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"以α-BaTeMo2O9為代表的含碲的化合物是一類(lèi)新型光電功能晶體，在偏光、聲光、拉曼等光學(xué)領(lǐng)域內(nèi)具有重要的應(yīng)用價(jià)值。此類(lèi)化合物具有透光寬，雙折射大，易生長(zhǎng)，物理化學(xué)穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)，是偏光和聲光器件的優(yōu)選材料。 山東大學(xué)在該系列晶體生長(zhǎng)和器件的研究方面具有獨(dú)立的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，可以生長(zhǎng)出大尺寸（≥50 x 50 x 100 mm3），高質(zhì)量（光學(xué)均勻性≤10-5）的單晶；并在器件的制作中突破了國(guó)際上單軸晶體的限制，偏振棱鏡消光比>30000:1，達(dá)到高質(zhì)量冰洲石器件水平；聲光調(diào)Q器件衍射效率>84%，高于同等條件下的TeO2器件。晶體生長(zhǎng)處于世界領(lǐng)先水平，器件設(shè)計(jì)具有國(guó)際、國(guó)內(nèi)專(zhuān)利，總體水平處于國(guó)際領(lǐng)先。該成果獲得教育部自然科學(xué)二等獎(jiǎng)，主要用于先進(jìn)光學(xué)及其電學(xué)領(lǐng)域，如醫(yī)療、軍事、激光加工、激光雷達(dá)、激光探測(cè)等。據(jù)統(tǒng)計(jì)，目前國(guó)內(nèi)聲光調(diào)制器件和偏光器件總產(chǎn)值約為2億元。而現(xiàn)有的材料已經(jīng)不能滿足相應(yīng)研究和產(chǎn)業(yè)的需求。作為新型光電功能晶體及其器件，在滿足現(xiàn)有要求的基礎(chǔ)上，填補(bǔ)了此類(lèi)材料和器件在中紅外波段內(nèi)的國(guó)際空白。此外，獨(dú)立的知識(shí)產(chǎn)權(quán)有利于產(chǎn)品推廣，具有重要的社會(huì)和經(jīng)濟(jì)效益。 "

磷化銦基集成高速光開(kāi)關(guān)芯片

其他成果/n本發(fā)明提供一種防泥水的輪輞驅(qū)動(dòng)裝置及汽車(chē)，所述防泥水的輪輞驅(qū)動(dòng)裝置包括電機(jī)、輪系支座和輪轂。所述電機(jī)具有機(jī)殼和動(dòng)力輸出軸。所述輪系支座安裝于所述機(jī)殼外側(cè)，所述輪系支座設(shè)有安裝腔，所述安裝腔內(nèi)安裝有二級(jí)行星齒輪減速器，所述電機(jī)的動(dòng)力輸出軸連接于所述二級(jí)行星齒輪減速器。所述輪轂凹設(shè)形成有容納腔，所述電機(jī)的一端、所述輪系支座、以及所述二級(jí)行星齒輪減速器伸入所述容納腔設(shè)置，所述二級(jí)行星齒輪減速器連接于所述容納腔的底壁，所述容納腔形成有脫泥段，所述脫泥段沿朝向所述電機(jī)的方向呈擴(kuò)大設(shè)置。本發(fā)明能避免泥水進(jìn)入二級(jí)行星齒輪減速器內(nèi)而導(dǎo)致二級(jí)行星齒輪減速器發(fā)生損壞。

其他成果/n一種高性能的輪輞驅(qū)動(dòng)裝置和汽車(chē)，所述高性能的輪輞驅(qū)動(dòng)裝置包括電機(jī)、輪系支座、輪轂和多個(gè)連接軸承。所述電機(jī)具有機(jī)殼和動(dòng)力輸出軸。所述輪系支座安裝于所述機(jī)殼外側(cè)，所述輪系支座設(shè)有安裝腔，所述安裝腔內(nèi)安裝有二級(jí)行星齒輪減速器，所述動(dòng)力輸出軸連接于所述二級(jí)行星齒輪減速器。所述輪轂凹設(shè)形成有容納腔，所述機(jī)殼、所述輪系支座、以及所述二級(jí)行星齒輪減速器均伸入所述容納腔設(shè)置。所述多個(gè)連接軸承均連接于所述輪轂的內(nèi)側(cè)壁和所述輪系支座的外側(cè)壁之間，所述多個(gè)連接軸承的其中之一用以沿該所述連接軸承的徑向正對(duì)輪輞的中心孔的內(nèi)側(cè)面設(shè)置。本發(fā)明能降低二級(jí)行星齒輪減速器承受的彎矩。

