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本發(fā)明公開(kāi)了一種隨動(dòng)下落式鋪粉裝置，用于粉末材料快速成 形中鋪設(shè)粉末，屬于粉末材料快速成形領(lǐng)域，其包括工作臺(tái)、直線導(dǎo) 軌和導(dǎo)軌上的滑塊，工作臺(tái)開(kāi)有鋪粉口，滑塊用于支撐位于其上的且 具有通口的支撐板；兩個(gè)刮刀調(diào)整塊相對(duì)固定在支撐板通口兩側(cè)以使 其上的坡形內(nèi)壁相對(duì)而形成漏斗形通口；刮刀為具有坡形內(nèi)壁和刀刃 的塊狀，兩個(gè)刮刀分別相對(duì)的可拆卸安裝在刮刀調(diào)整塊底部，使刮刀 的坡形內(nèi)壁相對(duì)形成刮刀通口，同時(shí)使刀刃相對(duì)形成出粉口，

本發(fā)明公開(kāi)了一種溴鉛銫粉體制備方法,具體包括如下步驟：(1) 獲取反應(yīng)物溴化鉛的起始溶液：(2)獲取反應(yīng)物溴化銫的起始溶液：(3) 將溴化鉛的起始溶液與溴化銫的起始溶液同時(shí)滴加到反應(yīng)底液中，滴 加的同時(shí)攪拌；通過(guò)化學(xué)共沉淀反應(yīng)獲取溴鉛銫沉淀物；(4)對(duì)溴鉛銫 沉淀物進(jìn)行洗滌和抽濾，以清除雜質(zhì)和雜相；(5)將步驟(4)中得到的產(chǎn) 物烘干，獲得溴鉛銫粉體；該制備方法通過(guò)控制原料的濃度及反應(yīng)原 料的化學(xué)計(jì)量比，有效提高主反

產(chǎn)品詳細(xì)介紹品牌：久濱型號(hào)：JB-250A名稱(chēng)：陶瓷乳缽式微粉研磨機(jī)一、產(chǎn)品概述：　　JB-250A型陶瓷乳缽式微粉研磨機(jī)，主要用于替代國(guó)內(nèi)生產(chǎn)中手工研磨或高等院校的物料研磨實(shí)驗(yàn)，可廣泛用于化工、電子、制藥、冶金等行業(yè)的超硬顆粒或微粉研磨，粉末細(xì)度可達(dá)納米級(jí)，是一款高效節(jié)省人工的自動(dòng)化研磨設(shè)備。二、技術(shù)參數(shù)：1、乳缽口徑：250mm2、最大研磨量：300g/次3、研棒轉(zhuǎn)速：120rpm4、研缽轉(zhuǎn)速：10rpm5、研棒功率：60w6、研缽功率：40w7、研缽材質(zhì)：高鋁陶瓷8、研棒棒頭材質(zhì)：高鋁陶瓷9、運(yùn)行時(shí)間控制：自動(dòng)設(shè)定10、長(zhǎng)X寬X高：500*500*920mm11、重量：35kg12、電壓：220V  50/60HZ三、適用條件：1、研磨顆粒要求：顆粒硬度沒(méi)有限制，顆粒大小≤0.5mm；2、研磨方式：可干磨也可濕磨；

本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬化膜固定裝置及金屬化膜通流特性測(cè)試 方法。該裝置包括第一固定板、第二固定板、多個(gè)連接拉桿、第一活 動(dòng)拉桿、第二活動(dòng)拉桿、兩個(gè)彈簧、兩個(gè)固定螺母、兩個(gè)托桿和兩個(gè) 條狀金屬電極。長(zhǎng)條狀的金屬化膜試品能很簡(jiǎn)單方便地固定于該裝置 上，且利用彈簧使條狀金屬化膜樣品處于繃緊狀態(tài)，通過(guò)保證每次試 驗(yàn)中彈簧彈力的一致性，確保多次重復(fù)試驗(yàn)中金屬化膜樣品狀況的一 致性；通過(guò)條狀金屬電極與托桿對(duì)金屬化膜進(jìn)行固定和電氣連接，可 保證金屬化膜金屬層與條狀金屬電極接觸的穩(wěn)定性和可靠性；條狀金 屬化膜試品位于

項(xiàng)目成果/簡(jiǎn)介:水成膜膠體泡沫是將聚合物分散在水中，加入發(fā)泡劑并在氮?dú)獾淖饔孟掳l(fā)泡形成的復(fù)雜混合體系。經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后，在泡沫液膜內(nèi)，聚合物間相互交聯(lián)形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，構(gòu)成水成膜膠體泡沫的剛性骨架。防滅火水成膜膠體泡沫既具有凝膠的性質(zhì)，又具有泡沫的性質(zhì)，兼有注三相泡沫（注泥漿、注氮?dú)狻⒆上嗯菽⒆⒛z、注復(fù)合膠體的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)又克服了各自的不足，從而大大提高其防滅火效果。

