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本發(fā)明公開了一種基于超材料的太赫茲單譜信號(hào)探測(cè)器，包括自下而上依次設(shè)置的襯底層、N 型砷化鎵層、二氧化硅層與超材料層、歐姆電極和肖特基電極；其中超材料層為具有周期性微納米結(jié)構(gòu)的金屬開環(huán)共振單元陣列，金屬開環(huán)共振單元陣列包含了一種圖形及其特征尺寸參數(shù)，該圖形對(duì)于太赫茲電磁波具有完全吸收特性，通過改變金屬開環(huán)共振單元的結(jié)構(gòu)和尺寸參數(shù)可以調(diào)控對(duì)應(yīng)的電磁波吸收頻段，通過改變 N 型砷化鎵的耗盡層寬度可以調(diào)控超材料層中金屬開環(huán)

本發(fā)明公開了一種數(shù)字高程模型 DEM 超分辨率的方法，包括：建立高分辨率 DEM 與低分辨率 DEM 的位置映射，對(duì)每一個(gè)低分辨率DEM 測(cè)試區(qū)的子區(qū)域在低分辨率 DEM 搜索區(qū)進(jìn)行相似塊查找與相似性估計(jì)，選取相似性最高的一系列子區(qū)域作為相似塊，將查找到的一系列相似塊映射回高分辨率 DEM 實(shí)測(cè)區(qū),將這些對(duì)應(yīng)的高分辨率 DEM實(shí)測(cè)區(qū)子區(qū)域塊按其對(duì)應(yīng)的相似權(quán)重相加得到一個(gè)新的子區(qū)域,將上述超分辨率后的高分辨率 DEM 缺失區(qū)的子區(qū)域拼接起來，加上高分辨率 DEM 實(shí)測(cè)區(qū)已有的數(shù)據(jù)就為一個(gè)完整的高分辨率

本發(fā)明公開了一種超痕量鉛鎘離子檢測(cè)方法及檢測(cè)試紙條。所述 檢 測(cè) 方 法 ， 包 括 如 下 步 驟 (1) 樣 品 酸 化 處 理 ； (2) 樣 品 去 除Hg²⁺和 Zn²⁺；(3)用緩沖液稀釋，獲得中性樣品；(4)將步驟(3)中獲得的中性樣品與雙硫腙接觸，生成鉛鎘離子-雙硫腙絡(luò)合物(5)添加硫化物溶液，使得鉛鎘離子-雙硫腙絡(luò)合物完全反應(yīng)，生成 PbS 和/或 CdS；(6)將步驟(5)中獲得的含 Pb

本成果提出的基于超像素樣本擴(kuò)充的空譜全卷積高光譜圖像分類方法有效的利用高光譜圖像的超像素分割結(jié)果指導(dǎo)偽樣本擴(kuò)充增加了訓(xùn)練集樣本數(shù)量，解決了高光譜圖像有標(biāo)記樣本的稀缺問題，同時(shí)空譜的全卷積分類網(wǎng)絡(luò)也充分利用了多尺度的空間特征和光譜特征實(shí)現(xiàn)了較高的分類精度。 成果非涉密，專利申請(qǐng)已經(jīng)提交。 實(shí)驗(yàn)采用反射光學(xué)系統(tǒng)成像光譜儀（ROSIS）傳感器獲取意大利北部帕維亞大學(xué)（Pavia  University）的高光譜圖像數(shù)據(jù)。該數(shù)據(jù)集由 103 個(gè)光譜帶組成，共 610×340 像素，光譜覆蓋范圍從 430nm 到 860nm，空間分辨率為 1.3m。該數(shù)據(jù)集一共含有 9 個(gè)類別的 42776個(gè)有標(biāo)記樣本，選取每類 30 個(gè)有標(biāo)記樣本作為訓(xùn)練集，其余作為測(cè)試集。 由下表可以看出，在每類選取 30 個(gè)樣本的情況下，本 模 型 的 OA，AA，Kappa系 數(shù) 比 DFFN 模 型 高 出20.8%，17.4% 和 26.5%；比CNN 高 出 23.1%，18.8% 和29.2%。并且下表證明了使用了偽標(biāo)簽樣本擴(kuò)充的空譜全卷積網(wǎng)絡(luò)的本方法在小樣本情況下每個(gè)類的分類準(zhǔn)確性均優(yōu)于 DFFN 和 CNN，達(dá)到了較好的分類效果。 表 1 PaviaU 數(shù)據(jù)集上對(duì)比實(shí)驗(yàn)結(jié)果

