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XM-855A螺旋器及膜性蝸管模型（帶數(shù)字標(biāo)識(shí)） ? XM-855A帶數(shù)字標(biāo)識(shí)螺旋器及膜性蝸管模型放大350倍，可拆分為5部件，顯示螺旋器及膜性蝸管三壁的立體微細(xì)結(jié)構(gòu)，模型的內(nèi)側(cè)端為骨性螺旋板，相當(dāng)于螺旋緣處的斷面，可見其中的骨質(zhì)，表面肥厚的骨膜及穿通骨質(zhì)的聽神經(jīng)纖維束，模型的另一端為螺旋韌帶，內(nèi)含多數(shù)血管，由側(cè)面看可見前庭膜起于螺旋緣上面的骨膜，止于螺旋韌帶的上方。將前庭膜取下觀察，可見它由上面的間皮，中間的結(jié)締組織及下面的上皮所成，膜性蝸管的外壁為螺旋韌帶，內(nèi)面附有單層立方上皮。 尺寸：放大350倍，47.5×18×32.5cm 材質(zhì)：PVC材料

本發(fā)明公開了一種用于柔性膜同步輸送的夾持進(jìn)給系統(tǒng)，包括沿進(jìn)給方向依次間隔布置的多套夾持進(jìn)給裝置，且每套夾持進(jìn)給裝置包括一動(dòng)夾持進(jìn)給組件和一靜夾持進(jìn)給組件，通過各動(dòng)夾持進(jìn)給組件和靜夾持進(jìn)給組件對(duì)所述柔性膜的交替夾持，并且在所述動(dòng)夾持進(jìn)給組件夾持時(shí)該動(dòng)夾持進(jìn)給組件沿進(jìn)給方向移動(dòng)，在所述靜夾持進(jìn)給組件夾持時(shí)該動(dòng)夾持進(jìn)給組件返回初始夾持位置的循環(huán)過程，實(shí)現(xiàn)對(duì)所述柔性膜的進(jìn)給輸送。本發(fā)明還公開了利用上述系統(tǒng)進(jìn)行柔性膜同步輸送的方法。本發(fā)明在柔性膜的輸送過程中始終有夾持進(jìn)給組件夾持柔性膜，同時(shí)采用夾緊或松開的交替切換，實(shí)現(xiàn)柔性膜的往返間歇進(jìn)給，而且使進(jìn)給驅(qū)動(dòng)組件同時(shí)運(yùn)動(dòng)，保證柔性膜在多個(gè)位置的同時(shí)進(jìn)給。

本發(fā)明公開了一種燃料電池膜電極組件的復(fù)合方法及其裝置。該復(fù)合方法，通過機(jī)器視覺技術(shù)測(cè)定 GDL 偏角，催化劑層偏角，根據(jù)角度差值引導(dǎo)機(jī)械手對(duì) GDL 旋轉(zhuǎn)糾偏。糾偏完成后測(cè)定和計(jì)算 GDL兩條邊緣的交點(diǎn)坐標(biāo)距離 GDL 采圖相機(jī)視野中心的 X 和 Y 向偏差，測(cè)定和計(jì)算催化劑層兩條邊緣的交點(diǎn)坐標(biāo)距離催化劑層采圖相機(jī)視野中心的 X 和 Y 向偏差，并結(jié)合兩個(gè)相機(jī)的機(jī)械安裝位置，計(jì)算出 GDL與催化劑層的位置綜合偏差，該綜合偏差用于引導(dǎo)機(jī)械手將 GDL 與催化劑層精確復(fù)合。

清華大學(xué)王保國教授團(tuán)隊(duì)從事膜分離和電化學(xué)工程的交叉領(lǐng)域科學(xué)研究，迄今已有近 20 年時(shí)間。他們從降低能耗角度出發(fā)，提出了“一體化”膜電極的概念，其核心是通過在多孔膜中，電催化劑原位取向生長策略，降低電子/氣體/離子的傳遞阻力，從而提高電解水產(chǎn)氫速率。

一種超雙親多孔膜材料及其制備方法和應(yīng)用，步驟如下：（1）室溫下，先將碳納米管粉體和表面活性劑分散于水中，形成均一混合溶液；（2）向上述混合溶液中加入水性三聚氰胺甲醛樹脂溶液，混勻制得所需反應(yīng)液；（3）將上述反應(yīng)液刷涂或噴涂在干凈的多孔基材上，80~120℃干燥固化10~30min，即可制得超雙親油水分離用多孔膜材料。本發(fā)明所述的多孔膜材料既保持了原有泡沫銅基底良好的機(jī)械性能，同時(shí)又具有很好的超雙親性，即可截留水讓油通過，也可截留油讓水通過，從而具有雙重分離效果。

