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教育、科技、人才是中國(guó)式現(xiàn)代化的基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性支撐。必須深入實(shí)施科教興國(guó)戰(zhàn)略、人才強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略、創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展戰(zhàn)略，統(tǒng)籌推進(jìn)教育科技人才體制機(jī)制一體改革，健全新型舉國(guó)體制，提升國(guó)家創(chuàng)新體系整體效能。

懸賞金額：50萬(wàn)元 發(fā)榜企業(yè)：惠州市強(qiáng)達(dá)電子工業(yè)有限公司 需求領(lǐng)域：特種功能材料 LED前沿與核心技術(shù) 精細(xì)化工 電子材料、半導(dǎo)體材料高分子、復(fù)合材料 產(chǎn)業(yè)集群：先進(jìn)材料產(chǎn)業(yè)集群 技術(shù)關(guān)鍵詞：光刻樹脂; 光刻膠; 特種硅樹脂; 高性能硅橡膠; 紫外光固化技術(shù)

1.痛點(diǎn)問(wèn)題 光刻膠作為集成電路制備中不可或缺的一部分，已成為國(guó)家的戰(zhàn)略資源之一。半導(dǎo)體光刻膠的核心在于成膜樹脂，受限于研發(fā)難度大、專利壁壘高、資金投入多、準(zhǔn)入門檻高，目前國(guó)內(nèi)企業(yè)尚難以突破KrF膠（248nm）或ArF膠（193nm），而EUV膠完全不能自主供給。 2.解決方案 本項(xiàng)技術(shù)采用了國(guó)際最前沿的納米氧化物團(tuán)簇材料的工藝路線，可以實(shí)現(xiàn)單2nm小分子的光刻膠成膜樹脂材料，攻克了材料合成和納米材料提純的難題，可滿足目前半導(dǎo)體3nm制程節(jié)點(diǎn)的技術(shù)要求，RLS分辨率、邊緣粗糙度、靈敏度三項(xiàng)關(guān)鍵性能指標(biāo)優(yōu)異，其曝光劑量遠(yuǎn)低于Intel公司提出的20mJ/cm2的成本線。此外，本項(xiàng)技術(shù)具有多種半導(dǎo)體光刻膠兼容性，可以生產(chǎn)248nm和193nm光源的半導(dǎo)體光刻膠成膜樹脂，以及電子束半導(dǎo)體掩膜用光刻膠成膜樹脂，具有廣闊的技術(shù)替代優(yōu)勢(shì)和市場(chǎng)應(yīng)用前景。 3.合作需求 本項(xiàng)技術(shù)已設(shè)立衍生企業(yè)，位于江蘇常州的3000m2研發(fā)生產(chǎn)中心正在建設(shè)中。 1）融資需求：本輪天使輪融資6000萬(wàn)元。 2）資源對(duì)接需求：集成電路芯片制造、掩膜板生產(chǎn)企業(yè)，地方政府等。