本發(fā)明提供了一種基于電磁感應(yīng)透明的紅外超增強(qiáng)收集天線， 包括多個(gè)周期性陣列排布的天線單元，所述天線單元包括第一諧振單 元和第二諧振單元；所述第一諧振單元的諧振頻率與所述第二諧振單 元的諧振頻率相同或相近；通過所述第一諧振單元與所述第二諧振單 元之間的耦合作用實(shí)現(xiàn)了在紅外波段的電磁感應(yīng)透明現(xiàn)象，提高了對(duì) 目標(biāo)頻率紅外輻射的收集效率。本發(fā)明提供的電磁感應(yīng)透明紅外超增 強(qiáng)收集天線能使入射的偏振光能量重新分布，將能量轉(zhuǎn)移至與

本發(fā)明公開了一種動(dòng)磁式長(zhǎng)行程超精密直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括定 子線圈組件、氣浮支承組件和永磁體動(dòng)子組件，定子線圈組件包括定子氣浮導(dǎo)軌和電感組件；氣浮支承組件包括氣浮軸承；永磁體動(dòng)子組 件包括動(dòng)子基座、永磁體安裝座及永磁體組，動(dòng)子基座固定安裝在氣 浮軸承上，動(dòng)子基座向下設(shè)置永磁體安裝座，每個(gè)永磁體安裝座上安 裝一永磁體組，永磁體組包括多個(gè)永磁體，并且同一永磁體安裝座上 的永磁體的同一側(cè)磁場(chǎng)極性相同，以用于驅(qū)動(dòng)永磁體組和氣浮軸承沿 定子氣浮導(dǎo)軌的縱向移動(dòng)。本發(fā)明采用均勻布置的長(zhǎng)行程線圈繞組作 為定子，與傳統(tǒng)的

本發(fā)明公開了一種超精密雙層宏微運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的同步控制系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括設(shè)置在計(jì)算機(jī)內(nèi)的主控制模塊、兩個(gè)宏微運(yùn)動(dòng)平臺(tái)控制模塊和同步控制模塊；兩個(gè)宏微運(yùn)動(dòng)平臺(tái)控制模塊均包括微動(dòng)平臺(tái)控制模塊，跟隨控制模塊，宏動(dòng)平臺(tái)控制模塊，激光測(cè)量模塊，以及光柵測(cè)量模塊。本發(fā)明引入了微動(dòng)平臺(tái)位置轉(zhuǎn)換器，簡(jiǎn)化了微動(dòng)平臺(tái)的控制；提出了力作用轉(zhuǎn)換器，提高了宏動(dòng)平臺(tái)的跟蹤精度；采用宏動(dòng)平臺(tái)跟蹤微動(dòng)平臺(tái)的控制方式，防止了微動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)飽和的發(fā)生，提高了宏微運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的定位精度；采用了雙層宏微運(yùn)動(dòng)平臺(tái)同步控制器，減小了同步誤差，并改善了雙層宏

本發(fā)明公開了一種三自由度超精密微動(dòng)工作臺(tái)，該工作臺(tái) X、Y和θ方向的運(yùn)動(dòng)由四個(gè)垂直布置在微動(dòng)臺(tái)外框架和內(nèi)框架的直線電機(jī)提供，直線電機(jī)的動(dòng)子安裝在外框架的內(nèi)側(cè)，直線電機(jī)定子安裝在內(nèi)框架外側(cè)。外框架由安裝在外框架底部四角的四個(gè)圓形氣浮軸承實(shí)現(xiàn)垂直方向的支承，內(nèi)框架分別由環(huán)形氣浮軸承和圓形真空預(yù)緊吸盤實(shí)現(xiàn)垂向的支承。微動(dòng)臺(tái)的位置信息由垂直安裝在載物平臺(tái)上的第一、第二平面配合激光干涉儀測(cè)量。本發(fā)明所提出的一種三自由度超精密微動(dòng)工作臺(tái)可實(shí)現(xiàn)大負(fù)載、大慣量、高精度的運(yùn)動(dòng)，該平臺(tái) X 和 Y 向的行程為 2mm，