本項(xiàng)目是國家863計(jì)劃”85” 和”95”重大項(xiàng)目的階段性研究成果(合作單位:河北省科學(xué)院)。 包含”大面積高功率DC Arc Plasma Jet CVD金剛石膜高速沉積設(shè)備”和”大面積高質(zhì)量金剛石自支撐膜制備工藝”兩部分。其目標(biāo)是向國內(nèi)外市場(chǎng)提供大面積高質(zhì)量廉價(jià)金剛石自支撐膜。技術(shù)基本成熟, 設(shè)備和工藝已在廣東、北京和天津的一些工廠和研究院所應(yīng)用。目前已開發(fā)兩種不同功率級(jí)別, 100千瓦級(jí)和30千瓦級(jí)的設(shè)備, 工具級(jí)金剛石膜沉積速率: 40～50mm/h, 沉積面積: ?110mm (100千瓦級(jí)), 或?60mm (30千瓦級(jí))。利用本項(xiàng)目技術(shù)生產(chǎn)的工具級(jí)金剛石膜可達(dá)到的指標(biāo): 面積: ????mm (100千瓦級(jí)), 或 ???mm (30千瓦級(jí)); 厚度: 最大2mm; 維氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗彎強(qiáng)度: > 300 MPa。光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜目前最大面積為?60mm, 厚度約0.6mm, 從紫外(0.22?m)到遠(yuǎn)紅外(>20?m, 直至微波)透明, 8～12?m波段透過率～70%, 熱導(dǎo)率～19W/cm.k, 各項(xiàng)物理化學(xué)性能均與天然Ⅱa型寶石級(jí)金剛石單晶接近。 該項(xiàng)目適用于光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜: 工業(yè)CO2激光器窗口, 需要在極端惡劣工業(yè)環(huán)境(高溫、腐蝕、幅射、磨損、沖刷等)下工作的光學(xué)裝置窗口、軍事窗口等。也可用于中高檔耐用裝飾品制作。 熱沉級(jí)金剛石自支撐膜: 半導(dǎo)體二極管激光器熱沉、功率半導(dǎo)體器件(Power IC)的金剛石封裝、MCMs (大規(guī)模集成電路的三維立體組裝技術(shù))用大面積金剛石熱沉、高功率微波器件熱沉。 工具級(jí)金剛石自支撐膜: 金剛石拉絲模模芯、金剛石自支撐膜釬焊工具、各種抗極度摩擦磨損工具和模具及儀器零件。

本項(xiàng)目所研究的電控調(diào)光膜材料即為聚合物分散液晶（Polymer dispersed liquid crystal，簡稱PDLC）薄膜材料，其主要應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)殡娍刂悄懿ＡА⒋竺娣e柔性液晶顯示等。PDLC薄膜材料是將向列相液晶微滴均勻分散在高分子網(wǎng)絡(luò)中而形成的復(fù)合材料，當(dāng)未對(duì)PDLC薄膜施加電場(chǎng)時(shí)，在高分子網(wǎng)絡(luò)的作用下液晶分子的指向矢呈無規(guī)分布，薄膜呈強(qiáng)烈光散射狀態(tài)；當(dāng)對(duì)PDLC薄膜施加電場(chǎng)時(shí)，液晶分子的長軸平行于電場(chǎng)排列（通常PDLC中所使用的液晶的各向介電常數(shù)為正），薄膜呈透明狀態(tài)。 目前，國外的PDLC薄膜生產(chǎn)廠家均采用熱固化法制備PDLC薄膜，而課題組所采用的為紫外光固化法，是世界上首家可以使用紫外固化法制備PDLC薄膜的科研單位，紫外光固化法相對(duì)于熱固化法，其固化速度快、節(jié)能環(huán)保、成品率高。并且所制備的PDLC薄膜電-光性能優(yōu)異，綜合電-光性能優(yōu)于其它國外PDLC薄膜生產(chǎn)廠家所生產(chǎn)的PDLC薄膜。

