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本發明公開了一種廣譜成像探測芯片。包括熱輻射結構和光敏陣列。廣譜入射光波進入熱輻射結構后，在納尖表面激勵產生等離激元，驅動圖形化金屬膜中的自由電子向納尖產生振蕩性集聚，納尖收集的自由電子與等離激元驅控下涌入的自由電子相疊合，產生壓縮性脈動，使電子急劇升溫并向周圍空域發射主要成分為可見光的熱電磁輻射，光敏陣列將熱電磁輻射轉換為電信號，經預處理后得到電子圖像數據并輸出。本發明能將廣譜入射光波基于壓縮在納空間中的高溫

1. 痛點問題 放射性物質廣泛存在于自然界，并應用于工業、農業、醫療衛生等行業中，通過探測放射性物質發出的射線，從而對放射性物質進行監控，對于保證放射性物質在規定場所正常存儲和應用，防止意外泄漏、遺失或違規轉移，防止放射性物質被用于恐怖襲擊和危害公共安全有重要意義。 目前相關射線探測技術需要利用鎢、鉛等重金屬制成射線吸收準直器，與射線探測器組合以實現成像，其能夠成像的區域為準直器覆蓋區域，視角小，覆蓋范圍窄（10? ~ 40?），在無準直器覆蓋端，還需要用重金屬對探測器進行屏蔽，因此重量較重，造成使用不便。 2. 解決方案 本項技術利用三維位置靈敏探測器結合成像算法實現無準直器的射線成像，可以對空間內一定范圍內任意方向放射源進行成像，得到放射源分布圖像，并通過放射源分布圖像進行放射源監控。其成像視野為4π全景空間，重量可小于2kg，顯著提高了監測效率和安裝便捷程度，并能在同等成本前提下提高監測靈敏度。 本項技術進一步通過采用創新的編碼探測器陣列設計，在4π全景空間視野內將空間分辨率提高到5度以內。

