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目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。   利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：   在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。

成果描述：癲癇是一種由于神經元異常放電所致的反復發作的慢性綜合征，為常見疾病，全球患病率約5‰～10‰，每年每萬人中約有20～70個新發病例。除部分患者能通過手術等方式針 對病因進行治療外，大部分患者需要長期服用抗癲癇藥物(Antiepileptic Drugs, AEDs)。雖然目前世界上批準上市的AEDs超過20種，但現有AEDs單藥或聯合治療后，仍有約1/3的患者呈現藥物抵抗，為難治性癲癇，因此藥品研發人員一直在致力于開發新的抗癲癇藥。2012年10月美國FDA批準了一種新型口服抗癲癇藥吡侖帕奈(perampanel)。 吡侖帕奈是第一個被批準上市的AMPA受體拮抗劑AEDs，臨床試驗已證實其在輔助治療癲癇部分發作方面有明確的臨床療效，為難治性癲癇患者提供了一個新的用藥選擇。目前，國內多家一線藥企已經開始在國內申報新藥批件。 技術目前處于國內領先水平。由于其原料藥制備工藝復雜，原料成本昂貴，從而對開發工作及市場拓展帶來一系列困難。經過研發團隊的攻關，使用新型催化劑，極大地降低了原料及生產成本，并已經進入小批量化生產。目前，是國內唯一的關鍵中間體供應商，客戶包括國內四家一線藥企，并出口進入國際市場，完成了相關的國外DMF文件注冊。市場前景分析：全球患病率約為5‰～10‰，每年每萬人中約有20～70個新發病例[1]。除部分患者能通過手術等方式針對病因進行治療外，大部分患者需要長期服用抗癲癇藥物。與同類成果相比的優勢分析：HPLC>99%,國內先進。

隨著機器學習與人工智能的發展，傳統的CPU已經無法滿足大規模神經網絡訓練的需要。在當前機器學習與神經網絡的熱潮下，美國互聯網和IC巨頭紛紛推出自己的神經網絡/人工智能芯片，搶占這一未來市場。我們研發的神經網絡/人工智能芯片可以驗證多種深度學習算法及應用，具有完全自主知識產權，是將來可以挑戰美國人工智能芯片領域的一個重要突破。

柔性電子紙顯示具有低功耗、輕薄、可讀性強等優勢，廣泛應用于戶外顯示、廣告牌、電子價簽、電 子書閱讀器等，其中彩色化、快速響應電子紙為主要的技術難點；瞄準此一趨勢，本團隊近年來對電子紙 顯示相關材料、工藝、驅動和系統集成進行了系統的研究，主要工作包括： （1）材料端：黑白/彩色粒子帶電修飾、電子墨水配方調制、微膠囊的合成； （2）工藝端：膠囊涂布液調配/涂布/成膜工藝、防水氧封裝、介電層改性； （3）驅動/系統集成端：驅動波形設計、基于機器學習的殘影識別、大尺寸電子屏幕拼接技術。 在此基礎上，目前已實現快速響應的電子紙膜片制備（響應時間比傳統提升80%以上）和基于轉印工 藝的全彩化彩色電子紙（三個亞像素的色域達到NTSC 13.7%，四個亞像素的色域達到NTSC 6.04%，高于 彩色濾光膜法3.14%）；在應用端，完成了大尺寸柔性彩色電子紙樣機demo（31英寸），在后期的應用場 景上，還將包含電子紙藝術品裝飾、可拉伸及紙基電子紙的制備，逐步建立起從材料、工藝、驅動系統到 器件應用的一體化產業規劃。目前，相關技術積累已完成一項國家高技術研究發展計劃（863計劃）

"該項目基于虛擬現實技術，還原現場真實三維場景，綜合集成物聯網、大數據等現代信息技術，在“真實”的三維環境中，實現數據的“所見即所得”及各種交互式應用。三維可視化綜合管理平臺包括： 1）三維數字化工廠；2）三維可視化生產運行管理系統；3）三維可視化設備管理系統——特種設備管理系統；4）三維可視化設備管理系統——管線管理系統；5）三維可視化設備管理系統——通用設備管理系統；6）設備健康管理——設備運行仿真與優化，設備運行狀態監測，故障診斷與預測；7）三維可視化安全管理——三維數字化應急預案，應急預案模擬演練，警示教育與事故再現；8）交互式技能培訓。 “三維可視化綜合管理平臺”用戶已達20多家，其中很多是長期客戶，用戶涵蓋石油、化工、鋼鐵、電力、鐵路、水利、民航、機械制造、軍事、教育、智慧城市（園區）等行業，合同額1000多萬元。隨著“中國制造2025”戰略的實施，智能制造、智能工廠建設已開始全面啟動，“三維可視化綜合管理平臺”的市場前景將越來越廣闊。 "

