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跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量關(guān)鍵技術(shù)及系統(tǒng)

2023-05-15 09:54:27
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關(guān)鍵詞: 高精度測量
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所屬領(lǐng)域:
高端裝備制造
項(xiàng)目成果/簡介:

本成果創(chuàng)新性發(fā)明了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量技術(shù)及系統(tǒng)。

本項(xiàng)目依托華中科技大學(xué)儀器學(xué)科在表面形貌與結(jié)構(gòu)精密測量領(lǐng)域的傳統(tǒng)特色優(yōu)勢和長期積累的科研基礎(chǔ),在國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)、國家自然科學(xué)基金儀器研制專項(xiàng)、國家863重點(diǎn)項(xiàng)目課題、國家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目等支持下,針對相關(guān)制造領(lǐng)域微米尺度、納米尺度、跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)精密測量問題開展了系列研究。本成果技術(shù)主要包括以下方面:

1)提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理和方法,共光路融合白光顯微干涉與原子力探針傳感,突破跨尺度微納傳感瓶頸,解決大動態(tài)范圍微納結(jié)構(gòu)測量難題,實(shí)現(xiàn)nm-μm-mm跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高效測量;

2)提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度測量的可溯源標(biāo)定和坐標(biāo)統(tǒng)一方法,突破了白光干涉與原子力探針跨尺度微納傳感的坐標(biāo)統(tǒng)一瓶頸和漂移難題,實(shí)現(xiàn)了微納表面結(jié)構(gòu)跨尺度測量的可溯源和穩(wěn)定高精度;

3)提出了白光干涉質(zhì)量評價(jià)模型和三維圖像噪聲區(qū)域辨識與重建方法,及二維掃描工作臺平面度誤差阿貝補(bǔ)償與二維運(yùn)動同步計(jì)量方法,解決噪聲問題與宏微驅(qū)動二維工作臺運(yùn)動誤差對測量精度的影響問題,為跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高精度測量提供支撐。

圖1 微納結(jié)構(gòu)多模式跨尺度測量儀器實(shí)物圖

圖2 白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理示意圖

【技術(shù)優(yōu)勢】

本成果項(xiàng)目研制了具有我國自主知識產(chǎn)權(quán)的白光干涉原子力探針掃描測量儀等系列微納表面結(jié)構(gòu)測量儀器,并通過了國家計(jì)量院組織的儀器性能和軟件的檢定測試,納米尺度原子力垂直測量范圍超出國際商用儀器10倍以上,水平動態(tài)范圍達(dá)國際領(lǐng)先水平。

【技術(shù)指標(biāo)】

本成果項(xiàng)目提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)測量原理和方法,建立跨尺度傳感方法,實(shí)現(xiàn)nm-μm-mm跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)高效測量。同時(shí),發(fā)明的白光干涉原子力探針掃描測量方法與現(xiàn)有商用原子力顯微鏡相比,垂直測量范圍提高10倍,分辨率優(yōu)于0.01nm。

應(yīng)用范圍:

本成果創(chuàng)新研制出的具有自主知識產(chǎn)權(quán)的白光干涉原子力探針掃描測量儀器,可在我國高端光刻裝備制造企業(yè)、高端顯示面板制造企業(yè)、激光全息安全防偽企業(yè)等國家重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)的裝備研發(fā)、工藝優(yōu)化、產(chǎn)品質(zhì)量提升中獲得重要應(yīng)用。

項(xiàng)目階段:

本項(xiàng)目成果目前處于可量產(chǎn)階段。

效益分析:

跨越nm-μm-mm的跨尺度微納表面結(jié)構(gòu)是半導(dǎo)體集成芯片(IC)、新型顯示、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、智能傳感器、微納光學(xué)、光伏新能源、納米仿生、軍事隱身、激光全息安全防偽等國家高新先進(jìn)制造領(lǐng)域的重要制造質(zhì)量特征;其高精度測量,是相關(guān)產(chǎn)品功能質(zhì)量保證、制造工藝分析和優(yōu)化的基礎(chǔ),產(chǎn)業(yè)水平創(chuàng)新突破的關(guān)鍵,對整個(gè)國民經(jīng)濟(jì)具有重要意義。所研制的表面微納結(jié)構(gòu)測量系列儀器,在微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)光學(xué)成像、光伏新能源、仿生制造、軍事隱身等諸多領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。預(yù)估潛在市場規(guī)模在5-10億范圍內(nèi)。

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