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產(chǎn)品詳細(xì)介紹 HWXG-II型全自動502手印熏顯柜價(jià)格：5000.00功能介紹：該產(chǎn)品用于502膠氣體熏顯法顯現(xiàn)非滲透性客體上的潛在汗液指印，它可以準(zhǔn)確控制柜內(nèi)濕度和502膠氣體濃度，為502膠氣體在手印紋線上聚合創(chuàng)造良好條件。產(chǎn)品特點(diǎn)：1 、可使用儀器內(nèi)預(yù)裝的“固有自動程序”控制手印熏顯過程。2 、可自己設(shè)定“自編自動程序”控制手印熏顯過程。3 、可手動控制各單項(xiàng)功能。 4 、內(nèi)設(shè)濕度傳感器自動控制柜內(nèi)的濕度。 5 、熏顯完成后， 502 殘氣通過排氣管自動排出。性能指標(biāo)： 電    源：交流220V   50HZ            功    率：100W外形尺寸：655 x 430 x 325mm3         熏顯空間：530 x 380 x 300mm3重    量：15kg

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問題是光產(chǎn)酸在后烘階段會發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。  利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：  在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經(jīng)過多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場的70%以上，而我國在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競爭的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國發(fā)明專利，專利號：9。

目前半導(dǎo)體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學(xué)增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團(tuán)的成膜材料和光產(chǎn)酸劑組成，這種體系最大的問題是光產(chǎn)酸在后烘階段會發(fā)生酸遷移，導(dǎo)致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產(chǎn)酸劑，且其光產(chǎn)酸是高分子強(qiáng)酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產(chǎn)生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產(chǎn)酸劑與其它成膜材料一起組成化學(xué)增幅型光致抗蝕劑。 以之為產(chǎn)酸劑與其它部分保護(hù)的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護(hù)部分酚羥基，由其組成了單組分的化學(xué)增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現(xiàn)。   利用高分子產(chǎn)酸劑透明性好的特點(diǎn)，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達(dá)5：1的光刻圖形：   在此基礎(chǔ)上，還制備了負(fù)型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現(xiàn)。這些高分子光產(chǎn)酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應(yīng)條件溫和可控，去金屬雜質(zhì)的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經(jīng)過多年的深入研究之后，完全具備了產(chǎn)業(yè)化的條件。 半導(dǎo)體加工的關(guān)鍵設(shè)備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業(yè)的平穩(wěn)發(fā)展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關(guān)鍵材料，日本公司的產(chǎn)品占據(jù)全球市場的70%以上，而我國在中高端產(chǎn)品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進(jìn)口，即便是低端的i-線光刻膠國產(chǎn)化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉(zhuǎn)這種不利的局面，這需要科研工作者和產(chǎn)業(yè)界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關(guān)注，已有多家企業(yè)開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，但絕大部分仍處于研發(fā)階段。我們研制的光刻膠具備了產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件并具有與國外先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品競爭的產(chǎn)品性能。    半導(dǎo)體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項(xiàng)開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結(jié)果，也在致力于這些光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。 相關(guān)項(xiàng)目、專利及文章： 1.國家重大科技專項(xiàng)（02專項(xiàng)）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產(chǎn)酸劑及新型成膜樹脂的擴(kuò)試技術(shù)研究） 2.國家自然科學(xué)基金應(yīng)急管理項(xiàng)目，51641301, 含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學(xué)增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產(chǎn)酸基團(tuán)的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應(yīng)用，中國發(fā)明專利，專利號：9。

本發(fā)明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統(tǒng)，通過其獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，以用于浸沒式光刻工藝中，其特征在于，該溫控系統(tǒng)包括：用于浸液流動的浸液管路，待溫控的浸液通過管路進(jìn)口進(jìn)入該浸液管路，溫控后的浸液通過該浸液管路出口輸出；用于對所述浸液進(jìn)行冷卻的工藝?yán)鋮s液回路，工藝?yán)鋮s液在該回路中循環(huán)流動；以及熱交換器（6），所述浸液管路和工藝?yán)鋮s液回路同時(shí)流經(jīng)該熱交換（6），利用該熱交換器（6）完成工藝?yán)鋮s液和浸液的熱交換，獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，實(shí)現(xiàn)對浸液的溫度控制。本發(fā)明的裝置采用內(nèi)部回流結(jié)構(gòu)與熱交換器

本發(fā)明公開了一種光刻機(jī)自動調(diào)焦方法及裝置，其方法是將平行光束經(jīng)第一狹縫投射至硅片表面，再經(jīng)振動反射鏡掃描后通過第二狹縫，由光電探測器接收光強(qiáng)信號，然后通過提取光強(qiáng)信號中二倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的粗調(diào)量，通過提取光強(qiáng)信號中一倍于掃描頻率的頻域成分得到硅片的精調(diào)量，最后由驅(qū)動裝置調(diào)整硅片至焦點(diǎn)位置。調(diào)焦裝置主要由兩個(gè)狹縫、一個(gè)振動反射鏡、光電傳感器、驅(qū)動臺和若干光學(xué)鏡片組成，信號處理過程由計(jì)算機(jī)編程完成。該方法與裝置相較于以往對比光斑強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)焦的方式，具有結(jié)構(gòu)簡單、響應(yīng)迅速、精度高(優(yōu)于 0.