項(xiàng)目以高瓦斯突出礦井為研究對(duì)象，將瓦斯作為地質(zhì)體的組成部分，運(yùn)用地質(zhì)學(xué)及其相關(guān)學(xué)科的理論與方法，從研究瓦斯形成、賦存、涌出、突出及控制因素與突出機(jī)理等入手，配合大量測(cè)試，重點(diǎn)研究采前煤層瓦斯含量大小，工作面瓦斯涌出量大小及煤與瓦斯突出危險(xiǎn)性預(yù)測(cè)的技術(shù)難題，以及采前與采中瓦斯涌出與突出的治理問(wèn)題。該成果經(jīng)陜西省科技廳鑒定為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平，獲陜西省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步三等獎(jiǎng)。成果先后在陜西韓城、銅川、河北邢臺(tái)、寧夏石嘴山及四川南桐等礦區(qū)得到應(yīng)用，在礦井瓦斯預(yù)測(cè)防治中取得了良好應(yīng)用。

本發(fā)明涉及遙感定標(biāo)綜合方法及一種定標(biāo)設(shè)備車(chē)。本發(fā)明將定標(biāo)設(shè)備集成為車(chē)載系統(tǒng)；建立了一套新型移動(dòng)式靶標(biāo),可進(jìn)行遠(yuǎn)場(chǎng)快速定標(biāo)和光譜、輻射分辨率聯(lián)合定標(biāo)；通過(guò)不同時(shí)相對(duì)比分析遙感影像上硬性靶標(biāo)與常規(guī)軟性靶標(biāo)的光譜、輻射、凡何差異,建立軟性靶標(biāo)效能退化補(bǔ)償模型實(shí)現(xiàn)校正標(biāo)定車(chē)體配備的信息接收裝置可實(shí)時(shí)接收空中飛行器影像和地面采集數(shù)據(jù),實(shí)現(xiàn)基于無(wú)線傳輸?shù)膸缀巍r(shí)相數(shù)據(jù)與車(chē)體光譜、輻射數(shù)據(jù)組合的四種分辨率聯(lián)合定標(biāo)運(yùn)用高性能計(jì)算機(jī)分析處理。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種無(wú)人機(jī)路徑規(guī)劃方法及裝置，該方法包括：獲取示教軌跡集，根據(jù)所述示教軌跡集得到合格軌跡集，所述示教軌跡集是專(zhuān)家在控制無(wú)人機(jī)完成源任務(wù)時(shí)得到的無(wú)人機(jī)在空間中運(yùn)動(dòng)的軌跡，所述合格軌跡集為所述示教軌跡中滿足預(yù)設(shè)條件的軌跡

為滿足光電通訊、光學(xué)、信息等產(chǎn)業(yè)中小口徑非球面光學(xué)玻璃透鏡模具產(chǎn)業(yè)化的需求，研制了小口徑非球面光學(xué)玻璃透鏡模具超精密數(shù)控復(fù)合機(jī)床,具備納米級(jí)精度斜軸鏡面納米磨削、斜軸磁流變研拋、在線測(cè)量補(bǔ)償加工等功能，為小口徑非球面光學(xué)透鏡模具的產(chǎn)業(yè)化制造提供可靠的裝備支撐。分辨率10nm，主軸回轉(zhuǎn)精度50nm；加工對(duì)象為微小非球面透鏡及模具；加工口徑10mm以下；加工面形狀精度：PV小于300nm ，工件表面粗糙度小于Ra10nm。應(yīng)用領(lǐng)域包括集成電路（IC）、發(fā)光二極管（LED）、光學(xué)光電、MEMS、NTC、塑封件（QFN、BGA）、電子陶瓷、通訊、醫(yī)療器械等，能切割硅晶圓、砷化鎵、陶瓷、石英、PCB板、LED芯片、玻璃、鈮酸鋰、氧化鋁、藍(lán)寶石等。GUI交互界面。具備接觸式測(cè)高及非接觸式測(cè)高，刀痕檢測(cè)，具有切割深度自動(dòng)補(bǔ)償，刀片破損補(bǔ)償功能，能保證切割質(zhì)量。

