|
搜索
搜 索
高等教育領(lǐng)域數(shù)字化綜合服務(wù)平臺
.jpg){kind=logo}
耐高溫腈基聚合物的分子構(gòu)建與先進(jìn)功能材料
該成果通過分子設(shè)計構(gòu)建了一系列芳腈基聚合物，發(fā)明了熒光性、磁性、導(dǎo)電/介電性的芳腈基聚合物與先進(jìn)功能材料
電子科技大學(xué)
2021-04-10
業(yè)大學(xué).jpg){kind=logo}
優(yōu)質(zhì)健康豬重要候選基因挖掘分子育種標(biāo)記開發(fā)與應(yīng)用
中試階段/n該項目實(shí)現(xiàn)了豬產(chǎn)肉性狀、抗病性狀基因的批量挖掘與驗(yàn)證，開發(fā)出一批分子育種標(biāo)記，建立了多標(biāo)記聚合輔助育種技術(shù)體系，為湖北及我國優(yōu)質(zhì)健康豬的培育提供了豐富基因資源和技術(shù)支撐，取得了良好社會經(jīng)濟(jì)效益。
華中農(nóng)業(yè)大學(xué)
2021-04-11
.jpg){kind=logo}
一種聚氨酯基黑色高分子染料、制備方法及應(yīng)用
本發(fā)明公開了一種聚氨酯基黑色高分子染料、制備方法及應(yīng)用，將聚合物多元醇升溫至90～110°C，真空度≤0.1MPa條件下，脫水處理1～2h，通入氮?dú)獗Ｗo(hù)；降溫至60～80°C，加入異氰酸酯和催化劑60～90°C下反應(yīng)1～3小時；然后加入小分子黑色染料、溶劑和催化劑，60～90°C下反應(yīng)3～8小時，制得帶有黑色染料聚氨酯預(yù)聚體；再加入擴(kuò)鏈劑，50～90°C下反應(yīng)1～3小時；最后真空脫溶劑即可。本發(fā)明制備的聚氨酯基黑色高分子染料，是將小分子黑色染料接入聚氨酯鏈中，可以根據(jù)需要調(diào)節(jié)小分子黑色染料在聚氨酯鏈
安徽建筑大學(xué)
2021-01-12
.jpg){kind=logo}
表面修飾導(dǎo)電聚合物的單分散高分子微球
導(dǎo)電聚合物具有傳統(tǒng)聚合物所缺乏的電活性，因而在輕質(zhì)電池、電磁屏蔽材料、防腐涂層和傳感器等領(lǐng)域有著很大的發(fā)展?jié)摿?。?dǎo)電聚合物特別是聚苯胺由于自身的分子結(jié)構(gòu)剛性大，分子鏈間相互作用力強(qiáng)，因而其加工性能較差，難溶難熔，這在一定程度上限制了導(dǎo)電聚合物的應(yīng)用。將聚苯胺與其他材料復(fù)合，制備復(fù)合材料是解決這個缺陷的重要方法之一。該項目涉及一項基于表面修飾導(dǎo)電聚合物的單分散聚苯乙烯高分子微球的生產(chǎn)技術(shù)。單分散的聚苯乙烯微球經(jīng)改性后，可獲得表面包覆有殼層結(jié)構(gòu)或者納米線結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電聚合
廈門大學(xué)
2021-01-12
院大學(xué).jpg){kind=logo}
有機(jī)電荷轉(zhuǎn)移分子調(diào)控二維材料電學(xué)特性研究
已有樣品/n使用有機(jī)電荷轉(zhuǎn)移分子F4TCNQ與MoS2結(jié)合形成范德華界面，通過F4TCNQ與MoS2之間的電荷轉(zhuǎn)移來降低溝道內(nèi)無柵壓情況下的載流子濃度。MoS2晶體管的開啟電壓（Von）從負(fù)數(shù)十伏被調(diào)制至0伏附近，F(xiàn)4TCNQ并未導(dǎo)致MoS2晶體管包含遷移率在內(nèi)的任何電學(xué)性能的下降，其亞閾值擺幅（SS）反而明顯提升。團(tuán)隊成員通過第一性原理計算以及掃描開爾文探針顯微鏡表征證實(shí)了范德華界面處電荷轉(zhuǎn)移的存在性，并研究了F4TCNQ對Mo
中國科學(xué)院大學(xué)
2021-01-12
.jpg){kind=logo}
逆轉(zhuǎn)抗生素耐藥性的大分子化合物
一種可顯著增強(qiáng)抗生素抗菌活性并逆轉(zhuǎn)多重耐藥性革蘭氏陰性菌的耐藥表型的大分子化合物。該大分子化合物是由胍基官能團(tuán)修飾的聚碳酸酯（pEt_20），具有優(yōu)異的生物安全性和廣譜殺菌功能(Nature Communications 2018, 9, 917)。在前期研究工作的基礎(chǔ)上，團(tuán)隊進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)此類大分子能夠在不破壞細(xì)菌細(xì)胞膜的情況下與胞內(nèi)的蛋白質(zhì)和核酸結(jié)合，于是提出將其與抗生素聯(lián)用，以克服細(xì)菌的抗生素耐藥性。研究發(fā)現(xiàn)pEt_20能夠使得多種不同類型的抗生素（包括阿奇霉素、慶大霉素、亞胺培南、四環(huán)素、多粘菌素等）對多重耐藥性革蘭氏陰性菌（鮑曼不動桿菌）的最低抑菌濃度（MIC）從耐藥范圍降到敏感范圍，表明pEt_20能夠逆轉(zhuǎn)細(xì)菌對多種不同類型抗生素的耐藥表型。? pEt_20不僅能夠提高傳統(tǒng)針對革蘭氏陰性菌的抗生素對耐藥菌的抗菌活性，而且還能夠極大程度地提高抗肺結(jié)核藥物利福平和抗風(fēng)濕類藥物金諾芬這兩種原本并不用于治療革蘭氏陰性菌感染的藥物的抗菌功能。