本項(xiàng)目是國家863計(jì)劃”85” 和”95”重大項(xiàng)目的階段性研究成果(合作單位:河北省科學(xué)院)。 包含”大面積高功率DC Arc Plasma Jet CVD金剛石膜高速沉積設(shè)備”和”大面積高質(zhì)量金剛石自支撐膜制備工藝”兩部分。其目標(biāo)是向國內(nèi)外市場(chǎng)提供大面積高質(zhì)量廉價(jià)金剛石自支撐膜。技術(shù)基本成熟, 設(shè)備和工藝已在廣東、北京和天津的一些工廠和研究院所應(yīng)用。目前已開發(fā)兩種不同功率級(jí)別, 100千瓦級(jí)和30千瓦級(jí)的設(shè)備, 工具級(jí)金剛石膜沉積速率: 40～50mm/h, 沉積面積: ?110mm (100千瓦級(jí)), 或?60mm (30千瓦級(jí))。利用本項(xiàng)目技術(shù)生產(chǎn)的工具級(jí)金剛石膜可達(dá)到的指標(biāo): 面積: ????mm (100千瓦級(jí)), 或 ???mm (30千瓦級(jí)); 厚度: 最大2mm; 維氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗彎強(qiáng)度: > 300 MPa。光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜目前最大面積為?60mm, 厚度約0.6mm, 從紫外(0.22?m)到遠(yuǎn)紅外(>20?m, 直至微波)透明, 8～12?m波段透過率～70%, 熱導(dǎo)率～19W/cm.k, 各項(xiàng)物理化學(xué)性能均與天然Ⅱa型寶石級(jí)金剛石單晶接近。 該項(xiàng)目適用于光學(xué)級(jí)金剛石自支撐膜: 工業(yè)CO2激光器窗口, 需要在極端惡劣工業(yè)環(huán)境(高溫、腐蝕、幅射、磨損、沖刷等)下工作的光學(xué)裝置窗口、軍事窗口等。也可用于中高檔耐用裝飾品制作。 熱沉級(jí)金剛石自支撐膜: 半導(dǎo)體二極管激光器熱沉、功率半導(dǎo)體器件(Power IC)的金剛石封裝、MCMs (大規(guī)模集成電路的三維立體組裝技術(shù))用大面積金剛石熱沉、高功率微波器件熱沉。 工具級(jí)金剛石自支撐膜: 金剛石拉絲模模芯、金剛石自支撐膜釬焊工具、各種抗極度摩擦磨損工具和模具及儀器零件。

其他成果/n一種槲皮素包合物電紡絲納米膜、其制備方法及應(yīng)用。制備方法包括步驟：1)將槲皮素與β-環(huán)糊精溶于甲醇中，再加入助溶劑，回流攪拌，再持續(xù)加熱，減壓蒸餾除去溶劑，機(jī)械攪拌，自然降溫靜置過夜，過濾，沉淀依次用蒸餾水、甲醇洗滌，干燥，得到槲皮素-β-環(huán)糊精包合物；2)將槲皮素-β-環(huán)糊精包合物和玉米蛋白溶解到DMF中，得到電紡溶液；3)電紡絲納米膜的制備。通過本發(fā)明得到的槲皮素包合物電紡絲納米膜抑菌的同時(shí)有緩釋功能，可以用于野外擦傷碰傷等極端條件下，在長期得不到有效治療時(shí)的防止感染、病情惡化的有效治療手段；還可以用于極易腐敗或需要高保鮮度的食品保鮮抗菌膜的研制。

本發(fā)明公開了一種多功能單分散納米復(fù)合成膜液的制備方法，屬納米材料應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。其特征是 利用納米TiO2、ZnO、SiO2功能互補(bǔ)性能把納米TiO2、ZnO、SiO2粉體按比例分散在水中，并調(diào)節(jié)體系的 pH值，加入助成膜劑和成膜劑，使之成膜。采用長時(shí)間的超聲振蕩使之呈單分散穩(wěn)定狀態(tài)。用該方法制得 的納米復(fù)合成膜液顆粒呈單分散狀態(tài)，穩(wěn)定性優(yōu)良，可直接作為分散液使用，也可在多種基材上涂覆成膜 且涂膜具有降解有機(jī)物、滅菌、耐老化、耐水洗和粘附牢固等優(yōu)異性能，可廣泛應(yīng)用于涂料、光催化、環(huán) 境凈化等領(lǐng)域，使納米材料的優(yōu)異性能得以充分發(fā)揮。本方法具有工藝過程簡單，易控制，適用于規(guī)?；?制造等特點(diǎn)；產(chǎn)品應(yīng)用廣泛。