光學(xué)微腔器件
1.在光學(xué)微腔器件的晶體腔加工、PPLN 微腔加工、微腔耦合與封裝、微腔超高 Q 值檢測方面,分別提出了先進(jìn)而完善的實施方案,并申請了相關(guān)發(fā)明專利。現(xiàn)有晶體微腔 Q 值國內(nèi)最高水平 106,國外達(dá)到 109,本項目可優(yōu)于 108,從而達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先,國際先進(jìn)水平。
2.在光學(xué)微腔器件應(yīng)用方面,研發(fā)例如超窄線寬激光器(精密測量、物理量精密傳感)、超窄線寬濾波器(激光技術(shù))等小型化器件的技術(shù)原理和實現(xiàn)方案。與常規(guī)產(chǎn)品相比,體積可縮小至 500 立方厘米以下,精度可提高 2個量級,成本可下降 80%。成果可實現(xiàn)的光學(xué)微腔器件主要指標(biāo):研制出光學(xué)晶體微腔,Q 值優(yōu)于 108,根據(jù)用戶要求研制小型化應(yīng)用模塊。
中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
2023-05-17