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一種極紫外光照射下的光學表面污染與清潔模擬裝置
2021-04-14 00:00:00
云上高博會
http://www.gxf2npi.xyz
關鍵詞：
光學表面污染
所屬領域:
項目成果/簡介:
本發明公開了一種極紫外光照射下的光學表面污染與清潔模擬裝置，包括：氫原子發生器接口、電子槍、電子槍室、電子槍接口、曝光腔、冷卻毛細管、試樣臺、試樣臺接口、氣體引入設備、渦輪分子泵、前級泵、RGA、RGA 接口、插板閥、放氣閥、電阻規以及隔斷閥，氫原子發生器接口、電子槍接口、試樣臺接口以及 RGA 接口均為開啟，且固接在曝光腔上，電子槍接口與試樣臺接口對稱設置在曝光腔的兩側，使得電子槍與試樣臺處于一條水平線上，氫原子發生器接口設置于腔體上方，且與電子槍接口的軸線垂直，RGA 接口設置于實驗裝置的側方。
項目階段:
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