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14?納米CMOS?量產工藝中光源掩模協同優化技術

2021-01-12 00:00:00
云上高博會 http://www.gxf2npi.xyz
關鍵詞: CMOS
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所屬領域:
新一代信息技術
項目成果/簡介:

已有樣品/n微電子所先導中心韋亞一研究員團隊與中芯國際研究團隊圍繞14 納米CMOS 量

產工藝中光源掩模協同優化技術開展聯合攻關并取得顯著進展,完成了后段制程中

多層關鍵層的光源優化工作,包括Metal 1X、Metal 1.25X、Via 1X 等。優化后光

源通過晶圓數據驗證評估,較原有光源在各項關鍵指標上有顯著提升,保證了先進

節點中光刻工藝的穩定性。

項目階段:
產業化應用
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