聚合物多孔材料在高技術領域有可觀的應用前景，如作為有機合成催化劑載體、生物組織工程支架等。通過高內相乳液模板法（HIPEs）制備的聚合物多孔材料具有孔徑和孔容積可調等優點，是極具工業價值的一種技術。但前人的工作都基于乳液經典理論：Bancroft規則即水包油型的乳液只能采用水溶性的乳化劑，油包水型的乳液只能采用油溶性的乳化劑，這嚴重限制了以高內相乳液為模板制成的聚合物多孔材料的直接應用，迫使其在使用前必須經由復雜的表面功能化；且傳統方法在制備穩定高內相乳液時，乳化劑占有機相5-70 wt%，大大增加了高內相乳液制備成本，并造成環境污染。本項目以一步法制備功能化聚合物多孔材料及降低HIPEs制備過程乳化劑用量為技術特點，以僅占有機相0.8 wt% 的水溶性乳化劑為穩定劑，獲得穩定的、水相體積分數達96.3vol% 的油包水型高內相乳液，并聚合得到功能化聚苯乙烯-二乙烯基苯基多孔材料。該多孔材料已成功地用作有機合成的微反應器和催化劑載體，避免了高毒性有機錫類催化劑的使用，為聚合物多孔材料在綠色化學工業中直接應用提供新的途徑。

本發明公開了一種自動化數據挖掘預處理方法，其特征在于， 包括：建立數據庫和預處理規則庫，在該數據庫中新建數據表且標準 化命名，將待預處理數據進行抽樣后導入新建數據表中，同時對抽樣 后的預處理數據的每一個字段的值進行數理統計；提取數據表的關鍵 字 A、B 和 C，在預處理規則庫中查詢是否存在這些關鍵字，如果不 存在則將數據表的關鍵字和所有字段添加到預處理規則庫中，然后采 用分箱法和數據平滑法對所有預處理數據進行處理，以生成新的規則， 并將其添加到原有規則庫中。本發明通過對預處理結果進行評分和反 饋，調整字段映射函數，提高預處理的質量。

法拉第激光是一種新型的利用鉀、銣、銫原子譜線等作為量子頻率參考的半導體激光器，它采用法拉第原子濾光技術，實現輸出波長與原子多普勒譜直接相對應，擺脫外界振動、溫度變化和電流波動對輸出激光波長頻率的干擾，摒棄了復雜的鎖頻系統。

小型化高穩定度光頻原子鐘是一項結合小體積和高穩定度優點的時頻計量科學儀器設備，性能指標超越傳統微波原子鐘，基于創新性的研究方案，克服了光晶格鐘和離子光鐘普遍存在的體積龐大、系統復雜的問題，具有巨大的應用前景和產業化能力。該項目已實現基于鈣、銣、銫不同原子體系的小型化高穩定度光頻原子鐘。在鈣原子方面，創新性提出熱原子能級轉移探測方案被國際著名研究單位廣泛引用效仿。在銣、銫原子方面，通過與國內科研機構的項目合作，實現了研究成果處于國際先進水平的小型化高穩定度光頻原子鐘。

地下礦物資源（如煤炭）被采出后，開采區域周圍巖體原始的應力平衡狀態遭到破壞，使得應力重新分布并達到新的平衡，在此過程中，巖體和地表將產生移動和變形，這種現象稱為“開采沉陷”。開采沉陷是典型的人類活動所誘發的環境災害，導致礦區及其周邊自然環境的污染和資源的破壞。因地下開采所引起或誘發的礦區建筑物損壞、地表沉陷、地表開裂以及山體滑坡、水資源枯竭等各種地質環境災害，已經成為危害礦區人們生產和生活的主要災害來源，給各礦區的經濟發展和人民生命財產造成了巨大損失。據不完全統計，我國僅采煤塌陷就以 200 平方千米的速度逐年增加，這對礦區的自然環境構成了嚴重威脅。因此，開采沉陷區的環境資源損害評價、環境保護及治理問題，直接關系到礦區的經濟發展與社會穩定，同時也關系到礦區的可持續發展，是我國各大礦區正面臨的嚴峻的問題。       基于此，多年來，團隊廣泛運用開采沉陷學、環境經濟學、計算機科學、信息技術等學科理論構建了一套科學、合理的開采沉陷區環境資源損害評價理論體系，結合礦區實際，本著靈活性、實用性的原則抽象出評價系統執行體系，并引入三維數據場及地理信息系統(GIS)可視化技術，開發了礦山開采沉陷環境資源損害可視化評價系統，實現了開采沉陷與環境資源損害評價一體化研究。研究成果獲得山東省科技進步二等獎 1 項。