一種濕法刻蝕鎳酸鑭薄膜和鐵電薄膜/鎳酸鑭復合薄膜的腐蝕液,由雙氧水、硝酸、氫氟酸和純凈水配制而成,純凈水、雙氧水、硝酸、氫氟酸的體積比為:純凈水∶雙氧水∶硝酸∶氫氟酸=1∶2~3∶0.5~1.0∶0.06~0.12。所述腐蝕液的制備方法,按上述配方在常溫、常壓下將計量好的純凈水與雙氧水混合均勻,然后加入計量好的硝酸并混合均勻,繼后加入計量好的氫氟酸并混合均勻。所述腐蝕液可干凈、徹底地一次性去除SiO2 和/或Pt表面的LNO薄膜或LNO復合薄膜,得到邊緣清晰、側蝕比小的刻蝕圖形。
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