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產品詳細介紹  JHT—DDC單人單面超凈化工作臺（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環境，是科研制藥、醫療衛生、電子光學儀器等行業最為理想的專用設備。 特點： 1、操作區為全不銹鋼 2、外型美觀結構合理 3、采用自定們上下推拉門系統 4、風量可調，雙側電源插座   技術指標：   型號   JHT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺尺寸 870×650×570 潔凈等級 100級@≥0.5ｕm(美聯邦209E) 平均風速 0.3—0.5m/s(可調) 噪音 ≤65dB(A) 振動 ≤3ｕm 照明 ≥300LX 電源 220V 50HZ 消耗功率 ≤360W 紫外線 30W×1 照明 30W×1 備注 不銹鋼臺面，雙側電源，上下推拉門  

微萃取組件，由上盤和下盤組成，所述上盤中心部位設置有微流體通道，底面為平面，所述下盤中心部位設置有進料凹槽，從進料凹槽至下盤頂面邊緣分布有微形槽，組合方式為：上盤設置的微流體通道中心線與下盤頂面設置的進料凹槽中心線重合，上盤的底面與下盤的頂面之間具有0.05～0.25mm的間隙；一種超重力場微萃取裝置，包括上述微萃取組件、進料混合器、聯接體、接料槽、防護罩、軸套、減速器、電機和支撐系統，微萃取組件中的下盤通過軸套與減速器的動力輸出軸連接并位于接料槽內，萃取組件中的上盤與聯接體連接，連接時應使上盤設置的微流體通道的中心線與聯接體設置的插孔的中心線重合。

簡介：本發明提供一種超晶格結構的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法,屬于材料表面技術領域。本發明該超硬膜是由電弧離子鍍的納米晶體相Cr2N和磁控濺射鍍的非晶體相WC層交替沉積而成,并且,超晶格的調制周期為10～20nm,Cr2N單層和WC單層的厚度分別為8～14nm和2～6nm。本發明的優點在于:Cr2N層與WC層交替分布實現了Cr-N基膜成分多元化和結構多層化,解決了抗氧化性較強的Cr-N基膜獲得超高硬度的難題,同時非晶WC層進一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蝕性能,滿足不能熱處理的

超細硅酸鋁是一種新型的白色顏料，是一種可改善顏料的著色力，遮蓋力和附著力等增效作用的功能性硅酸鹽。明顯地改進涂料白度，干膜遮蓋力，儲藏穩定性及耐候性，所制造的涂料用于公路標表線和斑馬線，可增大使用壽命和清晰度，是在發達國家中此種用途的首選顏料。此外，超細硅酸鋁還大量用于印染，皮革，油墨，造紙，塑料，橡膠等生產中。 將凈化處理后的水玻璃和工業硫酸鋁溶液分別稀釋，并制成一定濃度，在攪拌反應槽中進行反應生成硅酸鋁，經陳化處理后，過濾，洗滌，干燥，粉碎及表面處理即可制成超細硅酸鋁產品。 年產5000噸的生產裝置，建設總投資約為1500－2000萬噸，產品遠遠滿足不了廣闊的市場需要。

本項目以制備超快高儲能柔性器件為導向，建立基于界面納米復合材料的新技術。通過水熱法和電化學方法在柔性導電基底上構建納米陣列/金摻雜二氧化錳的三維納米復合電極，作為正極；通過水熱法和熱處理法在柔性導電基底上生長多孔氧化鐵納米復合材料，作為負極，組裝全固態薄膜器件。利用納米復合材料的多方面優勢加速電子/離子在活性材料中的傳遞，進而達到超快高儲能的目的。基于納米復合材料的全固態薄膜器件可展現出超快充電能力（10 V/s），比常規電容器的充電時間快10-100倍。這是國際上基于金屬氧化物贗電容薄膜型超級電容器研究領域的一個重大突破。此外，本項目以開發超快超柔儲能器件為導向，開發了一種熱力學誘導自發組裝和原位摻雜結合碳熱還原的方法來實現石墨烯納米篩粉體和薄膜的宏觀可控制備，解決了傳統石墨烯材料縱向物質傳輸差的局限。通過控制碳熱溫度，可以調節石墨烯納米篩表面的孔密度，即孔徑大小可控（10~100 nm）。與傳統石墨烯薄膜電極相比，石墨烯納米篩表面豐富的孔結構使得其作為電極材料時擁有更大的比表面積，而且電解質離子可以在垂直于平面的軸向上傳遞，縮短了離子傳輸路徑。