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超衍射極限納米光刻機技術
2021-01-12 00:00:00
云上高博會
http://www.gxf2npi.xyz
關鍵詞：
納米光刻機
所屬領域:
項目成果/簡介:
研發階段
1、在該方向發表論文10余篇，Nature子刊，Science子刊各一篇。
2、申報和獲得該方向相關發明專利8項。其中1項授權轉讓給Facebook，Sony和中國一家企業。在華中科技大學申報5項發明專利，依托武漢舒博光電技術有限公司申報2項發明專利。
3、研發出2代超分辨納米光刻樣機。
4、配備光學裝備開發專門團隊，初步建成光學精密制造和檢測平臺。
項目階段:
小批量或小范圍應用
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