目前的紡紗技術(shù)，有傳統(tǒng)的環(huán)錠紡和氣流紡、摩擦紡、渦流紡、噴氣紡等形式。環(huán)錠紡紗方法紗線質(zhì)量好，但由于三大件(錠子、綱領(lǐng)、鋼絲圈)的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致其速度產(chǎn)量不能大幅度提聞。而氣流紡、摩擦紡、噴氣紡和潤(rùn)流紡基于其成紗的基本原理，有速度聞、廣量聞的優(yōu)勢(shì)，但其紡紗質(zhì)量一直不能達(dá)到令人滿意的水平。要實(shí)現(xiàn)高速、高產(chǎn)、高質(zhì)量紡紗，前提就是要在紡紗機(jī)上一方面去除高速回轉(zhuǎn)部件，另一方面還要在紡紗機(jī)上實(shí)現(xiàn)須條的牽伸、纖維的伸直、纖維的順向排列、纖維流的并合等目標(biāo)，才能真正獲得高速、高產(chǎn)、高效、高質(zhì)量的紡紗機(jī)。本發(fā)明是針對(duì)現(xiàn)有環(huán)錠紡紗低速低產(chǎn)、消耗大，而現(xiàn)有新型紡紗不能實(shí)現(xiàn)高支、高質(zhì)紡紗的現(xiàn)狀，提供一種順向聚捻一步紡紗機(jī)，輸送管道及加捻器的合理設(shè)計(jì)，使纖維在一道設(shè)備上實(shí)現(xiàn)纖維充分分離、伸直、平行、并合均勻，其結(jié)構(gòu)合理、緊湊，成本較低；還提供一種順向聚捻一步紡紗方法通過(guò)纖維在紡紗機(jī)上的順向凝聚、順向加捻，使紡紗機(jī)實(shí)現(xiàn)高速、聞廣、聞效、聞質(zhì)量的目標(biāo)。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹  生產(chǎn)商簡(jiǎn)介     德國(guó)泰步（HARO）多層體育木地板生產(chǎn)制造商   ——德國(guó)HAMBERGER公司——   ?       德國(guó)體育地板標(biāo)準(zhǔn)DIN18032-2起草者和制定者之一;   ?       在全世界范圍已安裝近6000家場(chǎng)館, 總安裝面積達(dá)600萬(wàn)平方米, 是當(dāng)今世界上著名的專業(yè)體育地板生產(chǎn)制造廠商之一;   ?        德國(guó)HAMBERGER公司創(chuàng)建于1866年, 位于德國(guó)巴伐利亞州的玫瑰之鄉(xiāng)------羅森漢姆;   ?        HAMBERGER 自創(chuàng)建以來(lái)130多年的時(shí)間里, 一直致力于木產(chǎn)品的深化研究與開發(fā), 現(xiàn)投入市場(chǎng)的產(chǎn)品品質(zhì)優(yōu)良, 質(zhì)量穩(wěn)定, 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理, 是歐洲最大最老的集木產(chǎn)品生產(chǎn)與研究為一體的重要企業(yè)之一. 其產(chǎn)品引領(lǐng)著世界潮流, 代表著該行業(yè)的發(fā)展趨勢(shì).   ?        公司現(xiàn)擁有1300多名員工，廠區(qū)占地面積近25萬(wàn)平米，其生產(chǎn)規(guī)模、工藝水平、技術(shù)實(shí)力、制造設(shè)備和現(xiàn)代化倉(cāng)庫(kù)均處于歐洲同行業(yè)之領(lǐng)先地位;   ?        公司注冊(cè)資本300萬(wàn)德國(guó)馬克(約200萬(wàn)歐元), 生產(chǎn)設(shè)備價(jià)值1.5億德國(guó)馬克(0.8億歐元), 年生產(chǎn)量1400萬(wàn)平方米.   ?        其產(chǎn)品結(jié)構(gòu)為: 多層體育木地板, 強(qiáng)化木地板, 三層實(shí)木地板, 三層強(qiáng)化實(shí)木地板等數(shù)十個(gè)系列產(chǎn)品, 上千種木色.   ?        德國(guó)泰步（HARO）多層體育木地板馳名歐洲，享譽(yù)全球, 在德國(guó)，其產(chǎn)量和市場(chǎng)份額名列首位。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問(wèn)題是光產(chǎn)酸在后烘階段會(huì)發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問(wèn)題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們?cè)谄毓膺^(guò)程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對(duì)羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對(duì)羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。  利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：  在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡(jiǎn)便易行，成本相對(duì)低廉，在經(jīng)過(guò)多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對(duì)我國(guó)電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來(lái)困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場(chǎng)的70%以上，而我國(guó)在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來(lái)光刻膠引起了社會(huì)的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國(guó)外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國(guó)家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開始，至今近二十年來(lái)聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國(guó)家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號(hào):2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國(guó)家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國(guó)發(fā)明專利，專利號(hào)：9。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問(wèn)題是光產(chǎn)酸在后烘階段會(huì)發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問(wèn)題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們?cè)谄毓膺^(guò)程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對(duì)羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對(duì)羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。   利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：   在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡(jiǎn)便易行，成本相對(duì)低廉，在經(jīng)過(guò)多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對(duì)我國(guó)電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來(lái)困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場(chǎng)的70%以上，而我國(guó)在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來(lái)光刻膠引起了社會(huì)的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國(guó)外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國(guó)家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開始，至今近二十年來(lái)聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國(guó)家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號(hào):2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國(guó)家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國(guó)發(fā)明專利，專利號(hào)：9。

本發(fā)明公開了一種光刻機(jī)自動(dòng)調(diào)焦方法及裝置，其方法是將平行光束經(jīng)第一狹縫投射至硅片表面，再經(jīng)振動(dòng)反射鏡掃描后通過(guò)第二狹縫，由光電探測(cè)器接收光強(qiáng)信號(hào)，然后通過(guò)提取光強(qiáng)信號(hào)中二倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的粗調(diào)量，通過(guò)提取光強(qiáng)信號(hào)中一倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的精調(diào)量，最后由驅(qū)動(dòng)裝置調(diào)整硅片至焦點(diǎn)位置。調(diào)焦裝置主要由兩個(gè)狹縫、一個(gè)振動(dòng)反射鏡、光電傳感器、驅(qū)動(dòng)臺(tái)和若干光學(xué)鏡片組成，信號(hào)處理過(guò)程由計(jì)算機(jī)編程完成。該方法與裝置相較于以往對(duì)比光斑強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)焦的方式，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、響應(yīng)迅速、精度高(優(yōu)于 0.

本成果來(lái)自國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利，知識(shí)產(chǎn)權(quán)歸屬西南交通大學(xué)。項(xiàng)目創(chuàng)新性和先進(jìn)性：裝置利用現(xiàn)代圖像采集設(shè)備和機(jī)器視覺技術(shù)，利用人員巡視，同步對(duì)接觸網(wǎng)設(shè)施進(jìn)行圖像拍攝，并能對(duì)每次巡視后的接觸網(wǎng)服役狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)判定，及時(shí)發(fā)現(xiàn)接觸網(wǎng)關(guān)鍵設(shè)備缺陷，避免事故發(fā)生。

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