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產品詳細介紹 　　遠程操控 　　液晶一體機、電腦、平板、手機多屏互動，讓遠程遙控演示更輕松。 　　支持移動終端 　　大小屏互動，支持在移動終端操控PC。 　　Android IOS同樣支持 　　還全面支持Android IOS平臺的移動終端。 　　小屏傳大屏 　　運用高科技，小屏傳大屏，支持移動終端傳輸到大屏顯示。 　　免校正 免驅動 　　支持免校正功能，用戶可以直接使用。 　　演示好幫手 　　直接使用相關移動產品控制PPT演示及標注。

產品詳細介紹數碼變容量風冷多聯機組 型號：MDS030AR~MDS080AR 制冷量：8.5~22.5kW 制熱量：9~25kW 制冷劑：HCFC-22    產品特點： ■MDS 數碼變容量系統采用先進的制冷系統設計，經過嚴格的系統匹配和測試，制冷制熱強勁，無論在高 達48℃ 的高溫天氣制冷，還是在-15℃ 的嚴寒氣候制熱，MDS 數碼變容量系統均能保持正常的運行。 ■MDS 數碼變容量系統擁有優秀的季節能效比，機組僅需耗少量電便能制出更多的冷熱量，相比一般系統 每年可節省約40% 的電費。 ■MDS 數碼變容量室內機從0.8HP 到6HP 有多種容量可供選擇，滿足大大小小的空調房間的舒適要求； 同時室內機組的形式選擇多樣，可與現代家居裝飾完美結合。 ■MDS 數碼變容量系統在進行容量調節時只是精密部件的簡單位移，不會產生高頻諧波，更不會對高保真 音響、電腦等家電設備產生干擾，還可廣泛應用于對電源抗干擾要求很高的計算機房、電視廣播接收站 以及通訊機房等場所。 ■MDS 數碼變容量系統室外機組采用整體式設計，機組結構緊湊，占用空間小，搬運輕松。MDS 數碼變 容量系統由于控制裝置簡單，最大程度的降低了系統故障率，即便發生故障，必須檢查與維修的零部件 數量也很少，故維修方便。 ■產品通過3C 中國強制認證。

首次 實現 將水汽遷移反應與費托合成反應成功 耦合 ， 構建了水汽遷移反應活性中心 Pt-Mo 2 C/C 和費托合成反應活性中心 Ru/C 。將兩種催化劑 進行簡單的物理混合，通過調節兩種活性中心的 結構和 比例調控各自的反應速率。 實現了在低溫 200 o C 的條件下，將 CO 和水 一步 直接轉化制備油品的過程 。 該過程中費托反應的活性高達 8.7 mol -CH2-  mol Ru -1  h -1 ，與在合成氣（ H 2 /CO=2 ） 條件下 Ru/C 催化劑 的費托活性相當，且費托產物中 C5+ 油相產物的選擇性接近 70% 。 對比雙金屬催化劑 RuPt-Mo 2 C/C 和物理混合催化劑的結果，發現兩種活性金屬 Pt 和 Ru 的結合形式在催化反應中起了十分重要的影響。當 Pt 和 Ru 形成 PtRu 合金后會同時削弱 WGS 和 FTS 兩個反應的的活性，進而打破兩個反應之間的動力學平衡。而當兩種活性中心分別作用的時候則剛好使兩個反應的動力學速率達到平衡，實現最優的 CO 和水轉化制備油品的活性和選擇性。

一種Al2O3-SiC泡沫陶瓷及其制備方法。其技術方案是：將60——85wt％的α-Al2O3、5——15wt％的碳源和10——30wt％的單質硅混合，制得混合料。將100份質量的所述混合料、0.5——2份質量的木質素磺酸銨和0.1——0.6份質量的聚羧酸鹽混合，再與20——30份或30——40份質量的水一起攪拌，制得漿體Ⅰ或漿體Ⅱ。將聚氨酯海綿浸入到漿體Ⅰ中，浸漬后擠壓或甩漿，干燥，得到預處理的泡沫陶瓷坯體；再用漿體Ⅱ進行噴涂，干燥，得到泡沫陶瓷坯體。將所述泡沫陶瓷坯體置入高溫爐內，于埋炭氣氛下，依次以1.5——2.5℃/min、0.5——1℃/min和2.5——3.5℃/min的速率升溫至1300——1500℃，保溫2.5——3.5h，即得Al2O3-SiC泡沫陶瓷。本發明制備的制品強度高、抗氧化性能好和抗熱震性能優良。 （注：本項目發布于2015年）

LT 灰中主要含有鐵氧化物（磁鐵礦與赤鐵礦）和硅酸鹽（鐵橄欖石和鈣鐵輝石、透輝石），它們物性差異較大，比磁化率在不同量級，利用其物性差異通過強磁場將鐵氧化物和硅酸鹽等雜質分離，實現氧化鐵的富集與提取。提取后的氧化物再經過低溫改性，即可制備α-Fe 2 O 3 產品。

產品詳細介紹迷你型氧氣傳感器O2S-XX-T3   一、產品簡介： 氧氣傳感器采用兩個氧化鋯盤，在其中間是一個密封空間。其中一個盤起的功能是可逆氧氣泵，依次充滿樣品氣和抽空此小空間。另一個盤用于測量氧分壓差比率，得到相對應的傳感電壓。氧化鋯盤作為氧氣泵運行時，需要的700 °C 的溫度由加熱元件產生。氧氣泵使小空間范圍內達到額定的最小和最大壓力所花的時間和環境中氧分壓值具有對應關系。   二、產品特性： 1)       非消耗性的氧化鋯傳感元件 2)       氧壓范圍 2 mbar...3 bar 3)       高穩定性和精度，可測量0…100% 氧 4)       對于其他氣體無交叉干擾 5)       無需溫度穩定 6)       內置加熱元件 7)       加熱器電壓： 4.35 ±0.1 VDC (1.85 A) 8)       允許氣體溫度： -100...250 °C ；   三、產品參數 特性 最小 典型 最大 單位 氧壓范圍 2   3000 mbar 精度      5 操作溫度（O2S-T3）   700（4.00V）   °C 操作溫度（O2S-FR-T3）   700（4.35V）     響應時間(10-90%，O2S-T3)      15 S 響應時間(10-90%，O2S-FR-T3)     4 預熱時間(s)      100 預熱時間（從準備開始s）      20   四、典型應用： 排放控制 - 柴油機/鍋爐/加熱系統；生物能源/生物氣；醫療；空氣質量監控MOT 車檢排放測試設備；堆制肥料；農業；水果或氧氣敏感型食物運輸；OBOGS(機上氧氣發生器)； OBIGGS(機上惰性氣體發生器)；儀器儀表生產商    

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）； 極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。