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以混合自適應(yīng)人工智能優(yōu)化程序設(shè)計(jì)出亞波長(zhǎng)單晶硅超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了相位的精確控制并減小了單晶硅結(jié)構(gòu)在可見(jiàn)光的吸收。進(jìn)一步使用該結(jié)構(gòu)演示了浸鏡油浸沒(méi)下數(shù)值孔徑為1.48的高透過(guò)率超構(gòu)光學(xué)透鏡。

中協(xié)高靈敏擴(kuò)聲系統(tǒng)融合了二合一桌麥、新型隱藏麥、吊麥、手持麥和手機(jī)麥多種擴(kuò)聲手段，融合先進(jìn)的高靈敏擴(kuò)聲技術(shù)，拾音距離廣，為高校教學(xué)創(chuàng)造更加高效、便捷、靈活的擴(kuò)聲環(huán)境，有效滿(mǎn)足現(xiàn)代教學(xué)對(duì)聲音處理的需求。

本發(fā)明屬于金屬材料表面改性技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種通過(guò)表面引發(fā)聚合在金屬材料表面接枝陰離子型共聚物的方法。本發(fā)明采用表面引發(fā)聚合技術(shù)，首先將引發(fā)劑錨固到金屬材料表面，隨后加入陰離子型單體和共聚單體，通過(guò)表面熱/光引發(fā)聚合反應(yīng)制備得到陰離子型共聚物修飾的金屬材料。本發(fā)明具有操作簡(jiǎn)便、反應(yīng)條件溫和等優(yōu)點(diǎn)，通過(guò)該方法接枝在金屬材料表面的聚合物層穩(wěn)固、均勻且化學(xué)結(jié)構(gòu)易調(diào)，從而拓寬了其在醫(yī)療器械、電子能源、航空航天等領(lǐng)域的應(yīng)用前景。

本發(fā)明公開(kāi)了一種快速成形自動(dòng)鋪粉機(jī)構(gòu)，包括成形腔體，所 述成形腔體內(nèi)設(shè)置有成形工作臺(tái)及安裝在成形工作臺(tái)上的動(dòng)力裝置， 動(dòng)力裝置上連接有由其驅(qū)動(dòng)移動(dòng)的刮刀，所述動(dòng)力裝置上連接有管道， 所述管道穿過(guò)成形腔體后連接有動(dòng)力泵，所述動(dòng)力裝置為氣缸或液壓 缸。本發(fā)明受溫度、粉塵影響較小，采用流體作為動(dòng)力傳輸介質(zhì)，而 且本鋪粉機(jī)構(gòu)工作時(shí)只有動(dòng)力裝置處于環(huán)境較差的成形腔體內(nèi)，所以 成形腔體內(nèi)的高溫環(huán)境和粉末的揮發(fā)與飛濺對(duì)鋪粉機(jī)構(gòu)的影響較小； 本發(fā)明可靠性高：因?yàn)椴捎昧黧w傳動(dòng)后，鋪粉機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且 還具有了耐高溫、防粉塵和過(guò)載保護(hù)的能力，所以鋪粉機(jī)構(gòu)的可靠性 得到了很大的提高。

本發(fā)明公開(kāi)了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方 法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂 一層負(fù)性光刻膠，不用掩膜進(jìn)行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負(fù)性光刻 膠上旋涂一層負(fù)性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進(jìn)行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光 刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對(duì)應(yīng)的掩模進(jìn)行套刻曝光；(4)顯影： 將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進(jìn)行顯影；(5)鍍保護(hù)層膜：在步驟(4)中得 到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護(hù)膜；(6)剝離：將經(jīng)過(guò)步驟(5)處理后得到的 結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按照本發(fā)明的 制備方法，工藝簡(jiǎn)單，成本低廉，對(duì)該柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)的普及 應(yīng)用具有極大的促進(jìn)作用。 

本發(fā)明公開(kāi)了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂一層負(fù)性光刻膠，不用掩膜進(jìn)行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負(fù)性光刻膠上旋涂一層負(fù)性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進(jìn)行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對(duì)應(yīng)的掩模進(jìn)行套刻曝光；(4)顯影：將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進(jìn)行顯影；(5)鍍保護(hù)層膜：在步驟(4)中得到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護(hù)膜；(6)剝離：將經(jīng)過(guò)步驟(5)處理后得到的結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按