一、 項(xiàng)目簡(jiǎn)介本項(xiàng)目是為了解決光電器件最好襯底材料之一藍(lán)寶石襯底材料拋光液在拋光過(guò)程中存在的襯底片表面去除速率低、粗糙度高、易劃傷等問(wèn)題，而研發(fā)一種化學(xué)作用強(qiáng)、去除速率快、表面粗糙度低、無(wú)劃傷、成本低，且不污染環(huán)境及腐蝕設(shè)備的藍(lán)寶石襯底材料拋光液及制備方法。本項(xiàng)目采用具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的多功能螯合劑作為pH調(diào)節(jié)劑,同時(shí)又可起到緩沖劑、磨料穩(wěn)定劑、絡(luò)合及螯合的作用，實(shí)現(xiàn)反應(yīng)劑一劑多用，降低成本。二、 項(xiàng)目技術(shù)成熟程度經(jīng)20多家中外企業(yè)使用表明，該拋光液性能穩(wěn)定、速率快，可一次或循環(huán)使用，目前可批量生產(chǎn)和應(yīng)用。三、 技術(shù)指標(biāo)（包括鑒定、知識(shí)產(chǎn)權(quán)專(zhuān)利、獲獎(jiǎng)等情況）加工去除速率>5μm/h，表面粗糙度可降至Ra:0.1～0.3nm。天津市科學(xué)技術(shù)委員會(huì)鑒定結(jié)論：國(guó)際領(lǐng)先，已獲國(guó)家發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)6項(xiàng)，美國(guó)發(fā)明專(zhuān)利1項(xiàng)。四、 市場(chǎng)前景（應(yīng)用領(lǐng)域、市場(chǎng)分析等）隨著光電技術(shù)的飛速發(fā)展，光電產(chǎn)品對(duì)藍(lán)寶石襯底需求量日益增加，開(kāi)發(fā)新型的拋光液及拋光技術(shù)，提高光電器件用襯底加工質(zhì)量，以推進(jìn)冷光源的應(yīng)用進(jìn)程及節(jié)能減排的有效實(shí)施，并可用于國(guó)防、儀器儀表、紅外窗口等領(lǐng)域，因此，市場(chǎng)前景廣泛，也可為國(guó)家光電子工業(yè)發(fā)展起到很好的促進(jìn)作用。五、 規(guī)模與投資需求（資金需求、場(chǎng)地規(guī)模、人員等需求）年產(chǎn)量5000噸的生產(chǎn)規(guī)模投資為約3000萬(wàn)元，需千級(jí)以上超凈化廠房。六、 生產(chǎn)設(shè)備低壓真空系統(tǒng)、百級(jí)超凈車(chē)間、去離子水系統(tǒng)等七、 效益分析隨著國(guó)家對(duì)節(jié)能減排任務(wù)的提出及對(duì)LED產(chǎn)業(yè)的大力支持，藍(lán)寶石襯底片需求量越來(lái)越大，CMP超精密表面加工拋光液的需求量也越來(lái)越大，因此此項(xiàng)目具有很大的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益潛力，價(jià)格僅為進(jìn)口產(chǎn)品的1/3，效益顯著。八、 合作方式以產(chǎn)學(xué)研用的合作模式，把研發(fā)出的產(chǎn)品與技術(shù)轉(zhuǎn)化為生產(chǎn)力，如可提供技術(shù)服務(wù)與支持、經(jīng)銷(xiāo)公司代銷(xiāo)售等。九、 項(xiàng)目具體聯(lián)系人及聯(lián)系方式（包括電子郵箱）劉玉嶺，13602103962，liuyl@jingling.com.cn十、高清成果圖片2-3張      

織構(gòu)化表面在不改變材料本身的情況下，可獲得特殊的表面性能。近年來(lái)，隨著摩擦學(xué)理論和實(shí)驗(yàn)研究的深入，織構(gòu)表面作為改變機(jī)械摩擦性能的可控技術(shù)近年來(lái)受到國(guó)內(nèi)外學(xué)者的廣泛重視，摩擦副表面上規(guī)則表面形貌幾何造型的設(shè)計(jì)、加工、試驗(yàn)以及數(shù)值分析日益成為研究的熱點(diǎn)，針對(duì)摩擦學(xué)材料表面織構(gòu)化的研究越來(lái)越多。 本項(xiàng)目運(yùn)用平均流量雷諾方程建立圓坑織構(gòu)表面微流體動(dòng)壓模型。分析了無(wú)限大摩擦接觸面織構(gòu)參數(shù)對(duì)流體動(dòng)壓潤(rùn)滑影響，并提供了新的優(yōu)化方法。 本項(xiàng)目可運(yùn)用電化學(xué)法、掩膜壓印法和激光加工等方法高效的制備大面積織構(gòu)表面。圖1為電化學(xué)法制備的圓坑表面。