研究表明在與pEt_20聯(lián)用后，這兩種藥物的MIC均降低了511倍。更為重要的是，pEt_20能夠逆轉(zhuǎn)鮑曼不動桿菌對利福平的耐藥性，降低利福平對其耐藥菌的MIC和MBC（最低殺菌濃度）分別高達(dá)2.5×105倍和4095倍。研究團(tuán)隊進(jìn)一步利用多重耐藥性鮑曼不動桿菌引起的小鼠血液感染模型證明了這種聯(lián)合療法的有效性，極大程度地提高了感染小鼠的生存率并降低了血液內(nèi)的細(xì)菌濃度。而且體內(nèi)實(shí)驗(yàn)也表明該藥物組合在有效殺菌濃度的劑量下并不會產(chǎn)生系統(tǒng)毒性。此項研究為多重耐藥性革蘭氏陰性菌感染提供了新的治療思路。
中山大學(xué)
2021-04-13
.jpg){kind=logo}
一種抗病毒分子印跡聚合物的制備方法
本發(fā)明公開了一種抗病毒分子印跡聚合物的制備方法，首先在載體材料上修飾多巴胺納米膜，然后將靶病毒與修飾了多巴胺納米膜的載體材料相結(jié)合，形成病毒-多巴胺-載體材料復(fù)合體，最后再從復(fù)合體上將靶病毒洗脫，即得到相應(yīng)的抗病毒分子印跡聚合物。本發(fā)明的抗病毒分子印跡聚合物可利用病毒洗脫后留下的印跡孔穴，特異性結(jié)合靶病毒，并抑制靶病毒增殖以及感染宿主；該抗病毒分子印跡聚合物具有使用特異性好、使用環(huán)境友好以及再生簡單的優(yōu)點(diǎn)，在生物免疫領(lǐng)域有良好的使用前景。
華中科技大學(xué)
2021-04-14
.jpg){kind=logo}
超高精度分子辨識天然活性同系物的萃取分離技術(shù)
近三十年間，全球有1000余種新藥研制成功并獲批生產(chǎn)，其中一半以上藥物來源可追溯至天然活性物質(zhì)。然而，中國的天然活性物質(zhì)分離制造技術(shù)長期以來受到專利與技術(shù)封鎖，90％以上的高純活性物質(zhì)依賴進(jìn)口，高端產(chǎn)品市場份額僅占全球的3%?；钚跃S生素D3是肝功能不全患者治療骨質(zhì)疏松類疾病的主要有效藥物。但制備活性維生素D3的核心原料笛醇長期受到外國企業(yè)壟斷。該原料的制備工藝路線長、生產(chǎn)成本高、完全沒有自主產(chǎn)權(quán)。
浙江大學(xué)團(tuán)隊在深入研究羊毛脂的加工利用過程中發(fā)現(xiàn)，一種名為2,4－去氫膽固醇的物質(zhì)，可作為制備活性維生素D3的新原料。但是，2,4－去氫膽固醇與十余種笛類同系物共存，它們之間分子結(jié)構(gòu)相似，要將兩者分離非常困難。經(jīng)過科研攻關(guān)和潛心研究，最終團(tuán)隊研發(fā)了一系列針對天然活性同系物提取、辨識、分離新技術(shù)，采用弱極性邕類同系物分子辨識萃取分離關(guān)鍵技術(shù)、低乳化分子辨識分離關(guān)鍵技術(shù)、萃取劑多位點(diǎn)協(xié)同技術(shù)，突破了原的技術(shù)落后，走出了一條國產(chǎn)自主創(chuàng)新的道路。
浙江大學(xué)
2023-05-10
耐高溫腈基聚合物的分子構(gòu)建與先進(jìn)功能材料
該成果通過分子設(shè)計構(gòu)建了一系列芳腈基聚合物，發(fā)明了熒光性、磁性、導(dǎo)電/介電性的芳腈基聚合物與先進(jìn)功能材料，獲得了中國發(fā)明專利25項。突破了合成控制、產(chǎn)品純化、環(huán)保處理與規(guī)模裝備等關(guān)鍵技術(shù)，形成了1000噸級聚芳醚腈產(chǎn)業(yè)化合成成果及其系列先進(jìn)復(fù)合材料、薄膜、纖維應(yīng)用技術(shù)；獲得了500噸級的鄰苯二甲腈樹脂合成裝備及耐高溫先進(jìn)復(fù)合材料應(yīng)用技術(shù)。取得的大部分發(fā)明成果近三年共產(chǎn)生經(jīng)濟(jì)效益超過10億元，取代了部分相關(guān)產(chǎn)品的進(jìn)口。
電子科技大學(xué)
2021-04-14
.jpg){kind=logo}
鐵電高分子柔性存儲器：高容量電子數(shù)據(jù)存儲
鐵電高分子利用兩個穩(wěn)定的偶極取向狀態(tài)，以二進(jìn)制代碼“0”或“1”的形式存貯信息，該方式具有掉電不丟數(shù)據(jù)、超快擦寫速度（微/納秒）、極低的工作電壓（1～5V）、高耐久性的特點(diǎn)，適用于便攜式電子產(chǎn)品。我校用集成電路常用的光刻技術(shù)制備了鐵電高分子的光柵或點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)，采用干涉光可將特征尺寸縮小到300納米以下，一家法國公司正在嘗試運(yùn)用該項技術(shù)。
南京大學(xué)
2021-04-14