X射線管是X射線成像系統(tǒng)最為核心的部件。現(xiàn)有的X射線管存在啟動(dòng)速度慢、工作溫度高、獲取高分辨率困難、輻射損傷大、功耗高、無(wú)法實(shí)現(xiàn)對(duì)運(yùn)動(dòng)物體同步成像、無(wú)法實(shí)現(xiàn)劑量和能量分別可控等致命缺點(diǎn)，無(wú)法滿(mǎn)足下一代X射線成像系統(tǒng)的基本要求。特別地，現(xiàn)在的CT球管存在生產(chǎn)成本高昂的缺點(diǎn)、壽命非常短，對(duì)人的輻射傷害非常大等缺點(diǎn)，嚴(yán)重阻礙了CT成像系統(tǒng)的發(fā)展。 本項(xiàng)目成果采用獨(dú)有的兼?zhèn)涓唠娏髅芏群痛蟀l(fā)射電流的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射陣列為電子源，并設(shè)計(jì)了高效的柵極結(jié)構(gòu)和精細(xì)的聚焦透鏡的電子槍?zhuān)苽涑鼍哂袆潟r(shí)代的意義的高速碳納米管X射線管及碳納米管CT球管，具有快速啟動(dòng)、超低劑量輻射、高分辨率、低功耗、運(yùn)動(dòng)閃拍等傳統(tǒng)X射線管無(wú)法實(shí)現(xiàn)的性能，可滿(mǎn)足新一代CT設(shè)備或全數(shù)字X光透射成像設(shè)備中快速啟動(dòng)、高速響應(yīng)、與運(yùn)動(dòng)物體同步、高分辨率、X射線劑量和能量可控等要求，進(jìn)而推動(dòng)整個(gè)CT產(chǎn)業(yè)和全數(shù)字X光成像設(shè)備步入全新的發(fā)展階段。 應(yīng)用領(lǐng)域及在該領(lǐng)域的特色和先進(jìn)性： 1.醫(yī)學(xué)成像領(lǐng)域：本項(xiàng)目成果應(yīng)用于CT成像系統(tǒng)時(shí)可以實(shí)現(xiàn)快怕功能，有效X射線的劑量不到現(xiàn)有CT機(jī)的10%，對(duì)人體的損害降低了10倍以上，并且分辨率更高，超低功耗。特別地，在運(yùn)動(dòng)器官檢測(cè)領(lǐng)域和乳腺CT中和有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。 2.無(wú)損探測(cè)領(lǐng)域：本項(xiàng)目可以非常容易實(shí)現(xiàn)超高分辨率檢測(cè)，可以實(shí)現(xiàn)100nm至30um的納焦點(diǎn)和微焦點(diǎn)超高分辨率X射線管。 技術(shù)指標(biāo)：?jiǎn)?dòng)時(shí)間小于10ns；最高快拍頻率1MHz；分辨率；微納焦點(diǎn)X射線管：100nm-30微米；大功率高分辨X射線管：0.1mm；CT球管：0.6mm；最高耐壓 120kV；最大電流密度 2.5A/cm2；最大束流：500mA；靶傾角：5°~20°；壽命 5萬(wàn)次完整拍照 本項(xiàng)目產(chǎn)品已經(jīng)解決產(chǎn)業(yè)化的關(guān)鍵問(wèn)題。可以擺脫國(guó)外對(duì)我國(guó)在高端X射線成像領(lǐng)域的壟斷，使我國(guó)X射線成像領(lǐng)域步入世界先進(jìn)行列。

