本發(fā)明公開了一種多元物質(zhì)原子層沉積膜制備方法和裝置,所 述方法,即使基片相對于原子層沉積反應腔直線運動,依次通過其內(nèi) 用于完成不同原子層沉積的原子層沉積系統(tǒng),基片通過每個原子層沉 積系統(tǒng)時:調(diào)整基片溫度為相應原子層沉積反應最適溫度。所述裝置, 包括原子層沉積反應腔、基片承載臺、運動平臺和溫度控制裝置;原 子層沉積反應腔依次設置有多個原子層沉積系統(tǒng);基片承載臺,設置 在原子層沉積反應腔下方;運動平臺,與基片承載臺連接,帶動基片 承載臺運動;溫度控制裝置,設置在基片承載臺下方。所述方法能高 效快速的制備多元物質(zhì)原子層沉積膜,所述裝置,能方便的通過現(xiàn)有 原子層沉積系統(tǒng)組裝,兼容性強,功耗低,沉積效率高。
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