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該產品是一種堿性氧化硅分散體，具有極強的潤滑性，即使凝結也不受影響。精度最高的膠質硅產品適用于精密五金、硅、藍寶石和其他多種氧化晶體。與去離子水的推薦稀釋比為1:1，PH值為9.5-11.5，與#450瀝青或LP聚胺脂拋光皮搭配使用。

儀器概述 pH自動控制加液系統(單泵)是集pH值實時在線或靜態控制、測量與自動加酸、加堿調整于一體的新型自動化控制設備。pH精度高，穩定性好。廣泛應用于高等院校、科研院所實驗室：組織培養特定pH溶液的配制，pH自動滴定。制藥、生化、化工、噴涂、電鍍廠：反應器、反應罐、反應釜、溶液池中pH調節控制加液。生物工程反應器及食品發酵工廠：pH緩沖液的配制及培養過程調節控制。植物提取物車間：離子交換柱的酸堿洗滌調節控制。醫院分析室：制劑、檢驗中調節控制pH值。環保發電、循環水、自來水凈化、工業廢水與市政污水處理過程的pH控制等場所。 技術參數 1、工作電源：AC220V±10%，50Hz 2、控制范圍：0～14 pH 3、測量精度：±0.05 pH 4、分 辨 率：0.01 pH 5、泵頭速度：0.1～300轉/分 無級調速 6、轉速顯示：OLED高清液晶窗口顯示 7、加液速度：0.12～190ml/min(自來水) 8、加液泵頭：單泵 9、測量電極：pH三復合電極 或玻璃電極 10、溫度補償：自動溫度補償(PT1000) 11、pH控制器：高精度智能控制器 12、pH電極適用溫度 ：0～80℃ 13、pH標準液：6.86/4.00 14、外形尺寸：330*310*230mm 15、環境溫度：室溫～40℃ 相對濕度：<80% 16、整機重量：約8kg 性能特點 1、高精度智能pH控制器，大屏幕液晶即時顯示動態pH值與溫度值，超出范圍報警。 2、 多種控制測量模式：自動、手動、停止,可自由轉換，實現一機多用。 3、單泵實現加酸或加堿，適用于只用一種液體(酸液或堿液)來調節控制PH值。 4、采用OLED高清液晶窗口，單獨顯示當前電機轉速及工作狀態，加液速率可無級調速。 5、pH值上下限自由設定，設定值與實測值同時顯示。 6、pH電極可單點或兩點校正，pH值與溫度自動測量，pH值能根據溫度自動校正。 7、采用步進電機控制蠕動泵加液,液體接觸進口泵管，不接觸泵體，無污染。 8、選配不同形式的pH精密復合電極，及配四氟材質的電極護套和延長桿可在高溫、反應釜、反應器中適用實現特殊容器內pH值的監控與調整。 9、控制方式：自動、手動、停止 A:自動方式：儀器會根據實時檢測的pH值與設定值，自動啟動/停止加酸(加堿)，調整pH值至設定范圍。 B:手動方式：不受pH控制器控制，一直轉動，人工啟動/停止加酸(加堿)，調整pH 值至設定范圍。也可用于快速調整，或驅趕管內氣泡，或用于其它液體的輸送 C:停 止：停止加液動作，但pH值實時檢測并顯示;用于待命或調整結束時，也可作為在線pH值測量顯示終端時使用。 本產品榮獲國家發明專利,專利號為：ZL 201420406055.8 ZL 201420406067.0 ZL 201410349779.8  

儀器概述  pH自動控制加液系統(雙泵)是集pH值實時在線或靜態控制、測量與自動加酸、加堿調整于一體的新型自動化控制設備。pH精度高，穩定性好。廣泛應用于高等院校、科研院所實驗室：組織培養特定pH溶液的配制，pH自動滴定。制藥、生化、化工、噴涂、電鍍廠：反應器、反應罐、反應釜、溶液池中pH調節控制加液。生物工程反應器及食品發酵工廠：pH緩沖液的配制及培養過程調節控制。植物提取物車間：離子交換柱的酸堿洗滌調節控制。醫院分析室：制劑、檢驗中調節控制pH值。環保發電、循環水、自來水凈化、工業廢水與市政污水處理過程的pH控制等場所。 技術參數 1、工作電源：AC220V±10%，50Hz2、控制范圍：0～14 pH3、測量精度：±0.05 pH4、分 辨 率：0.01 pH5、泵頭速度：0.1～300轉/分 無級調速6、轉速顯示：OLED高清液晶窗口顯示7、加液速度：0.12～190ml/min(自來水)8、加液泵頭：雙泵9、測量電極：pH三復合電極 或玻璃電極10、溫度補償：自動溫度補償(PT1000)11、pH控制器：高精度智能控制器12、pH電極適用溫度 ：0～80℃13、pH標準液：6.86/4.0014、外形尺寸：480*320*220mm15、環境溫度：室溫～40℃ 相對濕度：<80%16、整機重量：約14kg 性能特點 ◆ 高精度智能pH控制器，大屏幕液晶即時顯示動態pH值與溫度值，超出范圍報警。◆ 多種控制測量模式：自動、手動、停止,可自由轉換，實現一機多用。◆ 單泵實現加酸或加堿，適用于只用一種液體(酸液或堿液)來調節控制PH值。◆ 采用OLED高清液晶窗口，單獨顯示當前電機轉速及工作狀態，加液速率可無級調速。◆ pH值上下限自由設定，設定值與實測值同時顯示。◆ pH電極可單點或兩點校正，pH值與溫度自動測量，pH值能根據溫度自動校正。◆ 采用步進電機控制蠕動泵加液,液體接觸進口泵管，不接觸泵體，無污染。◆ 選配不同形式的pH精密復合電極，及配四氟材質的電極護套和延長桿可在高溫、反應釜、反應器中適用實現特殊容器內pH值的監控與調整。◆ 本產品榮獲國家發明專利,專利號為：ZL 201420406055.8 ZL 201420406067.0 ZL 201410349779.8 網址鏈接 http://www.csscyq.com/proshow.asp?id=798  

