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本發(fā)明公開了一種激光打印機(jī)高質(zhì)量文字輸出的二位半色調(diào)方法，以用戶輸入的待打印文件作為輸 出源文件，與調(diào)幅閾值矩陣做第一次對(duì)比，生成只有兩種曝光狀態(tài)的半色調(diào)文件。第二次對(duì)比前先取特 征邊緣點(diǎn)，然后待打印文件相應(yīng)位置的灰度值與灰度等級(jí)的中值做第二次對(duì)比，生成四種曝光狀態(tài)的半 色調(diào)文件。最后根據(jù)半色調(diào)文件控制半曝光激光打印機(jī)進(jìn)行輸出。本發(fā)明有效地改善在輸出時(shí)文字邊緣 的顯示效果，二位半色調(diào)方法調(diào)整效果顯著。 

本團(tuán)隊(duì)采用新型結(jié)構(gòu)導(dǎo)向技術(shù)來實(shí)現(xiàn)亞微米和納米二氧化硅中空微球的溶膠凝膠法和沉淀法高濃度制備，能夠滿足大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的需要，并能對(duì)其納米殼層結(jié)構(gòu)進(jìn)行精準(zhǔn)調(diào)控，為相關(guān)功能材料的性能設(shè)計(jì)提供合成技術(shù)基礎(chǔ)?，F(xiàn)有二氧化硅中空微球制備技術(shù)的投資成本高、設(shè)備生產(chǎn)率低、控制難度大，無法在工業(yè)規(guī)模上對(duì)其特有的納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行精準(zhǔn)調(diào)控，嚴(yán)重限制了中空微球在高端產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用。本團(tuán)隊(duì)基于全新的中空結(jié)構(gòu)導(dǎo)向技術(shù)，在間歇反應(yīng)釜中通過溶膠凝膠法和沉淀法實(shí)現(xiàn)中空微球的高密度、大批量生產(chǎn)，具有設(shè)備生產(chǎn)率高、微球結(jié)構(gòu)規(guī)整、壁厚可控、容易復(fù)合改性等優(yōu)點(diǎn)，突破了中空微球規(guī)模化生產(chǎn)的技術(shù)瓶頸。通過改變導(dǎo)向劑分子結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)工藝微調(diào)，可在 50-400 納米范圍內(nèi)對(duì)中空微球的壁厚進(jìn)行精準(zhǔn)調(diào)控，使其對(duì)不同波長的光信號(hào)產(chǎn)生各種響應(yīng)，并能通過控制中空和多孔結(jié)構(gòu)調(diào)節(jié)比表面積、導(dǎo)熱系數(shù)、阻尼特征、機(jī)械強(qiáng)度等性能，滿足不同功能材料領(lǐng)域的要求。該技術(shù)還可以實(shí)現(xiàn)脂溶性物質(zhì)或納米顆粒與二氧化硅的復(fù)合，制備出具有功能多樣性的復(fù)合中空微球， 如將氧化錫銻（ATO）與二氧化硅中空微球復(fù)合，可制備兼具紫外光、可見光、近紅外反射和隔熱功能的復(fù)合中空微球保溫填料。 

獲廣元市第七屆教育科研優(yōu)秀成果《廣元市地震災(zāi)區(qū)教師信息技術(shù)能力現(xiàn)狀調(diào)查與分析》二等獎(jiǎng)。

我校郭光燦院士團(tuán)隊(duì)在二維范德瓦爾斯材料固態(tài)自旋色心領(lǐng)域取得重要進(jìn)展。該團(tuán)隊(duì)李傳鋒、唐建順研究組與匈牙利魏格納物理研究中心AdamGali教授等人合作，實(shí)驗(yàn)研究并理論解釋了六方氮化硼（hexagonalboronnitride，hBN）中帶負(fù)電硼空位（VB-）色心受磁場(chǎng)調(diào)制的自旋相干動(dòng)力學(xué)行為，揭示了hBN中VB-色心電子自旋與核自旋之間的相干耦合和弛豫機(jī)制，對(duì)發(fā)展基于二維范德瓦爾斯材料的相干自旋系統(tǒng)及低維量子器件具有重要意義。

