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一種 C/C-SiC 復(fù)合材料零件的制備方法及其產(chǎn)品
本發(fā)明屬于復(fù)合材料領(lǐng)域，并公開(kāi)了一種 C/C-SiC 復(fù)合材料零 件的制備方法及其產(chǎn)品，包括以下步驟：(a)利用溶劑蒸發(fā)法制備碳纖 維/酚醛樹(shù)脂復(fù)合粉末；(b)依據(jù)零件的三維模型，將碳纖維復(fù)合粉末采 用 3D 打印工藝成形出該零件的初始形坯；(c)對(duì)初始形坯進(jìn)行第一次 增密處理得到 C/C 多孔體；(d)對(duì)上述 C/C 多孔體進(jìn)行熔融滲硅反應(yīng)、 高溫除硅工藝和第二次增密處理，得到最終的 C/C-SiC 零件。通過(guò)本
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面納尖簇線密集排布構(gòu)成的一層圖案化陽(yáng)極和一層平面金屬納膜陰極/陽(yáng)極，它們被分別制作在透光的納米厚度的基膜/光學(xué)介質(zhì)層的兩個(gè)外表面上；在加電態(tài)下，圖案化陽(yáng)極中的金屬平面納尖與金屬納膜陰極/陽(yáng)極間形成局域彎曲的銳化電場(chǎng)陣，陰極/陽(yáng)極上可自由移動(dòng)的電子被陰陽(yáng)電極間所激勵(lì)的陣列化納電場(chǎng)驅(qū)控，向各納電場(chǎng)中電場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)部位聚集。本發(fā)明基于金屬基平面納尖簇電
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于金屬平面微納線尖電極的電調(diào)透光率薄膜
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于金屬平面微納線尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面微納線尖有序密集排布構(gòu)成的一層圖案化陰極和一層平面陽(yáng)極，它們被分別制作在一層納米厚度的透光基膜/電絕緣膜的上下表面；在加電態(tài)下，陰極上可自由移動(dòng)的電子被陰陽(yáng)電極間所激勵(lì)的電場(chǎng)驅(qū)控，向金屬平面微納線尖簇其各納線尖頂聚集，納線尖金屬電連接線上的自由電子分布密度因部分甚至絕大多數(shù)電子被納線尖頂抽走而減少甚至急劇降低。本發(fā)明基于金屬平面微納線尖
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種光譜橢偏儀中氙燈光源的光強(qiáng)平滑處理裝置及方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種應(yīng)用到光譜橢偏儀中的氙燈光線光強(qiáng)平滑處理裝置及方法。該光強(qiáng)平滑處理裝置包括準(zhǔn)直透鏡、匯聚透鏡和光闌，準(zhǔn)直透鏡為消色差透鏡，用于將待處理的氙燈光線準(zhǔn)直為平行光束；匯聚透鏡為單透鏡，用于將平行光束匯聚聚焦，匯聚后的光斑大小隨波長(zhǎng)的增加而增大；光闌設(shè)置在匯聚透鏡后并間隔一定波長(zhǎng)焦距位置處，通過(guò)設(shè)定該光闌的大小使紫外波段的光斑可透過(guò)該光闌而可見(jiàn)到近紅外波段的光斑被阻擋，從而減小可見(jiàn)到近紅外波段的光束光強(qiáng)，實(shí)現(xiàn)平滑。本發(fā)明還公開(kāi)了一種氙燈光線光強(qiáng)平滑處理方法。本發(fā)明沒(méi)有損失任何波段的光線，探測(cè)
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種沿面擊穿型兩對(duì)棒極結(jié)構(gòu)觸發(fā)真空開(kāi)關(guān)
本發(fā)明公開(kāi)了一種沿面擊穿型兩對(duì)棒極結(jié)構(gòu)觸發(fā)真空開(kāi)關(guān)；觸 發(fā)真空開(kāi)關(guān)采用三段式結(jié)構(gòu)，包括上段波紋狀陶瓷外殼，下段波紋狀 陶瓷外殼，中段金屬屏蔽罩，設(shè)置在金屬屏蔽罩內(nèi)的上電極和下電極， 觸發(fā)電極，上電極金屬連桿，上電極法蘭盤(pán)，下電極金屬連桿以及下 電極法蘭盤(pán)；上電極法蘭盤(pán)與上段波紋狀陶瓷外殼連接，下電極法蘭 盤(pán)與下段波紋狀陶瓷外殼連接，再與金屬屏蔽罩共同構(gòu)成密閉殼體； 通過(guò)上段波紋狀陶瓷外殼連接上電極法蘭盤(pán)，以及通過(guò)下段波紋狀陶 瓷外殼連接下電極法蘭盤(pán)能有效提高上電極法蘭盤(pán)與下電極法蘭盤(pán)之 間的爬電距離