本方法通過對粉體進入堿溶液后產生的氣體釋放量的測定，來判斷材料的引氣作用。 粉液反應氣體釋放量試驗裝置內置氣壓及溫度檢測電路板時，是由電路板采用電腦USB口供電，USB通訊，設備上有預留USB接口。

  產品介紹 草履蟲P1 全自動樣品處理系統（移液工作站），專為替代手工或半自動移液器研發而成，可以用自動化的方式完成5至1000µL精準移液，最快能在18秒完成96孔板填充，精確度通過第三方認證。儀器配置靈活，使用方便，非常適合用于孔板填充，連續稀釋，試劑添加，孔板重新排布，孔板復制，試管到孔板轉移，基因組學，蛋白質組學，生化分析，藥物發現，合成生物學，細胞檢測培養，標曲配液等自動化實驗流程。儀器能夠適配到大部分實驗室中，為實驗室賦能，讓研究者更輕松。 支持個性化定制需求   產品特點： 單通道/8通道自由組合，8通道可 根據實驗器材寬度展開閉合 5至1000ul精準自動化移液，不但優于手工移液器，比同類產品更優 可配置液泵/氣泵，選擇更多，更匹配不同實驗類型 帶多種探液模式（電容及氣壓探 液）自動識別液體高度，氣泡， 凝塊等，移液過程全程自動監控，防止少加，漏加 自由設定工作流程，內置多種實驗流程，并且帶升級庫，不但滿足當前實驗需求，還可以長期升級，適配更多應用 簡單且強大的移液能力，您會感覺像自動化專家，對您的工作流程帶來無與倫比的靈活控制體驗   技術指標 機械臂控制：閉環控制，定位精準 移液策略：單次/多次移液自動 計算，節約時間 雙Z軸：單針和排針可兼容于一臺機器，相當于手工移液器6-10臺 移液器選擇：液體移液器/氣體移 液器均可安裝，靈活配置，適配更多實驗 移液器：單通道/8通道可選 多通道：可調槍頭間距，兼容各種實驗器具 電容/氣壓探液：可自動探液面高度，防少加/漏加 移液監控功能：移液過程自動檢測，防滴漏，防誤吸空氣，氣泡，凝塊等 精密度：1ul，CV≤5%；100ul，CV≤0.5% 吸頭適配50ul，200ul，1000ul 透明或黑色吸頭 兼容永久性鋼針，清洗鋼針，節約耗材 12個標準SBS板位+2個獨立試劑和廢針槽位 原管或原板上機， 支持：12孔至284孔板；各種試管；試劑槽；各種離心管，EP 管，凍存管；細胞培養瓶，PCR8聯管，PCR96孔板等   使用方法 把需要用到的實驗器材，耗材，樣品等放置于臺面； 選擇要運行的實驗流程，一鍵運行。 在實驗室自動化賽道，長沙演化生物科技有限公司正以自主創新引擎驅動，崛起為國產高端智造的新一代領跑者。

本發明公開了一種超疏水涂料的制備方法及其所得涂料和制備高透明超疏水涂層的應用，所述超疏水涂料的制備方法包括如下步驟：向容器中一次性加入一定體積的溶劑，共溶劑，催化劑，然后以一定轉速攪拌一段時間，再向其中先后加入一定體積的硅酸酯和含氟硅氧烷，在室溫的條件下，繼續反應一定時間，即得所述涂料。本發明所制備的超疏水涂料可以通過噴涂、蘸涂、浸涂等方法，用于玻璃，紙片，鋼鐵等不同的基底上，所制備的涂層在可見光的范圍內，透過率達到92％以上。與現有技術相比，不僅所制備的涂層制備方法簡單，成本低廉，有利于大規模工業化生產，所制備的涂層具有多種用途，如車窗玻璃，摩天大樓光幕，手機和電腦屏幕等，有很大的商業價值。

