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北大環科學院楊武霖課題組基于電極三相界面調控與氣泡屏蔽作用實現無膜電解槽中高濃度過氧化氫合成

2025-03-10 10:36:33
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論文封面

過氧化氫(hydrogen peroxide,H2O2)可以通過雙室水電解槽中的電化學氧還原反應可持續合成,目前提高電化學H2O2生成量的方法主要集中在提高陰極的催化活性和優化陰極結構,但在制備過程中仍需使用昂貴的離子交換膜,這限制了其在偏遠地區的應用。由于H2O2在陽極上很容易被氧化成O2,因此,必須使用離子交換膜來避免H2O2傳輸到陽極表面發生氧化反應。然而離子交換膜造價昂貴,約$1400m−2。此外,離子交換膜還會受到復雜水環境的影響,其性能會隨著時間的推移而下降,在實際應用過程中需定期更換,導致成本升高。因此,為了在單室中生成高濃度的H2O2,需要開發一種新的策略來避免H2O2分解。

近日,北京大學環境科學與工程學院楊武霖研究員課題組在《自然·通訊》(Nature Communications)上發表論文,提出了一種氣泡屏蔽策略,通過對水-氣-電極界面進行逆向工程設計來抑制H2O2的降解,從而在無膜電解槽中實現高濃度H2O2生成。此外,本文設計了一種基于該電極的無膜電解槽裝置,利用太陽能驅動,可實現H2O2的原位生成及地表水中大腸桿菌原位滅活。該電極性能高、穩定性強、成本低、操作便捷,具有良好的應用前景。

圖1  無涂層和HPL涂覆陽極的示意圖及表征結果

為了在無膜電解槽內生成高濃度的H2O2,本研究開發了一種氣泡屏蔽策略,該策略通過在電極上使用成本較低的聚四氟乙烯(PTFE)作為疏水性多孔層(Hydrophobic Porous Layer,HPL)涂層,能減緩氣體直接脫離電極表面并釋放至溶液的過程。除了利用PTFE的疏水性外,HPL還可以為氣泡的形成和附著提供充足的場所。與此同時,氣泡屏蔽了H2O2進入電極表面,從而最大限度地減少了H2O2的降解。通過H2O2分解測試,分別確定了PTFE對陽極和陰極的屏蔽作用。為了驗證這種方法,我們設計了一組含成對HPL電極的無膜電解槽,評估了H2O2的生成和電極的穩定性,在單室中得到了超高的H2O2產量。HPL電極在電流密度為40mAcm−2時的無膜電解槽內運行5h能產生10.05±0.05gL−1的H2O2,是目前已報道的無膜電解槽中H2O2濃度最高的電極。此外,本研究還設計了一個太陽能驅動的無膜電解槽消毒裝置,裝配涂覆了HPL的電極對。采用該裝置可在60min內實現地表水中大腸桿菌原位滅活,適用于缺乏電力供應和衛生設施較差的偏遠地區。該系統避免了離子交換膜的使用,提供了一種簡單、實用、低成本的方法,為電化學生成H2O2的工業應用和農村飲用水消毒提供了基礎。本文提供了一種實用的方法,將HPL電極應用于無膜電解槽中,實現高速率和高濃度的H2O2生成。本研究有助于后續利用氣泡實現界面微反應的傳質調控研究,并為后續固-液-氣三相界面研究提供新思路。

圖2 在三種陽極表面H2O2的消耗量、氣泡尺寸分布及氣泡屏蔽機制示意圖

圖3  HPL電極對在無膜電解槽中制備H2O2性能及應用

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