本成果創新性發明了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結構高精度測量技術及系統。
本項目依托華中科技大學儀器學科在表面形貌與結構精密測量領域的傳統特色優勢和長期積累的科研基礎,在國家重大科學儀器設備開發專項、國家自然科學基金儀器研制專項、國家863重點項目課題、國家自然科學基金面上項目等支持下,針對相關制造領域微米尺度、納米尺度、跨尺度微納表面結構精密測量問題開展了系列研究。本成果技術主要包括以下方面:
1)提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結構測量原理和方法,共光路融合白光顯微干涉與原子力探針傳感,突破跨尺度微納傳感瓶頸,解決大動態范圍微納結構測量難題,實現nm-μm-mm跨尺度微納表面結構高效測量;
2)提出了白光干涉原子力探針掃描跨尺度測量的可溯源標定和坐標統一方法,突破了白光干涉與原子力探針跨尺度微納傳感的坐標統一瓶頸和漂移難題,實現了微納表面結構跨尺度測量的可溯源和穩定高精度;
3)提出了白光干涉質量評價模型和三維圖像噪聲區域辨識與重建方法,及二維掃描工作臺平面度誤差阿貝補償與二維運動同步計量方法,解決噪聲問題與宏微驅動二維工作臺運動誤差對測量精度的影響問題,為跨尺度微納表面結構高精度測量提供支撐。
圖1 微納結構多模式跨尺度測量儀器實物圖
圖2 白光干涉原子力探針掃描跨尺度微納表面結構測量原理示意圖
本成果創新研制出的具有自主知識產權的白光干涉原子力探針掃描測量儀器,可在我國高端光刻裝備制造企業、高端顯示面板制造企業、激光全息安全防偽企業等國家重點產業的裝備研發、工藝優化、產品質量提升中獲得重要應用。
本項目成果目前處于可量產階段。
跨越nm-μm-mm的跨尺度微納表面結構是半導體集成芯片(IC)、新型顯示、微機電系統(MEMS)、智能傳感器、微納光學、光伏新能源、納米仿生、軍事隱身、激光全息安全防偽等國家高新先進制造領域的重要制造質量特征;其高精度測量,是相關產品功能質量保證、制造工藝分析和優化的基礎,產業水平創新突破的關鍵,對整個國民經濟具有重要意義。所研制的表面微納結構測量系列儀器,在微機電系統、先進光學成像、光伏新能源、仿生制造、軍事隱身等諸多領域具有廣闊的應用前景。預估潛在市場規模在5-10億范圍內。
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