由東南大學信息科學與工程學院尤肖虎教授、趙滌燹教授牽頭，聯合成都天銳星通科技有限公司、網絡通信與安全紫金山實驗室等單位完成的“Ka頻段CMOS相控陣芯片與大規模集成陣列天線技術”項目成果通過了中國電子學會組織的現場鑒定。 由中國工程院鄔賀銓院士、陳左寧院士、李國杰院士、呂躍廣院士、丁文華院士以及來自中國移動、信通院、華為、中興、大唐電信和國內5所高校的共15位專家組成的鑒定委員會對該項成果進行了現場鑒定并給予了高度評價，一致認為：該項目解決了硅基CMOS毫米波Ka頻段相控陣芯片和天線走向大規模推廣應用的核心技術瓶頸問題，成功研制了Ka頻段CMOS相控陣芯片，并探索出了一套有效的毫米波大規模集成陣列天線低成本解決方案，多項關鍵技術屬首創；在硅基CMOS毫米波技術路線取得重大突破，在大規模相控陣天線集成度方面國際領先；成果在5G/6G毫米波和寬帶衛星通信等領域具有廣闊的應用前景，在該領域“卡脖子”技術上取得關鍵突破，已在相關應用部門得以成功推廣應用。 目前，用于射頻芯片的40nm和28nm CMOS工藝特征頻率已經超過250GHz，在理論上完全可以滿足毫米波應用需求。毫米波硅基CMOS集成電路技術的突破，將帶來無線通信行業的一次變革，解決相控陣系統“不是不想用，只是用不起”的問題，把毫米波芯片及大規模相控陣變成來一種極低成本的易耗品。相比鍺硅工藝和化合物半導體工藝，CMOS工藝在成本、集成度和成品率上具有巨大優勢，但其輸出功率相對較低，器件本身寄生效應較大。項目組經過長達6年的技術探索與創新，克服了毫米波CMOS芯片技術的固有瓶頸問題，所研制的芯片噪聲系數為3dB，發射通道效率達到15%，無需校準便可實現精確幅相調控；基于大規模相控陣的波束成形能力，克服了毫米波CMOS芯片輸出功率受限的問題。

本發明公開了提供的一種用于復合波片光軸對準的裝夾裝置，該裝置包括電控旋轉臺、固定波片卡盤和旋轉波片卡盤；波片支架安裝在電控旋轉臺，固定波片卡盤與電控旋轉臺基座連在一起，旋轉波片卡盤與電控旋轉臺轉盤連在一起，使用時，將安裝有晶片的波片支架安裝在固定波片卡盤和旋轉波片卡盤上。本發明提供的裝夾裝置可以實現在對復合波片光軸進行高精度對準時，對組成復合波片的各晶片進行夾持，并保證不同晶片間能產生高精度高分辨率的相對轉動。與現有波片夾具相比，本發明所提供的裝夾裝置不僅能夠實現對兩片晶片的夾持和精確定位，而且能夠使兩片晶片間產生高精度高分辨率地相對轉動，更適合用于復合波片光軸的對準過程。

本發明公開了一種具有良好吸波性能的納米晶稀土鐵基吸波材料及其制備方法，該材料的特征在于 將配比為重量百分比為2％～70％稀土元素與5％～98％的鐵以及少量摻雜元素熔煉成稀土-鐵基合金，再在 0-700℃的溫度范圍內與氫氣反應(氫爆方法)破碎成細小粉末或球磨成細小粉末，然后在100℃-1000℃ 溫度范圍內與氫氣反應生成主相為稀土氫化物(RHx)和α-Fe的復合材料，最后將上述復合材料在低溫 氧化或氮化或氮化加氧化，制備出稀土氧化物或氮化物/α-Fe為主的復合材料。這種材料具有吸波性能好， 屏蔽波段寬，耐腐蝕，抗氧化以及價格低廉的特點，可用于建筑電磁屏蔽、信息及通訊技術保密、軍事隱 身技術等領域。

本發明公開了一種高增益低副瓣的毫米波封裝天線，包括引線框架，引線框架上設有毫米波IC芯片和毫米波天線，毫米波IC芯片與毫米波天線之間實現高頻互連，還包括封裝罩，封裝罩將毫米波IC芯片與毫米波天線密封在引線框架內，毫米波天線包括輻射單元，封裝罩上對應毫米波天線輻射單元的位置處設有喇叭狀凹槽，喇叭狀凹槽的槽壁表面被金屬覆蓋。本發明通過在封裝罩上設計喇叭狀凹槽，能夠有效提升天線的增益，降低天線的副瓣電平，并且不影響回波損耗性能，從而能夠實現小型化、低成本和高性能的毫米波封裝天線。