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三氟甲基化合物具有良好的化學及生物活性，被廣泛應用于醫藥、化工、染料以及功能材料等領域。在烯烴官能團化的工作基礎上，劉心元、譚斌課題組開展了CF3自由基引發非活性烯烴和遠程的酰胺α-C-H鍵的不對稱官能化的研究工作。課題組利用氰化亞銅和手性磷酸組成的協同催化體系構建了含有CF3的手性縮醛胺化合物。在溫和的反應條件下高效地實現了專一化學選擇性、高區域及高立體選擇性的非活性烯烴和遠程酰胺的α-C-H鍵的不對稱官能團化。

研究人員受主族化學家J. C. Martin半個世紀以前發展的四取代硫負離子啟發，以叔丁醇鉀為堿，乙二醇二甲醚為溶劑，促進了亞砜的C-S鍵活化，實現了無過渡金屬參與的芳基烷基亞砜和醇的交叉偶聯反應，以較高收率和優良的化學選擇性得到了一系列結構豐富的芳基烷基醚

面向AI等應用發展趨勢推出的新一代高性能、高密度插卡式交換機 產品特性： 固化4個擴展插槽，每槽位最大可支持32個100G端口，更好滿足數據中心網絡演進需求 支持2+2電源與5+1風扇熱插拔，支持GR完美重啟，實現硬件與鏈路可靠性雙重保護 三層路由功能輕松適配多重業務，數據傳輸高效有保障 多重管理方式選擇 網絡維護簡單有效 構建下一代數據中心網絡 AI/機器學習等應用的高速發展，驅動下一代數據中心網絡向100G/400G演進。下一代數據中心網絡，要求設備在單位空間內，具備更高的性能、更大的帶寬，RG-S6920-4C在4U高度空間內，最大可提供128個100G端口，或64個100G端口+16個400G端口，更好的滿足下一代數據中心網絡的演進需求。 構建高性能、低延時數據中心網絡 RG-S6920-4C交換機配合RG-S6510系列交換機，基于PFC/ECN等網絡流控技術，以及MMU調優技術，可構建端到端、無損、低時延轉發的RDMA（Remote Direct Memory Access，遠程直接內存訪問）基礎承載網絡，滿足AI/機器學習、高性能計算、分布式存儲大數據等應用場景的網絡部署要求。 電信級可靠性保護 RG-S6920-4C交換機支持2+2電源冗余，5+1風扇冗余，所有電源模塊以及風扇模塊均可以熱插拔而不影響設備的正常運行。此外整機還支持電源和風扇的故障檢測及告警，可以根據溫度的變化自動調節風扇的轉速，更好的適應數據中心的環境。還具備設備級和鏈路級的多重可靠性保護。采用過流保護、過壓保護和過熱保護技術。 除了設備級可靠性以外，該系列還支持豐富的鏈路可靠性技術，比如支持GR快速重啟、BFD快速轉發檢測等機制。當網絡上承載多業務、大流量的時候，降低異常對網絡業務的影響，提升整網可靠性。 IPv4/IPv6雙棧協議多層交換 RG-S6920-4C交換機，硬件支持IPv4/IPv6雙協議棧多層線速交換，硬件區分和處理IPv4、IPv6協議報文，支持多種Tunnel隧道技術（如手工配置隧道等等），可根據IPv6網絡的需求規劃和網絡現狀，提供靈活的IPv6網絡間通信方案。 支持豐富的IPv4路由協議，包括靜態路由、RIP、OSPF、IS-IS、BGP4等，滿足不同網絡環境中用戶選擇合適的路由協議靈活組建網絡。 支持豐富的IPv6路由協議，包括靜態路由、RIPng、OSPFv3、BGP4+等，不論是在升級現有網絡至IPv6網絡，還是新建IPv6網絡，都可靈活選擇合適的路由協議組建網絡。 完善的管理性 支持豐富的管理接口，例如Console、MGMT口、USB口，支持SNMPv1/v2/v3，支持通用網管平臺。支持CLI命令行， Telnet，集群管理，使設備管理更方便，并且支持SSH2.0、SSL等加密方式，使得管理更加安全。 支持SPAN/RSPAN鏡像和多個鏡像觀察端口，可以將網絡流量輸出分析以采取相應管理維護措施，使原本不可見的網絡業務應用流量變得一目了然，可以為用戶提供多種網絡流量分析報表，幫助用戶及時優化網絡結構，調整資源部署。

D-異抗壞血酸作為維生素 C 的光學異構體，具有抗氧化作用強、氧化速度慢等優點，廣泛應用于食品、醫藥、化工等工業領域。2-酮基-D-葡萄糖酸是 D-異抗壞血酸的前體。經篩選獲得一株以(NH4)2SO4 為唯一氮源的高產 2-酮基-D-葡萄糖酸菌株，在 30L 發酵罐中，發酵時間 42 h；產量達到 265.8 g/L，糖酸轉化142率為 1.04 g/g。在 500 L 發酵罐中，發酵 48 h，產量達到 220 g/L，糖酸轉化率 0.99 g/g。此生產菌株在發酵過程中無副產物生成，所得產品純度高。 

一種 g-C3N4/NiCo2S4 復合材料、制備方法及其應用。具體是將 g-C3N4 和 NiCo2S4 混合得到，該混合可以是固相混合，也可以是液相 混合，本發明得到的 g-C3N4/NiCo2S4 復合材料能極大的增加了提高材 料的穩定性，將復合電極作為超級電容器工作電極材料進行測試，在 大電流密度條件下仍能具有較高的比電容量、較好的倍率性能和循環 穩定性。

簡介：本發明公開了一種鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料在降解有機染料廢水中的應用，屬于光催化材料技術領域。該光催化材料的制備包括如下步驟：將三聚氰胺和KI充分研磨后平鋪于坩堝底部，將SBA?15均勻的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面，然后將坩堝加蓋后置于馬弗爐內進行煅燒，產物經處理后即得所述鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料。該光催化材料比表面積大使得反應活性位點增加，鉀摻雜后可有效抑制光生電子和空穴的復合，表現出更優異的光催化性能。本發明鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料可降解有機染料廢水，在60min能降解80％以上的目標降解物，顯示了優異的光催化活性。