X射線管是X射線成像系統(tǒng)最為核心的部件。現(xiàn)有的X射線管存在啟動(dòng)速度慢、工作溫度高、獲取高分辨率困難、輻射損傷大、功耗高、無(wú)法實(shí)現(xiàn)對(duì)運(yùn)動(dòng)物體同步成像、無(wú)法實(shí)現(xiàn)劑量和能量分別可控等致命缺點(diǎn)，無(wú)法滿(mǎn)足下一代X射線成像系統(tǒng)的基本要求。特別地，現(xiàn)在的CT球管存在生產(chǎn)成本高昂的缺點(diǎn)、壽命非常短，對(duì)人的輻射傷害非常大等缺點(diǎn)，嚴(yán)重阻礙了CT成像系統(tǒng)的發(fā)展。 本項(xiàng)目成果采用獨(dú)有的兼?zhèn)涓唠娏髅芏群痛蟀l(fā)射電流的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射陣列為電子源，并設(shè)計(jì)了高效的柵極結(jié)構(gòu)和精細(xì)的聚焦透鏡的電子槍?zhuān)苽涑鼍哂袆潟r(shí)代的意義的高速碳納米管X射線管及碳納米管CT球管，具有快速啟動(dòng)、超低劑量輻射、高分辨率、低功耗、運(yùn)動(dòng)閃拍等傳統(tǒng)X射線管無(wú)法實(shí)現(xiàn)的性能，可滿(mǎn)足新一代CT設(shè)備或全數(shù)字X光透射成像設(shè)備中快速啟動(dòng)、高速響應(yīng)、與運(yùn)動(dòng)物體同步、高分辨率、X射線劑量和能量可控等要求，進(jìn)而推動(dòng)整個(gè)CT產(chǎn)業(yè)和全數(shù)字X光成像設(shè)備步入全新的發(fā)展階段。

通用X-射線DR成像系統(tǒng)Digital Radiography數(shù)字射線成像DR發(fā)展趨勢(shì)國(guó)外:幾乎全部數(shù)字化(發(fā)達(dá)國(guó)家)國(guó)內(nèi):大醫(yī)院3甲級(jí) 多數(shù)市級(jí)醫(yī)院進(jìn)行了裝備,廣大基層醫(yī)院尚待裝備,目前仍是膠片為主DR的優(yōu)點(diǎn)（與膠片成像相比）:數(shù)字化圖像，易存檔。可遠(yuǎn)距離數(shù)據(jù)傳輸，交換。用于邊遠(yuǎn)地區(qū)，遠(yuǎn)距離會(huì)診。無(wú)環(huán)境污染，無(wú)廢水排放。可即時(shí)查看結(jié)果，利于診斷治療。每張圖片的成本低。降低醫(yī)療成本。DR使用CMOS/CCD圖像傳感器的技術(shù)特點(diǎn)：高靈敏度：至少比膠片的劑量低一半到1/4高分辨率：14”x17”分辨率可達(dá)5Lp/mm高集成度：一幅圖片目前已可達(dá)14兆像素動(dòng)態(tài)范圍：12bit低成本：通常是CCD的1/3-1/5 平板DR的1/10低功耗：約是CCD的1/10低噪聲：約650uV本方案介紹：特別設(shè)計(jì)的高效組合轉(zhuǎn)換屏具有高效率高分辨率適用于不同的人體部位。透鏡組為專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)加工的高收集效率的透鏡組。光電轉(zhuǎn)換器為高靈敏度的CMOS圖像器件。本系統(tǒng)的特點(diǎn)：通用DR成像系統(tǒng),適用于各種類(lèi)型X光機(jī).而且價(jià)格便宜,質(zhì)量不抵于目前市場(chǎng)所銷(xiāo)售的DR系統(tǒng).克服目前流行的DR的不足,改進(jìn)了光學(xué)系統(tǒng),提高了分辨率,發(fā)光效率和耐射線輻射能力.達(dá)到了全幅圖像600-1400萬(wàn)像素的高精度和3-5線對(duì)/毫米的分辨率.技術(shù)指標(biāo)不低于任何世界現(xiàn)有技術(shù)。技術(shù)投資成本低。不涉及X-射線機(jī)工作狀態(tài),任何原有X-射線機(jī)都可匹配本項(xiàng)目技術(shù)使用。（X-射線強(qiáng)度太低有困難）隨著技術(shù)的發(fā)展,本項(xiàng)目技術(shù)可發(fā)展為:車(chē)載、移動(dòng)、連續(xù)檢測(cè)等,同樣也可用于其它有關(guān)技術(shù)

該平臺(tái)通過(guò)X-LAB數(shù)據(jù)采集與分析軟件、測(cè)控中心、傳感器組件、應(yīng)用模塊四大部分組合，為大學(xué)物理、光電技術(shù)、電子技術(shù)、傳感器技術(shù)等相關(guān)專(zhuān)業(yè)實(shí)驗(yàn)實(shí)訓(xùn)教學(xué)、課程設(shè)計(jì)、畢業(yè)設(shè)計(jì)、學(xué)科競(jìng)賽、課外科技創(chuàng)新活動(dòng)等，構(gòu)建工程創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)實(shí)訓(xùn)體系。