本發(fā)明公開了一種提高二氧化鈦光激發(fā)氣敏性能的方法及裝置， 該方法是在光氣敏傳感器工作過程中，通過對(duì)材料薄膜進(jìn)行加熱調(diào)控 （50℃-70℃），使氣敏材料表面物理吸附水減少，從而對(duì)環(huán)境濕度不 敏感；其次，表面保留的化學(xué)吸附水在紫外光照下產(chǎn)生的自由羥基， 以及由低溫加熱下產(chǎn)生少量熱激發(fā)誘導(dǎo)的光、熱聯(lián)合激發(fā)的協(xié)同效應(yīng)， 可大幅度提高其響應(yīng)恢復(fù)速度。裝置包括材料基片、光激發(fā)源、光激 發(fā)控制模塊、溫度控制模塊、信號(hào)調(diào)理模塊、計(jì)算

（專利號(hào)：ZL 201410557617.3） 簡(jiǎn)介：本發(fā)明公開了一種帶有硫化鋁(Al2S3)外殼的二硫化鉬(MoS2)納米粉末材料及其制備方法，屬于納米材料制備技術(shù)領(lǐng)域。該納米粉末材料為核殼結(jié)構(gòu)，內(nèi)核為MoS2納米顆粒，外殼為Al2S3層；所述MoS2內(nèi)核的粒徑為10～100nm，所述Al2S3外殼層為非晶Al2S3層，其厚度為1～10nm。本發(fā)明采用等離子電弧放電法，將鉬粉和鋁粉按一定原子百分比壓制成塊體作為陽極材料，采用石墨作為陰極

本發(fā)明公開了一種可實(shí)現(xiàn)純紫外發(fā)光的ＺｎＯ基異質(zhì)結(jié)發(fā)光二極管的制備方法，包括如下步驟：在藍(lán)寶石襯底上生長ｎ?ＺｎＯ納米線；采用磁控濺射法在ｐ?ＧａＮ上濺射一層ＡｌＮ薄膜；采用濺射法或者電子束蒸鍍分別在ｎ?ＺｎＯ和ｐ型ＧａＮ一端制備具有歐姆接觸的金屬電極；將ＡｌＮ薄膜／ｐ?ＧａＮ緊扣在ｎ?ＺｎＯ納米棒陣列上面形成異質(zhì)結(jié)，構(gòu)成完整的器件。本發(fā)明在藍(lán)寶石上直接生長ＺｎＯ納米棒陣列，提高ＺｎＯ結(jié)晶度，提高電學(xué)性能，有效消除晶體質(zhì)量差的問題；引入ＡｌＮ隔離層，有效較少了結(jié)區(qū)的剩余電子，增加ＺｎＯ區(qū)載流子復(fù)合效率，實(shí)現(xiàn)純ＺｎＯ紫外發(fā)光；ｎ?ＺｎＯ納米棒陣列／ＡｌＮ／ｐ?ＧａＮ異質(zhì)結(jié)發(fā)光二極管，發(fā)光位置在３８５ｎｍ左右，半峰寬為１４．５ｎｍ。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹產(chǎn)品介紹：1、脈沖流量計(jì)、電磁閥、刷卡收費(fèi)控制器分體式設(shè)計(jì)，可靈活安裝；2、安裝方便簡(jiǎn)單，適合浴室、澡堂、公寓等高濕度及各種惡劣環(huán)境使用；3、可以設(shè)定一張卡的用水量，超過額度拒絕用水；4、在冷水和熱水環(huán)境下均可使用；5、1.77寸彩屏顯示，可直觀顯示用戶姓名、卡號(hào)、余額、消費(fèi)情況等信息；6、脫機(jī)工作可通過管理卡進(jìn)行費(fèi)率、參數(shù)等設(shè)置；7、自動(dòng)識(shí)別持卡人的合法性，根據(jù)卡內(nèi)賬戶信息決定是否允許消費(fèi)；8、可控制電磁閥及電動(dòng)閥；9、控水器為12v電壓，保證使用者安全；10、IC卡可以擴(kuò)展為一卡通，兼容考勤、門禁、消費(fèi)、停車場(chǎng)等系統(tǒng)；11、可擴(kuò)展補(bǔ)補(bǔ)貼功能，可對(duì)用戶進(jìn)行補(bǔ)貼。產(chǎn)品參數(shù)：外形尺寸：110mm*145mm*45mm卡片類型：M1卡計(jì)費(fèi)方式：計(jì)時(shí)、計(jì)量、計(jì)次屏幕顯示：1.77寸彩屏顯示系統(tǒng)發(fā)卡數(shù)量：可達(dá)100萬  工作頻率：13.56MHz卡操作距離：0-50mm卡讀寫速度：<0.3s機(jī)器顏色：白色通訊方式：脫機(jī)、RS485、TCP/IP、無線433、WIFI、4G供電電壓：DC12V 1A記錄存儲(chǔ)容量：最大可存儲(chǔ)6萬條斷電數(shù)據(jù)保存時(shí)間：>10年存儲(chǔ)掛失卡數(shù)目：>100萬張                工作環(huán)境: －10℃ ～ ＋100℃