【痛點問題】 最新全球疾病負擔研究顯示我國總體卒中終生發病風險為39.9％，位居全球首位，這意味著中國人一生中每５個人約有２個人會罹患卒中。此外，卒中也是我國疾病所致壽命損失的第一位病因。每年新發卒中患者超過200萬，其中約70%的患者為缺血性中風，而且發生率增長迅速，遠高于全球平均水平。對缺血性腦卒中的預防和治療已成為關系我國人民健康的世界性難題。 缺血性腦卒中的主要病理基礎是動脈粥樣硬化。醫學影像能夠直接、客觀地觀測到斑塊的幾何和紋理形態，相較于核磁共振和CT，超聲是一種無創、經濟、快速和實時的成像技術，被廣泛應用于頸動脈斑塊的篩查中。目前，國內醫院超聲機是普遍存在的，而且多數都是二維的超聲，且現有研究多數是提取二維超聲圖像中的頸動脈斑塊信息特征，只能部分反映投影直線上的特征，不具有空間信息，從而影響了腦卒中風險評估的準確性；同時，我國基層卒中中心影像設備缺乏，無法進行耗時長、價格貴的CT灌注或MR成像，而且影像診斷從業人員經驗有限，缺乏決策能力。因此，通過頸動脈三維超聲成像系統、結合人工智能和多模態影像學精準輔助診斷，能夠更全面地反映頸動脈斑塊的特性，對醫生預測腦血管事件風險意義重大。 【成果介紹】 面對我國大健康產業發展要求，我們高標準謀劃、高位推動。產品模塊主要包括：1）頸動脈三維超聲成像設備及基于頸動脈三維超聲AI影像卒中早期風險預測；2）急性期內基于臨床CT影像的卒中AI影像輔助診斷。 本項目在二維超聲機的基礎上，開發用于頸動脈成像的三維超聲機，實現探頭掃描機械設備等核心部件國產化；利用采集的序列圖像重建頸動脈的三維模型，為醫生診斷提供更豐富的數據。該方案能有效地控制醫療成本，具有普適性，容易推廣，可用于頸動脈粥樣硬化的普查，有效預防心腦血管事件的發生。同時，隨著人工智能技術的飛速發展，將人工智能賦能三維超聲成像設備，實現三維超聲成像以及影像分析的智能化，將進一步提高三維超聲成像設備的核心競爭力，從而推動我國超聲產業跨越式發展。 本項目建立基于人工智能和多模態影像學的缺血性卒中的精準輔助診斷系統，輔助基層卒中中心醫生進行卒中治療的精準決策。目前我國對卒中采用的是分級診療體系，卒中中心收治卒中病人后，根據平掃或造影CT、臨床表現、以及發病時間確定是對其進行溶栓治療，或是將病人轉移至具有血管內取栓能力的省市級三甲醫院。在這個過程中卒中中心醫生需基于有限的CT影像數據作出快速、準確的決策；而三甲醫院醫療資源緊張，無法全天候服務，一個準確的輔助診斷工具將極大緩解三甲醫院資源壓力，并且大幅提高工作效率。本項目擬面對我國卒中分級診療體系中的痛點，基于病人前期頸動脈三維超聲和臨床指標建立中風風險早期預測模型，并結合人工智能和CT影像分析技術，進行缺血性腦卒中早期預測與輔助診斷。 【技術優勢】 產品的核心技術包括： 1） 三維超聲成像系統探頭掃描機械結構，超聲圖像三維重建軟件，基于深度學習的頸動脈斑塊分割算法及軟件； 2） 腦卒中AI影像風險預測和診斷系統的相關核心算法，如平掃CT中的ASPECTS自動評分算法、大血管栓塞自動檢測算法、卒中梗死核心和半暗帶的自動量化算法、基于頸動脈斑塊三維超聲圖像的風險預測模型。 主要優勢： 1) 所有軟、硬件的核心算法或部件完全自主知識產權； 2) 項目通過研究頸動脈三維超聲成像系統產品，可廣泛應用于特異性與靈敏度高的頸動脈斑塊篩查，而且操作簡單便利，價格低廉，適于在社區醫院、鄉鎮醫院等醫院進行大規模頸動脈斑塊特征篩查； 3) 在系統的研究生產中，可實現探頭掃描機械設備等核心部件國產化，擺脫對外國器件的依賴性； 4) 建立三維頸動脈斑塊超聲圖像庫及診斷規范，為相關類型儀器的研究和生產提供臨床圖像數據庫。 頸動脈三維超聲系統的研發與生產將為臨床提供國產化頸動脈斑塊篩查設備，提高國產醫療器械的核心競爭力，推動我國超聲產業跨越式發展，有效緩解“看病難、看病貴”問題，提高我國重大疾病的防治水平。 【技術指標】 1） 三維頸動脈斑塊超聲圖像分辨率<0.5mm,成像速度<1min; 2） 開發一套基于人工智能和多模態影像學的缺血性腦卒中精確輔助診斷系統，能在5-10分鐘之內提供決策支持，并能達到有2-3年經驗的放射科醫生的診斷精度。 【技術成熟度】 原理樣機/驗證。 【發展規劃】 發展方向：5年內仍將保持腦卒中智能影像風險預測與診斷為主要產品方向。5年后，逐步向與超聲、CT成像系統等結合，實現軟、硬件一體化的智能診療設備，在心腦血管等臨床應用領域，成為世界上具有壟斷優勢的大型智能診斷以及成像設備制造商。 發展戰略：成為一家技術壟斷型、啞鈴型（重技術和銷售），在影像智能分析領域處于國際領先地位的高科技企業。 項目實施方案：（包括總的方案和年度計劃任務）

本發明公開了一種熒光成像裝置及方法。所述裝置包括連續進樣裝置、樣品管道、切片激光器和高速熒光采集端；連續進樣裝置與樣品管道連接，樣品管道依次包括掃描管道和偏轉管道，掃描管道和偏轉管道夾角在 60°至 120°之間，掃描管道管壁為光學平整面；切片激光器產生的光切片投射在掃描管道上；連續熒光成像裝置垂直于切片光設置。所述方法包括以下步驟：(1)將熒光標記的樣品分散于離散相中，由連續相驅動形成樣品序列 24； (2)每個樣品經過激光切片器產生的光切片，激發熒光，連續熒光成像裝置采集多張切面熒光圖。