納米金剛石的金剛石晶粒尺寸在100nm以下, 表面極其光滑平整, 摩擦系數(shù)極低(可小于0.05), 因此是十分理想的工具(模具)涂層和光學(xué)涂層材料, 同時(shí)在MEMs (微機(jī)電系統(tǒng))和高性能大屏幕(場(chǎng)發(fā)射)顯示技術(shù)等領(lǐng)域也有非常好的應(yīng)用前景。 本項(xiàng)目組采用微波等離子體CVD和 DC Arc Plasma Jet CVD兩種工藝方法, 在玻璃, 硅, 鉬和硬質(zhì)合金等襯底材料上成功制備了納米金剛石膜。 在玻璃襯底上制備的納米金剛石膜晶粒平均尺寸小于100 nm, 表面粗糙度小于Ra 5nm, 采用納米力學(xué)探針測(cè)量的顯微硬度高達(dá)8000kg/mm2, 在可見(jiàn)及近紅外區(qū)域具有非常好的透過(guò)特性, 紫外喇曼光譜(在新加坡國(guó)立南洋理工大學(xué)測(cè)試)顯示薄膜幾乎為純凈的金剛石納米晶粒組成。在其它襯底上的納米金剛石膜的組織結(jié)構(gòu)和性能測(cè)試正在進(jìn)行之中。 納米金剛石膜涂層硬質(zhì)合金工具: 其中最有前景的是納米金剛石膜涂層硬質(zhì)合金微型鉆頭; 納米金剛石膜涂層光學(xué)應(yīng)用: 包括諸如”永不磨損鉆石涂層玻璃表殼”和”永不磨損鉆石涂層玻璃眼鏡片”, 及ZnS, Ge, Si等重要紅外軍事光學(xué)材料的抗(雨滴、沙粒)沖刷涂層; 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMs)的微機(jī)械構(gòu)件: 如微型齒輪, 軸, 軸承等; 高性能大屏幕顯示器件

水成膜膠體泡沫是將聚合物分散在水中，加入發(fā)泡劑并在氮?dú)獾?作用下發(fā)泡形成的復(fù)雜混合體系。經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后，在泡沫液膜內(nèi)， 聚合物間相互交聯(lián)形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，構(gòu)成水成膜膠體泡沫的剛性骨架。防滅火水成膜膠體泡沫既具有凝膠的性質(zhì)，又具有泡沫的性質(zhì)， 兼有注三相泡沫（注泥漿、注氮?dú)狻⒆上嗯菽⒆⒛z、注復(fù)合 膠體的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)又克服了各自的不足，從而大大提高其防滅火效果。

本發(fā)明涉及以天然成分為原料，開(kāi)發(fā)一種能夠抑菌防腐和延長(zhǎng) 肉類(lèi)產(chǎn)品保鮮期，具有一定粘稠度，可與肉類(lèi)產(chǎn)品表面結(jié)合為一體的多功能液 態(tài)可食保鮮膜，噴涂于食品表面，對(duì)環(huán)境常在菌具有顯著的抑制作用，無(wú)毒無(wú) 害，且兼有保健和防偽（隱形標(biāo)簽）作用，已獲得國(guó)家發(fā)明專(zhuān)利。 技術(shù)優(yōu)點(diǎn)或者效益預(yù)測(cè):肉雞屠宰后按部位進(jìn)行分割，噴涂（或浸蘸）保鮮 膜液后裝入食品袋后密封，室溫冷卻編號(hào)，置于微溫(30~~40℃)和常溫 (20~~25℃)2 種條件下貯藏的保質(zhì)期可分別達(dá)到 3、7d。同時(shí)可標(biāo)識(shí)產(chǎn)品生產(chǎn)廠 家。有效防止肉類(lèi)產(chǎn)品加工過(guò)程二次污染，從而延長(zhǎng)保鮮期，同時(shí)兼有產(chǎn)品防 偽標(biāo)識(shí)作用。應(yīng)用前景十分廣闊。 

該成果是原有的鋁反射激光全息防偽末的升級(jí)替換品。這種薄膜結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，僅有信 息層和基底層兩層組成。全息圖像以激光全息技術(shù)拍攝并用激光雕刻和電鑄手段，以光 柵條紋的形式復(fù)制到鎳質(zhì)金屬模版上。以金屬模版熱壓氣凝膠或有機(jī)高聚物聚氨酯涂層， 形成承載全息圖像的信息層，可在薄膜上再現(xiàn)全息圖像。