本發(fā)明公開了一種基于數(shù)字化投影技術(shù)構(gòu)建聚合物三維結(jié)構(gòu)的方法，包括如下步驟：步驟(1)：將包含單體和光引發(fā)劑的光敏樹脂前驅(qū)液置于平面模腔內(nèi)；步驟(2)：使用DLP投影儀按預(yù)設(shè)二維圖案對(duì)光敏樹脂前驅(qū)液進(jìn)行多次局部投影、曝光固化；得到非均質(zhì)二維平面；步驟(3)：將固化得到的非均質(zhì)二維平面置于烘箱中加熱，獲得三維立體結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提出的方法簡(jiǎn)單、方便，對(duì)設(shè)備要求低，非常適用于制備聚合物精確三維結(jié)構(gòu)。

一種大尺度模擬污染物在含水層垂向遷移的模擬裝置，包括含水層模擬裝置、降雨裝置、水位調(diào)節(jié)裝置、真空泵和測(cè)壓表，根據(jù)野外地層的實(shí)際情況按照一定的比例縮放填裝土樣，通過設(shè)置污染物的投放裝置、土壤樣品填裝裝置、壓力檢測(cè)裝置、水樣檢測(cè)裝置等來對(duì)壓力場(chǎng)、水化學(xué)場(chǎng)、滲流場(chǎng)等參數(shù)進(jìn)行監(jiān)測(cè)，通過這些參數(shù)來觀察污染物在地下水含水層的垂向遷移規(guī)律。一種大尺度模擬污染物在含水層垂向遷移的模擬裝置，包括含水層模擬裝置、降雨裝置、水位調(diào)節(jié)裝置、真空泵和測(cè)壓表，含水層模擬裝置為帶有頂蓋的箱體并固定于底座上，箱體上部為矩形體，矩形體上部為蓄水層、下部為滲流層，底部為錐形體，錐形體為負(fù)壓層，滲流層和負(fù)壓層之間設(shè)有一塊包覆有300目紗網(wǎng)的多孔有機(jī)玻璃隔板，滲流層中按照野外地層順序填裝試驗(yàn)用土壤或砂石并埋有試驗(yàn)用層狀透水陶瓷或球狀透水陶瓷，箱體滲流層側(cè)壁上設(shè)有81個(gè)取樣孔并通過設(shè)置有于側(cè)壁上的81個(gè)直通銅管固定，其中縱向設(shè)有間距相同的九列取樣孔，每列橫向設(shè)有間距相同的九個(gè)取樣孔，每個(gè)取樣孔直通銅管的外端連接有銅質(zhì)寶塔和硅膠管，直通銅管的外端與銅質(zhì)寶塔之間設(shè)有200目致密紗網(wǎng)并利用硅膠墊片密封，箱體蓄水層側(cè)壁設(shè)有進(jìn)水口、出水