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熱熔膠粘劑是一種不含溶劑的固體狀膠粘劑。其加熱到一定溫度就熔化成液態，涂布、潤濕被粘物后，經壓合、冷卻，在幾秒中內可完成膠接。以合成聚合物為粘料的熱熔膠粘劑屬于環保型膠粘劑，自1988年以來，熱熔膠的世界生產指數高于溶劑型膠粘劑和水基膠粘劑。 EVA熱熔膠對幾乎所有的材料均有熱膠接力；耐藥品性、耐候性、耐寒性、電氣性能優良；熔融粘度低，施膠方便；與配合劑的相容性好，配合劑選擇范圍廣，可根據使用要求配制性能/價格比合理的熱熔膠粘劑。其主要缺點是粘接強度低。 本項目通過加入一種粘接強度改性劑，很大程度地提高了EVA熱熔膠的粘接強度，其膠接強度與反應型聚氨酯熱熔膠相當。因此，本項目研制的高粘接強度的EVA熱熔膠使具有更廣泛的應用領域，不僅能廣泛用于制鞋、服裝粘貼、書籍無線裝訂、木材積層板制作、無紡布制作、汽車坐席及車燈等的組裝、電子、電器中的絕緣捻子封緘、電子部件灌封、光盤制作等方面，還可作為結構膠粘劑應用于汽車、建筑、道路施工等領域。 高粘接強度的EVA熱熔膠的主要成分有乙烯與醋酸乙烯酯嵌段共聚物（EVA）、粘附強度改性劑、增粘劑、增塑劑、抗氧化劑、著色劑、填充劑等。該熱熔膠主要采用熔融混合法來制備方便，設備簡單。生產所需主要設備只需密煉機、壓片機、切粒機等。

目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。  利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：  在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。

目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。   利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：   在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。

本發明公開了一種光刻機自動調焦方法及裝置，其方法是將平行光束經第一狹縫投射至硅片表面，再經振動反射鏡掃描后通過第二狹縫，由光電探測器接收光強信號，然后通過提取光強信號中二倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的粗調量，通過提取光強信號中一倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的精調量，最后由驅動裝置調整硅片至焦點位置。調焦裝置主要由兩個狹縫、一個振動反射鏡、光電傳感器、驅動臺和若干光學鏡片組成，信號處理過程由計算機編程完成。該方法與裝置相較于以往對比光斑強度進行調焦的方式，具有結構簡單、響應迅速、精度高(優于 0.

本實用新型公開了一種采光帶搭接處防水構造，包括彩鋼屋面板，所述限位止水塊遠離彩鋼屋面板的一側通過契合限位塊、采光板壓條、復數個墊片和復數個固定螺釘固定連接有采光板，所述防雨防風加固板，包括加固板主體，所述加固板主體的正面和背面且靠近加固板主體頂部的位置均設置有遮雨板，本實用新型通過彩鋼屋面板正面位于采光板的位置通過復數個螺釘固定連接有防雨防風加固板，防雨防風加固板避免采光板與彩鋼屋面板之間的側邊搭接處出現漏水的情況，限位止水塊的外表面與契合限位塊通過防水膠固定連接，限位止水塊和契合限位塊可以幫助施工

內容介紹： 電磁釧接是一種先進的抑接工藝方法，可以解決普通鑰接方法在鑰接 鈦合金等難成形材料斜釘、復合材料結構方面的鑰接難題，能夠手工釧 接大直徑鑰釘和無頭斜釘。釆用電磁卽接代替普通鑰接可以大幅度提高 結構疲勞壽命，減小釧接噪音，改善工人勞動條件。 電磁釧接可用于干涉配合緊固件的安裝，解決傳統安裝方法難以安裝 大直徑大干涉量干涉配合緊固件安

該團隊選用了常見的醫用聚合物聚乙烯醇(PVA)，通過冷凍解凍和干燥-退火的處理，提高納米晶域在垂直界面方向的有序度，從而實現該粘接界面的疲勞閾值達到800 J/m 2

本實用新型公開了一種木柱抄手榫墩接加固結構，包括傳統建筑木柱的修繕加固結構本體；所述傳統建筑木柱的修繕加固結構本體是由原柱、墩接柱、鐵箍、十字線組成；其中原柱和墩接柱橫截面上畫有十字線，原柱和墩接柱均分成四瓣，原柱和墩接柱相互搭交處分別剔除十字中的兩瓣，形成榫頭，原柱和墩接柱通過榫頭相互插接；所述鐵箍包裹在原柱和墩接柱的搭接處；本實用新型結構簡單，構造合理、新穎，能夠有效的對木柱進行修繕加固，大大的提高了柱體結構的性能，降低了試驗試件性能破壞的風險，有利于古建筑的保護和利用。

EVA（乙烯-醋酸乙烯共聚物）熱熔膠粘劑是一種不需溶劑、不含水份、100％的固體可熔性的聚合物體系。在常溫下為固體，加熱到一定溫度變為能流動的粘性液體。因其不含任何溶劑，故屬于環保型膠粘劑。EVA熱熔膠對幾乎所有的材料均有熱膠接力，綜合性能好。其主要缺點是粘接強度低。 該技術通過加入一種粘接強度改性劑，很大程度地提高了EVA熱熔膠的粘接強度，其膠接強度與反應型聚氨酯熱熔膠相當。該熱熔膠制備方便，設備簡單。該技術已獲國家發明專利授權（專利號：CN100350011C） 通過該技術制得的EVA熱熔膠具有更廣泛的應用領域。不僅能廣泛用于制鞋，服裝粘貼，書籍無線裝訂，木材積層板制作，無紡布制作，汽車坐席、車燈等的組裝，電子、電器中的絕緣捻子封緘，電子部件灌封，光盤制作等方面。還可作為結構膠粘劑應用于汽車、建筑、道路施工等領域。