已有樣品/n全金屬化源漏FOI FinFET 相比類似工藝的常規FinFET 漏電降低1 個數量級,驅動電流增大2 倍,驅動性能在低電源電壓下達到國際先進水平。由于替代了傳統的源漏SiGe 外延技術,與極小pitch 的大規模FinFET 器件的兼容性更好,有助于降低制造成本,提高良品率,具有很高的技術價值。