紫外探測(cè)技術(shù)是繼激光探測(cè)技術(shù)和紅外探測(cè)技術(shù)之后發(fā)展起來(lái)的又一軍民兩用光電探測(cè)技術(shù)。幾十年來(lái)，紫外探測(cè)技術(shù)已經(jīng)逐漸應(yīng)用于光譜分析、軍事、空間天文、環(huán)境監(jiān)測(cè)、工業(yè)生產(chǎn)、醫(yī)用生物學(xué)等諸多領(lǐng)域，對(duì)現(xiàn)代科研、國(guó)防和人民生活都產(chǎn)生了深遠(yuǎn)的影響。特別是在先進(jìn)光譜儀器方面，國(guó)內(nèi)急迫需要響應(yīng)波段拓展到紫外的硅基成像器件。先進(jìn)光譜儀器是集光、機(jī)、電和計(jì)算機(jī)于一體，技術(shù)密集的高科技產(chǎn)品。它是現(xiàn)代科技必不可少的精密檢測(cè)和分析手段，是現(xiàn)代天文學(xué)、航空航天、分子生物學(xué)、現(xiàn)代醫(yī)學(xué)、環(huán)境和生態(tài)等新科技建立和發(fā)展的基礎(chǔ)。國(guó)家對(duì)發(fā)展先進(jìn)光譜儀器和研制光譜儀器用的探測(cè)器件非常重視，“十一五”國(guó)家科技支撐計(jì)劃專(zhuān)門(mén)設(shè)立了科學(xué)儀器設(shè)備研制與開(kāi)發(fā)專(zhuān)項(xiàng)“先進(jìn)大型光譜儀器的關(guān)鍵部件——高分辨分光器件和探測(cè)器件的研制”，技術(shù)人有幸成為承擔(dān)該課題的主要研究人員，負(fù)責(zé)高分辨探測(cè)器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最廣泛應(yīng)用的光電探測(cè)器，而且先進(jìn)的光譜儀器都采用了CCD或CMOS作為探測(cè)器件，這是因?yàn)镃CD和CMOS具有靈敏度高、低噪聲等優(yōu)點(diǎn)。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段響應(yīng)很弱，這種很弱的紫外響應(yīng)限制了硅基成像器件在先進(jìn)光譜儀器及其他紫外波段探測(cè)方面的使用。 因此，本技術(shù)的研究成果硅基成像器件的紫外響應(yīng)增強(qiáng)薄膜是經(jīng)濟(jì)建設(shè)和社會(huì)發(fā)展迫切需要。 增強(qiáng)硅基成像器件的紫外響應(yīng)，目前有兩種方法：一是改變硅基探測(cè)器的結(jié)構(gòu)，如背照式CCD；另外一種是在現(xiàn)有的成像器件光敏窗口加鍍一層下變頻膜，把紫外光先轉(zhuǎn)化為可見(jiàn)光，然后再接收。國(guó)外自1980年起就開(kāi)始增強(qiáng)硅基探測(cè)器紫外響應(yīng)的下變頻薄膜研究，按使用材料的屬性，可以把變頻膜分為有機(jī)變頻膜和無(wú)機(jī)變頻膜兩種。有機(jī)變頻膜技術(shù)相對(duì)成熟，也有相關(guān)的專(zhuān)利出現(xiàn)。哈勃太空望遠(yuǎn)鏡CCD、星球相機(jī)（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的響應(yīng)波段延伸到紫外的CCD都是鍍的有機(jī)變頻膜。目前紫外增強(qiáng)有機(jī)變頻膜可使普通CCD的響應(yīng)波段延伸到200nm，Roper Scientific公司開(kāi)發(fā)的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下變頻效果。有機(jī)變頻膜技術(shù)盡管成熟，但該類(lèi)薄膜有著致命的缺點(diǎn)，那就是有機(jī)物分子在紫外輻射下降解速度很快。在照明度為1μW/cm2的光照下，有機(jī)分子以高達(dá)每小時(shí)3%的速率成指數(shù)降解。在這一方面，而無(wú)機(jī)變頻膜具有不可比擬的優(yōu)點(diǎn)。無(wú)機(jī)變頻膜材料可以在它使用期限的前2%時(shí)間里，減少90%的降解量，因此，無(wú)機(jī)變頻膜具有非常優(yōu)越的穩(wěn)定性。在無(wú)機(jī)變頻膜方面，國(guó)外研究也剛起步，最早的報(bào)道見(jiàn)于2003年[1]，目前尚無(wú)成熟的增強(qiáng)硅基成像器件的紫外無(wú)機(jī)變頻膜技術(shù)。國(guó)內(nèi)在有機(jī)和無(wú)機(jī)變頻膜方面，都沒(méi)有已見(jiàn)報(bào)道的研究工作。  為了提高探測(cè)器對(duì)紫外輻射的敏感性，我們采取了在硅基成像器件光敏窗口上鍍變頻膜的辦法，成功地使CCD及CMOS的響應(yīng)波段拓展到150nm。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用在光譜分析、軍事、空間天文、環(huán)境監(jiān)測(cè)、工業(yè)生產(chǎn)、醫(yī)用生物學(xué)等諸多領(lǐng)域，對(duì)推動(dòng)國(guó)家的科研和產(chǎn)業(yè)在這些領(lǐng)域的發(fā)展有極大幫助。