杭州高譜成像技術有限公司成立于2019年7月，是一家專注光譜成像技術，致力于為用戶提供光譜視覺產品和綜合解決方案的高科技創新企業。 公司圍繞自主研發的核心技術-高光譜成像技術，陸續開發了包括可見光至近紅外高光譜相機、無人機載高光譜成像系統，以及便攜式、實驗室和顯微高光譜成像儀等系列光機電一體化精密儀器，并形成了從高光譜核心部件設計裝調，到成像儀整機研制以及高光譜數據處理軟件和算法應用的完整技術鏈，解決客戶在教育科研、智慧農業、生態環保、智能制造、工業檢測等應用領域的深層次感知需求。 

產品詳細介紹1. 全封閉式暗箱設計，可在明室觀察、拍攝2. 130萬像素低照度高分辨率CCD，信噪比≥70dB，具備軟積分功能3. 日本大孔徑6倍光學電動變焦鏡頭，∮52mm，變焦范圍11.5~69mm，USB輸出4. 專業紫外增強燈管，紫外光強度達到1000uw/cm25. 雙面拋光西外玻璃厚度均勻，透射率高，觀察時無燈管陰影、背景清晰6. 紫外透射面積：200mm×200mm，透射波長312nm7. 帶254nm、365nm紫外及可見光反射裝置8. 電動變焦鏡頭可通過軟件控制光圈、對焦、圖像放大或縮小等參數調整，操作方便，精度高9. 標配Hema GSG2000核酸/蛋白凝膠圖像分析管理軟件10. 圖像分析和管理軟件可提供多用戶管理系統，方便進行實驗結果的記錄和管理，符合良好實驗室標準11. 軟件功能強大，界面簡潔清晰，操作簡便，全中文顯示12. 高性價比，特別適合于科研實驗室及教學實驗室使用。

成果簡介：能按照國家有關技術標準（JB/T9752.2—1999（NJ408—86）渦輪增壓器試驗方法）要求，進行增壓器的冷吹、熱吹、自循環出廠試驗、增壓器總效率試驗，壓氣機特性試驗、增壓器超速超溫試驗、增壓器可靠性試驗等。試驗臺采用最新研制的高性能電子測控系統，各測量參數由傳感器進行采集，電子計算機控制記錄、分析、處理數據，數字式儀表顯示。增壓器的裝夾采用快速氣動安裝裝置，大大節約了裝卸增壓器的時間。試驗臺為全封閉式結構、操作簡便、使用安全，外形美觀。此項技術的相關成果有：渦輪增壓器性能實驗臺

本發明公開了一種具有高傳輸效率可快速連續調節能量的降能 器，包括碳化硼能量粗調單元、石墨能量精調單元、束流準直器組、 運動控制模塊、真空模塊；碳化硼能量粗調單元實現能量的初級步進 調節，提高了束流傳輸效率；石墨能量精調單元可實現束流能量的連 續精準調節；準直器組可對束流發射度進行有效抑制，通過改變孔徑 實現了發射度的選擇；運動控制模塊可分別對碳化硼和石墨能量調節 單元進行快速運動控制，保證了能量的快速調節；真空模塊創造并維 持了真空環境。本發明的降能器可以實現束流能量的高傳輸效率、快 速、連續調節，

基于平面光波光路(PLC)技術的各類光功能器件，是實現現代高速光網絡、高速光信號處理、大容量光互連節點和終端設備中光信號處理模塊的基礎。/lineInP基多量子阱PLC器件基于成熟的半導體工藝，以脊波導為基礎，具有體積小、功耗/損耗低、可靠性高、性價比高等優點，在國際上即將形成新的產業熱點。電子科學與工程學院光子學與光通信研究室順應這一趨勢，潛心攻關，埋頭研究，歷時四年完成了InP多量子阱PLC單元器件理論與實驗研究。在國內首次建立了PLC光路設計和光學特性測試平臺，探索出國產化工藝加工途徑，取得多項自主知識產權，成功地研制出InP基多量子阱PLC無源光子器件。包括光調制器/開關、可調式多模干涉耦合器、諧振腔濾波器、2×4分路器等，于2007年2月通過了教育部組織并主持的科技成果鑒定，達到國際先進水平。

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）； 極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。