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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PCVD）技術(shù)
2021-01-12 00:00:00
云上高博會(huì)
http://www.gxf2npi.xyz
關(guān)鍵詞：
PCVD技術(shù)
所屬領(lǐng)域:
項(xiàng)目成果/簡(jiǎn)介:
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PCVD）技術(shù)是在一定溫度和氣壓的真空爐內(nèi)通入工作氣體，產(chǎn)生輝光放電，激活沉積反應(yīng)，從而在基材表面形成耐磨損、抗氧化的陶瓷涂層。本項(xiàng)目為PCVD工業(yè)生產(chǎn)型設(shè)備及模具強(qiáng)化成套技術(shù)，1999年1月通過(guò)了國(guó)家教育部組織的技術(shù)鑒定，認(rèn)為該項(xiàng)目在設(shè)備總體結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計(jì)、逆變式脈沖直流等離子體技術(shù)、脈沖直流PCVD法制備高性能TiN陶瓷涂層和
項(xiàng)目階段:
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