3、測溫：K分度號熱電偶+數(shù)顯智能控溫儀；4、控溫：數(shù)顯自動恒溫；控溫精度：±2℃；5、真空度：-0.1MPa；6、內空尺寸：∮350×400mm；7、冷鋼板內膽。

本發(fā)明公開了一種利用真空法制備益生菌鮮切水果的方法，包括以下步驟：1)、將活化后的益生菌在培養(yǎng)基上進行培養(yǎng)，直至所得的益生菌培養(yǎng)液中的活菌數(shù)≥108CFU/ml；2)、將洗凈去皮后的水果進行切割，得水果切塊；3)、先調節(jié)步驟1)所得的益生菌培養(yǎng)液的糖度與步驟2)中的水果糖度相等，然后加入抗氧化劑，得滲透液；4)、將步驟2)所得的水果切塊放入步驟3)所得的滲透液中，進行真空處理；5)、取出步驟4)真空處理后所得的水果切塊，瀝干后，用氮氣充氣包裝，并在2～8℃的低溫下保存。該方法不但能延長益生菌的壽命，且能使處理后的益生果鮮切水果可保持6-10天的貨架期。

該產(chǎn)品由我揚州大學以張瑞宏教授為首的團隊經(jīng)過十年的努力，攻克了許多技術難關，已完成了中試。 2005 年最終實現(xiàn)關鍵工藝上有所突破，特別是側邊封頭工藝及一次性封接法在世界上處于領先地位，可大大簡化生產(chǎn)工藝，大大降低生產(chǎn)成本。目前，根據(jù)揚州大學的生產(chǎn)工藝生產(chǎn)的真空平板玻璃可將其成本控制在 100 元/m2 左右。