本成果將全息技術(shù)與位置復(fù)用、偏振復(fù)用、共形超穎表面、非對(duì)稱傳輸、結(jié)構(gòu)色、相變材料、軌道角動(dòng)量調(diào)控等超穎表面相關(guān)特性相結(jié)合，設(shè)計(jì)出了多種基于光學(xué)超穎表面的多維信息復(fù)用防偽標(biāo)識(shí)，為提升光存儲(chǔ)技術(shù)的存儲(chǔ)密度和防偽加密性能提供了新的解決方案，具有極大的設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用前景。 一、項(xiàng)目分類 關(guān)鍵核心技術(shù)突破 二、技術(shù)分析 近年來，超穎表面作為一個(gè)新興的研究領(lǐng)域發(fā)展迅速，其強(qiáng)大的波前調(diào)控能力和與生俱來的超薄、緊湊的性質(zhì)非常適合應(yīng)用于光學(xué)加密、防偽領(lǐng)域。為了推進(jìn)超穎表面的實(shí)用化發(fā)展，增加其信息容量，項(xiàng)目組在超穎表面的多維信息復(fù)用領(lǐng)域做出許多努力。將全息技術(shù)與位置復(fù)用、偏振復(fù)用、共形超穎表面、非對(duì)稱傳輸、結(jié)構(gòu)色、相變材料、軌道角動(dòng)量調(diào)控等超穎表面相關(guān)特性相結(jié)合，設(shè)計(jì)出了多種基于光學(xué)超穎表面的多維信息復(fù)用防偽標(biāo)識(shí)，為提升光存儲(chǔ)技術(shù)的存儲(chǔ)密度和防偽加密性能提供了新的解決方案，具有極大的設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用前景。 基于光學(xué)超穎表面的多維信息復(fù)用防偽標(biāo)識(shí)與加密技術(shù)信息容量大，能提供多層次的防偽特征；必須采用電子束刻蝕系統(tǒng)進(jìn)行加工，設(shè)計(jì)制造難度高，極難仿制和偽造；面積小，外表精致，不影響產(chǎn)品或證件的外觀；具有極高的唯一性，由于全息算法的特性，即使對(duì)應(yīng)的全息再現(xiàn)像完全相同，也可以通過對(duì)比SEM圖來從根源上避免偽造。該技術(shù)代表著未來光學(xué)加密、防偽技術(shù)的發(fā)展方向，可作為數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、模式識(shí)別、信息處理和光學(xué)加密的平臺(tái)，有望在增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)、智能手機(jī)等人機(jī)交互領(lǐng)域及防偽、信息加密等信息安全領(lǐng)域發(fā)揮關(guān)鍵作用。

本項(xiàng)目系統(tǒng)地研究了陰極離子鍍第一代涂層(TiN，TiC和CrN)、第二代涂層(TiCN和TiAlN)、第三代涂層(TiN/TiCN)、第四代涂層(金剛石和DLC)、第五代涂層(TiAlSiN)和第六代涂層(AlCrN)的制備方法及其摩擦-磨損性能，適應(yīng)了數(shù)字化制造時(shí)代的需求，滿足了干切削的要求，具有高熱穩(wěn)定性、高抗氧化性和良好的紅硬性的優(yōu)點(diǎn)。本項(xiàng)目制備的高性能涂層，如TiAlN、AlCrN和TiAlSiN等在國(guó)內(nèi)有巨大的應(yīng)用市場(chǎng)，目前國(guó)內(nèi)的刀具和模具的涂層市場(chǎng)超過200億元。與國(guó)外同類涂層相比，性