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改進(jìn)Crypten-MFCC的非侵入式負(fù)荷監(jiān)測方法
本發(fā)明公開了改進(jìn)Crypten?MFCC的非侵入式負(fù)荷監(jiān)測方法，針對非侵入式負(fù)荷監(jiān)測NILM信號的頻域特性，采用線性濾波器組替代Mel濾波器，動態(tài)調(diào)整對數(shù)能量基準(zhǔn)并優(yōu)化離散余弦變換DCT系數(shù)提取，融合差分特征與時域統(tǒng)計量，提高狀態(tài)識別精度；結(jié)合Crypten框架對支持向量機(jī)SVM模型進(jìn)行加密訓(xùn)練，基于安全多方計算協(xié)議實現(xiàn)多方數(shù)據(jù)協(xié)同建模，通過加密梯度共享完成參數(shù)更新，確保數(shù)據(jù)與模型隱私。進(jìn)一步引入二進(jìn)制秘密共享技術(shù)降低加密計算復(fù)雜度，結(jié)合交叉驗證動態(tài)優(yōu)化參數(shù)，實現(xiàn)高效實時分類。該方法在保障數(shù)據(jù)隱私的同時，提升監(jiān)測精度與效率，適用于智能電網(wǎng)、家居等場景的設(shè)備監(jiān)測與管理。
南京工程學(xué)院
2021-01-12
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非控環(huán)境下基于視頻的人臉識別系統(tǒng)
本項目實現(xiàn)自然視覺監(jiān)控環(huán)境下單/多人的人臉檢測、跟蹤及識別。系統(tǒng)能實現(xiàn)單樣本條件下，完成視頻中所出現(xiàn)人物的身份判別，能應(yīng)對自然監(jiān)控環(huán)境下的光照、姿態(tài)、表情變化及面部遮擋物的改變。目前，系統(tǒng)識別精度在千人庫小規(guī)模測試中達(dá)到 95%以上，識別速度為 25 幀/秒。系統(tǒng)主要特點在于：
(1) 不同環(huán)境下的人臉特征點標(biāo)記：以主動外觀模型為基礎(chǔ)，初始化后經(jīng)過一組級聯(lián)回歸器的數(shù)次迭代來優(yōu)化標(biāo)記點，最終得到足夠精度的標(biāo)記點。方法能適應(yīng)多姿態(tài)、多表情以及多種光照等自然環(huán)境下的人臉。
(2) 高效的有效人臉檢測、跟蹤及確認(rèn)機(jī)制：在監(jiān)控視頻中，人臉在某些幀會出現(xiàn)模糊、嚴(yán)重遮擋而使得臉部特征嚴(yán)重缺失，此時所捕捉到的人臉已不適合進(jìn)行識別。為此，通過建立高效的模糊及遮擋判別機(jī)制，自動拋棄原始檢測到的非人臉和非正常人臉，完成非連續(xù)幀多個人臉的有效跟蹤。
(3) 魯棒且具有區(qū)分度的人臉特征提取機(jī)制：考慮到校正后的人臉仍然與原始樣本人臉存在差距，從多個尺度從校正后的歸一化人臉中提取不變性特征，能適應(yīng)多種環(huán)境改變，同時設(shè)計特征投影空間，進(jìn)一步加強(qiáng)樣本區(qū)分度。
(4) 高速有效的識別確認(rèn)機(jī)制：為提高識別的準(zhǔn)確性，建立視頻識別序列中正確識別確認(rèn)機(jī)制，通過 voting 方式，刪除序列中的誤識別，保留正確識別結(jié)果。
此外，為提高系統(tǒng)對人臉表情和眼鏡等遮擋物的適應(yīng)性，正在進(jìn)行二次版本的提升工作，目前已完成人臉表情歸正以及遮擋物自動摘除的仿真，部分仿真結(jié)果。
江南大學(xué)
2021-04-13
上海昨非實驗室設(shè)備有限公司
上海昨非實驗室設(shè)備有限公司
2022-07-19
昨非 全自動移液工作站-文鰩
上海昨非實驗室設(shè)備有限公司
2022-07-19
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一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實際應(yīng)用過程中，熒光粉會由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強(qiáng)度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機(jī)溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍(lán)色熒光粉的衰減問題。但由于這些方法都是采用液相法,對溶液的酸堿性要求高，工藝較復(fù)雜，最終產(chǎn)品性能重復(fù)性差。 本專利通過一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡單，重復(fù)性好等優(yōu)點，易于大規(guī)模生產(chǎn)。
電子科技大學(xué)
2021-04-10
一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實際應(yīng)用過程中，熒光粉會由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強(qiáng)度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機(jī)溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一
電子科技大學(xué)
2021-04-10
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超臨界水熱合成納米金屬及其氧化物粉體
高校科技成果盡在科轉(zhuǎn)云
西安交通大學(xué)
2021-04-10
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納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體的制備方法
本發(fā)明提供了一種納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體的制備方法。其特征在于以粉狀釩酸銨、碳質(zhì)還原劑和微量稀土等催化劑為原料，按一定配比將它們?nèi)苡谌ルx子水或蒸餾水中，并攪拌均勻，制得溶液。然后將該溶液加熱、干燥，最后得到含有釩源和碳源的前驅(qū)體粉末。將前驅(qū)體粉末置于高溫反應(yīng)爐中，并通入還原氣體作為反應(yīng)和保護(hù)氣體，于800～950℃、30～60min條件下，制得平均粒徑＜100nm、粒度分布均勻的納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體。本方法具有反應(yīng)溫度低、反應(yīng)時間短、生產(chǎn)成本低、工藝簡單等特點，適合工業(yè)化生產(chǎn)。
四川大學(xué)
2021-04-11
一種提高熒光粉熱穩(wěn)定性的方法
成果簡介： 最近以來，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實際應(yīng)用過程中，熒光粉會由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強(qiáng)度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過程及工作過程中會發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因為在涂屏PDP過程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機(jī)溶劑。這樣會使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過程中則會發(fā)生真空紫外激勵的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因為高能粒子的濺射會造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個有效途徑，因為通過包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國專利CN1667081A公開了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國專利CN1664051A公開了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍(lán)色熒光粉的衰減問題。但由于這些方法都是采用液相法,對溶液的酸堿性要求高，工藝較復(fù)雜，最終產(chǎn)品性能重復(fù)性差。 本專利通過一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡單，重復(fù)性好等優(yōu)點，易于大規(guī)模生產(chǎn)。
電子科技大學(xué)
2017-10-23
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一種斷裂缺損青銅器文物修復(fù)用焊粉
本發(fā)明屬于考古領(lǐng)域，涉及一種斷裂缺損青銅器文物修復(fù)用焊粉。按照質(zhì)量百分比計:Na2SO4 粉10~14wt.%，Cu2O 粉 31~40wt.%，PbO 粉 1~18wt.%，Al 粉 9~11wt.%，CaF2 粉 1~3wt.%，硼砂 1~2wt.%Cu 粉 15~30wt.
武漢大學(xué)
2021-04-14