廈門印天電子科技有限公司是一家專業(yè)從事研發(fā)、生產(chǎn)交互式設(shè)備和智慧校園技術(shù)及產(chǎn)品的提供商。公司擁有一支實(shí)力雄厚、銳意創(chuàng)新的硬件、軟件及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)研發(fā)團(tuán)隊(duì)，秉承“易用”的產(chǎn)品設(shè)計(jì)理念，融入最新人機(jī)交互技術(shù)，為各類型客戶提供多元化綜合解決方案。 在觸摸領(lǐng)域，印天科技自主研發(fā)并形成了包括電容、紅外、光學(xué)、電磁等多點(diǎn)觸摸技術(shù)在內(nèi)的核心技術(shù)體系，開發(fā)出極具市場競爭力的9大系列、60多種型號的交互式電子白板、交互智能平板產(chǎn)品，以及配套的互動白板軟件、教學(xué)資源云平臺。 在物聯(lián)網(wǎng)領(lǐng)域，印天科技推出Insyte（印斯特）智慧校園物聯(lián)網(wǎng)，包括智慧校園物聯(lián)網(wǎng)綜合管理平臺、多媒體網(wǎng)絡(luò)中央智能控制系統(tǒng) 、智能電源管理系統(tǒng)、智能錄播系統(tǒng)、智能護(hù)眼照明解決方案、智能路燈照明系統(tǒng)、新風(fēng)系統(tǒng)、環(huán)境感知控制系統(tǒng)、數(shù)字校園廣播系統(tǒng)、數(shù)字電子班牌系統(tǒng)等基于物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)，高效、安全、節(jié)能環(huán)保的智慧校園綜合解決方案。 印天科技榮獲“軟件企業(yè)”、“高新技術(shù)企業(yè)”等諸多榮譽(yù)，擁有多項(xiàng)自主知識產(chǎn)權(quán)、國家發(fā)明專利、實(shí)用新型專利、外觀設(shè)計(jì)專利等；全面通過了ISO9001、ISO14001、ISO18001認(rèn)證，嚴(yán)格依據(jù)質(zhì)量管理體系進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化管理，保證了產(chǎn)品的卓越品質(zhì)。 規(guī)模化的生產(chǎn)能力是印天品牌的強(qiáng)大后盾，坐落于廈門集美的印天工業(yè)園，廠房面積達(dá)32000平方米，年生產(chǎn)能力可達(dá)30萬套，是國內(nèi)生產(chǎn)規(guī)模最大，綜合生產(chǎn)能力最強(qiáng)的交互式設(shè)備生產(chǎn)基地之一。 作為專業(yè)的交互設(shè)備制造商和技術(shù)方案提供商，印天憑借卓越的科研技術(shù)、優(yōu)秀的產(chǎn)品品質(zhì)、專業(yè)的培訓(xùn)指導(dǎo)、完善的售后體系，持續(xù)不斷地根據(jù)用戶體驗(yàn)改進(jìn)產(chǎn)品和服務(wù)，贏得了客戶的高度贊譽(yù)。 經(jīng)過多年的發(fā)展，如今的印天科技正朝著專業(yè)化、現(xiàn)代化、國際化的目標(biāo)不斷前進(jìn)。    

本發(fā)明公開了一種用于電流體噴印的同軸噴嘴，包括外噴嘴和 內(nèi)噴嘴，外噴嘴底部設(shè)有軸孔，軸孔套接有連接座，連接座上設(shè)有軸 向臺階孔，臺階孔內(nèi)套接內(nèi)噴嘴底座，外噴嘴靠近噴口的一側(cè)的內(nèi)筒還套接有對中支架，內(nèi)噴針的一端固定在內(nèi)噴嘴底座上，另一端穿過 對中支架的定位通孔固定，連接座的外壁上還套接有壓電陶瓷驅(qū)動器， 壓電陶瓷驅(qū)動器與外噴筒固定連接。本發(fā)明提供的電流體噴印的同軸 噴嘴，內(nèi)外噴嘴的相對高度可通過壓電陶瓷驅(qū)動裝置精密調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn) 內(nèi)外層不同溶液的相對流量的精密控制，以及對同軸紡絲的各層殼結(jié) 構(gòu)厚度的更精確控制，并通過對中支架的設(shè)置提高內(nèi)外噴嘴的同軸對 中精度。

本發(fā)明公開了一種用于電流體噴印的同軸噴嘴，包括外噴嘴和內(nèi)噴嘴，外噴嘴底部設(shè)有軸孔，軸孔套接有連接座，連接座上設(shè)有軸向臺階孔，臺階孔內(nèi)套接內(nèi)噴嘴底座，外噴嘴靠近噴口的一側(cè)的內(nèi)筒還套接有對中支架，內(nèi)噴針的一端固定在內(nèi)噴嘴底座上，另一端穿過對中支架的定位通孔固定，連接座的外壁上還套接有壓電陶瓷驅(qū)動器，壓電陶瓷驅(qū)動器與外噴筒固定連接。本發(fā)明提供的電流體噴印的同軸噴嘴，內(nèi)外噴嘴的相對高度可通過壓電陶瓷驅(qū)動裝置精密調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)內(nèi)外層不同溶液的相對流量的精密控制，以及對同軸紡絲的各層“殼”結(jié)構(gòu)厚度的更精確控制，并通

本發(fā)明公開了一種用于投影式光刻機(jī)成像系統(tǒng)的波像差檢測方法，包括光刻機(jī)成像系統(tǒng)的快速正向模型建立，澤尼克系數(shù)靈敏度矩陣的解析求解，檢測用掩模圖形優(yōu)化求解，基于單次光強(qiáng)測量的波像差求解。本發(fā)明方法通過解析求解無像差時(shí)的空間像光強(qiáng)值和澤尼克系數(shù)靈敏度矩陣，實(shí)現(xiàn)了基于單次離焦空間像光強(qiáng)測量的波像差檢測。