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種時(shí)間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的流場(chǎng)狀態(tài)測(cè)量方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種時(shí)間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的流場(chǎng)狀態(tài)測(cè)量方法，該方法包括如下步驟：首先，根據(jù)第 k+1 時(shí)刻圖像與第 k 時(shí)刻圖像之間的時(shí)間間隔Δt<sub>k</sub>，采集第 k+1 時(shí)刻圖像，并對(duì)第 k 時(shí)刻和第k+1 時(shí)刻的圖像進(jìn)行降噪處理；然后，據(jù) k 時(shí)刻圖像和第 k+1 時(shí)刻的圖像，采用粒子圖像測(cè)速方法，計(jì)算第 k+1 時(shí)刻的流場(chǎng)狀態(tài) X(k+1)，包括：位移場(chǎng) x(k+1)、速度場(chǎng) x′(k+1)、加速度場(chǎng) a(k+1)，并輸出顯示；最后，更新第 k+2 時(shí)刻與第
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種容三盤(pán)失效糾刪碼的單數(shù)據(jù)盤(pán)失效快速重建方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種容三盤(pán)失效糾刪碼的單數(shù)據(jù)盤(pán)失效快速重建 方法，包括：?jiǎn)螚l帶重建時(shí)將每個(gè)條帶的每個(gè)條帶單元?jiǎng)澐譃?p-1 個(gè) 子分塊，其中 p 為素?cái)?shù)，且滿(mǎn)足 p+2 等于 RAID 組中磁盤(pán)的數(shù)量,獲取 每個(gè)條帶中用于重建失效盤(pán)的子分塊的總數(shù)量 Rideal＝Rlow+w%，在 磁盤(pán)個(gè)數(shù)為 p+2 的陣列中，將失效盤(pán) i 失效的可行解值初始化為 3<sup>p-1</sup>，初始化計(jì)數(shù)器 j=0,用輾轉(zhuǎn)相
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于 I/O 流水線的失效節(jié)點(diǎn)數(shù)據(jù)重構(gòu)優(yōu)化方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于 I/O 流水線的失效節(jié)點(diǎn)數(shù)據(jù)重構(gòu)優(yōu)化方 法 ， 包 括 ： 從 糾 刪 碼 存 儲(chǔ) 集 群 中 的 存 活 節(jié) 點(diǎn) 中 任 選 k 個(gè) 節(jié) 點(diǎn) N1,N2,…,Nk，并初始化計(jì)數(shù)器 i＝0，j＝1，節(jié)點(diǎn) Nj 讀取其自身的分塊 Blocki,j，并將其發(fā)送到 Nj+1，并設(shè)置 j＝j(luò)+1，節(jié)點(diǎn) Nj 讀取其自身的 分塊 Blocki,j，并與接收自節(jié)點(diǎn) Nj-1 的分塊 Blocki,j-1 進(jìn)行線性組合計(jì)
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種兩性分子改性的鈣鈦礦光電功能材料及其應(yīng)用
本發(fā)明公開(kāi)了一種有機(jī)兩性分子改性的 MzAyBXz+y+2 鈣鈦礦 基光電功能材料，其特征在于，該功能材料是以 ABX3 鈣鈦礦材料為 基 體 ， 以 有 機(jī) 兩 性 分 子 M 為 改 性 成 分 ， 其 化 學(xué) 通 式 表 示 為 MzAyBXz+y+2。本發(fā)明還公開(kāi)了所述光電功能材料的制備方法及其應(yīng) 用。本發(fā)明所用的基體材料與改性材料成本低廉，原料豐富；此外， 制備方法可采用全溶液法，制備工藝簡(jiǎn)單，無(wú)需昂貴的設(shè)備儀器，同
華中科技大學(xué)
2021-04-14
一種基于體感技術(shù)的機(jī)器人離線示教編程系統(tǒng)及方法
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于體感技術(shù)的機(jī)器人離線示教系統(tǒng)，其包 括空間點(diǎn)位采集模塊，數(shù)據(jù)處理模塊和離線編程模塊，其中，空間點(diǎn) 位采集模塊用于完成機(jī)器人的示教過(guò)程，其通過(guò)體感設(shè)備識(shí)別和捕捉 人體肢體動(dòng)作，獲得肢體運(yùn)動(dòng)軌跡中的空間點(diǎn)位，以提供給數(shù)據(jù)處理模塊;數(shù)據(jù)處理模塊用于對(duì)所述空間點(diǎn)位進(jìn)行濾波和光順處理，獲得 適合機(jī)器人運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)軌跡，并將處理后的空間點(diǎn)位坐標(biāo)提供給離線 編程模塊;離線編程模塊用于對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡中的空間點(diǎn)的坐標(biāo)進(jìn)行坐標(biāo) 變換和后置處理，以生成機(jī)器人可以執(zhí)行的代碼，用于輸出至機(jī)器人 實(shí)現(xiàn)示教。本發(fā)明
華中科技大學(xué)
2021-04-14